石川 史太郎 (イシカワ フミタロウ)

量子集積エレクトロニクス研究センター教授
Last Updated :2025/06/07

■研究者基本情報

学位

  • 博士(工学), 北海道大学

Researchmap個人ページ

研究者番号

  • 60456994

研究キーワード

  • 分子線エピタキシー
  • 化合物半導体
  • ナノワイヤ
  • 結晶成長
  • ダイヤモンド

研究分野

  • ナノテク・材料, ナノ材料科学
  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学), 電気電子材料工学
  • ナノテク・材料, 結晶工学
  • ナノテク・材料, 応用物性

担当教育組織

■経歴

経歴

  • 2022年04月 - 現在
    北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 教授
  • 2018年05月 - 2022年03月
    愛媛大学, 地球深部ダイナミクス研究センター, 准教授 (兼任)
  • 2013年04月 - 2022年03月
    愛媛大学, 大学院・理工学研究科, 准教授
  • 2007年06月 - 2013年03月
    大阪大学 大学院工学研究科, 助教
  • 2004年04月 - 2007年05月
    Paul Drude Institute for Solid State Electronics, 研究員

学歴

  • 2001年04月 - 2004年03月, 北海道大学工学研究科博士後期課程
  • 1999年04月 - 2001年03月, 北海道大学工学研究科博士前期課程
  • 1995年04月 - 1999年03月, 北海道大学工学部, School of Engineering

■研究活動情報

論文

書籍等出版物

  • Microtexture and Polymorphism Observed During the Molecular Beam Epitaxial Growth of Group III–V Semiconductor Nanostructures
    Fumitaro Ishikawa, Kazuki Nagashima, Takeshi Yanagida, Robert D. Richards, Irina A. Buyanova, Chapter 7 in in Engineering Crystal Habit: Applications of Polymorphism and Microstexture Learning from Nature, edited by Fumitaro Ishikawa, Hiroaki Ohfuji, Jun Kawano
    Springer Singapore, 2025年02月, 9789819602650, 109-141, [共著]
  • Engineering Crystal Habit: Applications of Polymorphism and Microstexture Learning from Nature
    Fumitaro Ishikawa, Hiroaki Ohfuji, Jun Kawano, Tetsuya Tohei
    Springer Singapore, 2025年02月, 9789819602650, [共編者(共編著者)]
  • Strategic Molecular Beam Epitaxial Growth of GaAs/GaAsBi Heterostructures and Nanostructures               
    Pallavi Kisan Patil, Satoshi Shimomura, Fumitaro Ishikawa, Esperanza Luna, Masahiro Yoshimoto, Chapter 4. in Bismuth-Containing Alloys and Nanostructures, edited by Shumin Wang and Pengfei Lu
    Springer, 2019年07月, 9789811380778, 38, pp. 59-96, 英語, 学術書, [共著]
  • GaAs/AlGaOx Heterostructured Nanowires               
    Fumitaro Ishikawa, Naoki Yamamoto, Chapter 8 in Novel Compound Semiconductor Nanowires - Materials, Devices, and Applications, edited by Fumitaro Ishikawa and Irina A. Buyanova, pp. 255-290
    Pan Stanford Publishing, 2017年09月, [共著]
  • Dilute Bismide Nanowires               
    Wojciech M. Linhart, Szymon J. Zelewski, Fumitaro Ishikawa, Satoshi Shimomura, Robert Kudrawiec, Chapter 5 in Novel Compound Semiconductor Nanowires - Materials, Devices, and Applications, edited by Fumitaro Ishikawa and Irina A. Buyanova, pp. 161-176
    Pan Stanford Publishing, 2017年09月, [共著]
  • GaNAs-Based Nanowires for Near-Infrared Optoelectronics               
    Irina A. Buyanova, Fumitaro Ishikawa, Weimin M. Chen, Chapter 4 in Novel Compound Semiconductor Nanowires - Materials, Devices, and Applications, edited by Fumitaro Ishikawa and Irina A. Buyanova, pp. 133-160
    Pan Stanford Publishing, 2017年09月, [共著]
  • Novel Compound Semiconductor Nanowires - Materials, Devices, and Applications               
    Fumitaro Ishikawa, Irina A. Buyanova
    Pan Stanford Publishing, 2017年09月, 9789814745765, 548, 英語, 学術書, [編者(編著者)]

共同研究・競争的資金等の研究課題

  • 融合型電子材料ナノワイヤのマクロスケール機能開拓
    科学研究費助成事業
    2023年04月01日 - 2027年03月31日
    石川 史太郎, 村山 明宏, 長島 一樹
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 北海道大学, 23H00250
  • 半導体光電変換の究極
    科学研究費助成事業
    2024年06月28日 - 2026年03月31日
    石川 史太郎
    日本学術振興会, 挑戦的研究(萌芽), 北海道大学, 24K21601
  • 超高圧合成透明ナノセラミックス
    科学研究費助成事業
    2021年04月05日 - 2026年03月31日
    入舩 徹男, 河野 義生, 石川 史太郎, GREAUX Steeve, 井上 紗綾子
    グラッシーカーボンを出発物質としたナノ多結晶ダイヤモンドの合成を、比較的低圧条件下の9-15GPa領域で様々な温度で行い、純粋なナノ多結晶ダイヤモンドの合成可能温度下限の詳細を決定した。また、得られたいくつかの合成試料に対して収束イオンビームを用いた薄膜作製を行うとともに、透過型電子顕微鏡観察を行った。
    この結果9-12GPa領域では、2000℃付近の温度でグラッシーカーボンからのグラファイトの準安定的生成と成長が認められた。このグラファイトの生成によりグラッシーカーボンのダイヤモンド化が阻害され、より高温条件においてのみ、純粋なナノ多結晶ダイヤモンドが得られることが明らかになった。また、透過型電子顕微鏡による粒径観察の結果、このような比較的低圧下で得られるナノ多結晶ダイヤモンド中には、一部顕著な粒成長が認められ最大数ミクロンのダイヤモンド単結晶が混在していることがわかった。この結果は、比較的低圧の10GPa付近の圧力下でのグラッシーカーボンの直接変換により、純粋なマイクロ多結晶ダイヤモンドが得られる可能性を示唆しており、今後そのような試料の合成も試みる予定である。
    上記のグラッシーカーボンからのナノ多結晶ダイヤモンドの弾性測定には至らなかったが、超高圧合成法を用いて得られた多結晶体、特に含水鉱物の多結晶体に対して高圧下での弾性波速度が行われ、論文として発表された。またナノ多結晶ダイヤモンドを利用した高圧下におけるX線吸収実験においてもいくつかの研究成果があがっており、論文として発表されている。
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 愛媛大学, 21H04622
  • 光通信を革新する新希釈窒素・希釈ビスマス量子ナノ光源の開拓
    科学研究費助成事業
    2021年10月07日 - 2025年03月31日
    石川 史太郎, 富永 依里子, 樋浦 諭志
    本研究では、通信帯域光源として期待できる希釈窒素・希釈ビスマス量子ナノ構造の新展開を目指し、未開拓の成長条件、構造探求を行う。2022年度はより通信帯域で高品質な光源の探求のため、薄膜において通信光源として大きな期待が寄せられたGaInNAs混晶の高品質ナノワイヤ結晶作製に挑戦した。これまでGaInNAsナノワイヤは合成には成功したものの構造、光学特性の良好なものではなく、その高品質化が困難であった。今回、加工基板を用いた選択成長を用いることで成長可能条件のをより広範に探求した。その結果、選択成長を用いない場合と比較して成長時圧力、供給Ga照射量は3倍以上程度の広範囲で良好な結晶成長が進行することを見出した。最適化された条件下では構造、光学特性ともに高品質なGaInNAs結晶が得られ、コア-マルチシェル積層構造でGaAs/GaInNAs多重量子井戸構造を得ることができた。同試料は連携するリンショピン大学研究者らによってその良好な光学特性が確かめられた。さらに、同グループからは従来提供していたGaNAsナノワイヤで特徴的なフォトン・アップコンバージョンが得られる特異な光学特性も判明した。また、低温成長GaAsBi薄膜において、分担者と従来報告の無い固相成長現象を見出し、その成長機構の詳細を明らかにすることに取り組めた。以上より、国際連携の強化に資する成果が得られた。
    日本学術振興会, 国際共同研究加速基金(国際共同研究強化(B)), 愛媛大学, 21KK0068
  • 低温成長による点欠陥密度の制御に基づくBi系Ⅲ-Ⅴ族半導体の発現機能の最大活用
    科学研究費助成事業
    2021年04月01日 - 2024年03月31日
    富永 依里子, 上殿 明良, 石川 史太郎
    当該年度、研究代表者(富永)は分担者(石川)と協力し、250℃でGaAs基板上に成長した厚み200 nmの低温成長InGaAsBiを分子線エピタキシー(MBE)法によって複数得た。これら試料のX線回折法とラザフォード後方散乱法による結晶学的特性の解析の結果、250℃という低温であってもInGaAsBi薄膜が得られることが確認できた。一方で、前年度に取り組んだ低温成長GaAsBiのラングミュアの吸着等温式に基づくMBE成長条件におけるV/III比を基に低温成長InGaAsBiのV/III比を設定しても、Bi原子がGaAsBiの場合と比べてInGaAsBi結晶内に取り込まれにくい傾向を示した。これもまた、ラングミュアの吸着等温式によって説明することができ、成長最表面のIn原子の存在がBi表面被覆率を減少させるために、InGaAsBi結晶内のBi組成がGaAsBiと同一V/III比では減少すると考えられる。今後は、最終目標としているテラヘルツ波発生検出用光伝導アンテナに適した禁制帯幅を実現するInとBi両組成が得られるよう、低温成長InGaAsBiのMBE成長条件を更に最適化する必要があることが明らかになった。また、分担者(石川)は、GaAsBiナノワイヤについて陽電子消滅測定にも有用となる高密度・大容量成長の技術基盤を構築することができた。


    更に、分担者(上殿)は、昨年度代表者がMBE成長した厚さ2 μmの低温成長GaAsBiの空孔型点欠陥密度を陽電子消滅法を用いて測定した。Bi組成が3%未満の範囲では、Bi組成が試料ごとに異なる低温成長GaAsBiの空孔型点欠陥密度に現時点では大きな差がないことが明らかになった。
    日本学術振興会, 基盤研究(B), 広島大学, 21H01829
  • 半導体・酸化物複合ナノワイヤによる光・電子・スピン工学の融合
    科学研究費助成事業
    2019年04月01日 - 2023年03月31日
    石川 史太郎, 村山 明宏, 長島 一樹
    本研究では、「半導体・酸化物複合ナノワイヤ」の高品質合成とその応用で光・電子・スピンを操作した新しい学術・工学を開拓する。化合物半導体の高い電子・光物性と金属酸化物の多様で安定した機能が協働する高機能ナノ材料を提案し、これを用いたフォトニクス・エレクトロニクス・スピントロニクス融合型ナノテクノロジーの創出を目指す。初年度には、研究の基盤となるナノワイヤ試料合成技術の確立と高度化に取り組み、以下に挙げる成果を得ることができた。
    まず、高品質GaAs/AlGaOx/TiOヘテロ構造ナノワイヤ作製に取り組んだ。大きな進展が得られた成果としては、2インチのSi基 板上に大面積で市販p型GaAsと同程度以上の発光強度を有するナノワイヤ群の成長に成功した。さらに、自然酸化を用いることでプロセスダメージのない状態でアモルファスAlGaO最外殻層をGaAsナノワイヤに形成できること、同AlGaOが適切に内部GaAsの光閉じ込め効果を発揮し、発光強度増強効果を得るとともに、年単位 でその特性を維持する保護層として有効であることを見出した。また、形成されたGaAsナノワイヤ最外殻にTiOをスパッタリングすることで、正確に膜厚制御されたTiOをコーティングしたGaAs/TiOコア-シェル型ナノワイヤが合成できることを確認した。近赤外域で動作する高い熱安定性や発熱の抑制が期待される希釈窒化物・希釈ビスマスIII-V属半導体ナノワイヤの合成を発展させ、特徴的なGaAsBi量子構造ナノワイヤを得ることにも成功した。
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 愛媛大学, 19H00855
  • ナノワイヤ蛍光体による偏光白色LEDの開発               
    研究助成プログラム「新産業を生む科学技術」
    2020年04月 - 2023年03月
    石川史太郎
    キヤノン財団, 研究代表者
  • 実環境下の損傷敏感試料に微細領域の動態観測技術をもたらす半導体電子ビーム源
    科学研究費助成事業
    2019年04月01日 - 2022年03月31日
    西谷 智博, 目黒 多加志, 洗平 昌晃, 成田 哲博, 本田 善央, 石川 史太郎, 田渕 雅夫, 市川 修平, 保田 英洋, 七井 靖
    本研究では、電子顕微鏡などの電子ビーム源の技術革新を目指して、従来とは電子生成原理が異なる光電効果を半導体に用いたフォトカソード技術に着目し、その半導体の材料と構造の最適化により、これまでにない高性能かつ多彩な電子ビーム生成の達成を目標としてきた。本研究の結果、窒化ガリウムやガリウムヒ素などの半導体を用いたフォトカソードにより、ビーム内の電子の運動量のばらつきが従来技術よりも一桁低く、かつ従来技術では困難な極めて短いナノ秒の時間幅で高い電流値を持つパルス電子ビームの生成に成功した。
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 名古屋大学, 研究分担者, 競争的資金, 19H00666
  • 高温・高圧合成による次世代電子材料ダイヤモンドの創出               
    研究助成
    2020年04月 - 2021年03月
    石川史太郎
    池谷科学技術新興財団, 研究代表者
  • IoT社会を支える省エネルギー光通信用新規半導体レーザの開発               
    試験研究 (A)
    2020年04月 - 2021年03月
    富永依里子
    中国電力技術研究財団, 広島大学, 研究分担者
  • ビスマス系半導体半金属混晶の量子構造を活用した新規光学デバイスの開発               
    研究助成 (自然科学)
    2019年06月 - 2020年12月
    富永依里子
    村田学術振興財団, 広島大学, 研究分担者
  • ナノ多結晶半導体ダイヤモンド創出にむけた新規ドーピング技術の確立
    科学研究費助成事業
    2017年06月30日 - 2020年03月31日
    石川 史太郎
    出発物質グラファイトにPをイオン注入してダイヤモンドに直接変換を行った試料では、良好なナノ多結晶ダイヤモンドを合成することが出来た。市販のCVDダイヤモンドにPをイオン注入し、高温・高圧印加を行ったところ、イオン注入時に失われた試料表面の結晶性が回復、エピタキシャル成長が発現した。その際、他手法でも欠陥周辺で一般に観測されるピラミッド状構造(Pyramidal hillock)が本手法でも現れることが判明した。イオン注入と高温・高圧処理を適切にすることで、Pが支配的な不純物となるダイヤモンドを得た。同手法でSnのドーピングも試みたところ、Sn-V複合欠陥起源と思われる発光が得られた。
    日本学術振興会, 挑戦的研究(萌芽), 愛媛大学, 研究代表者, 競争的資金, 17K18883
  • 半導体・酸化物複合ナノワイヤ材料の確立と光触媒応用
    科学研究費助成事業
    2016年04月01日 - 2020年03月31日
    石川 史太郎
    本研究は、GaAs系化合物半導体の高い電子・光学特性と各種酸化物の多様で安定な特性を融合させた新ナノワイヤ材料を確立、その高機能化と光触媒など応用可能域の拡大を目的として研究を実施した。
    その結果、窒素・ビスマスの添加によるGaAs系ナノワイヤ機能を拡大することに成功した。また、簡易な自然酸化によるGaAs/AlGaOxヘテロ構造ナノワイヤの形成、結晶成長とスパッタリングの組み合わせによる高精度GaAs/TiOヘテロ構造ナノワイヤ作製に成功した。さらに、Si基板上に作製したセンチメートルサイズの基板上に形成したGaAsナノワイヤ配列が光アノードとして動作することを実証した。
    日本学術振興会, 若手研究(A), 愛媛大学, 研究代表者, 競争的資金, 16H05970
  • 高温・高圧合成によるキャリア制御型半導体ダイヤモンドの確立
    科学研究費助成事業
    2015年04月01日 - 2018年03月31日
    石川 史太郎, 松下 正史
    将来の電子材料応用を目指し、高温・高圧合成ナノ多結晶ダイヤモンドの導電性把握と不純物導入に取り組んだ。ナノ多結晶ダイヤモンドの導電性について調査した結果、約400℃以上の高温では半導体領域の導電性を示すことを見出した。また、発光特性についても調べた。出発物質となるグラファイトと共にInPを同時封入してナノ多結晶ダイヤモンドを合成したところ、結晶格子定数の変化が観測され、結晶内部には導入したInとPが観測された。化学気相堆積法で作製された単結晶ダイヤモンド表面にPをイオン注入して高温・高圧印加を行った結果、予期しないピラミッド状の微細構造が形成された。
    日本学術振興会, 挑戦的萌芽研究, 愛媛大学, 研究代表者, 競争的資金, 15K13957
  • 新エレクトロニクス材料としての化合物半導体/酸化物融合ナノワイヤ確立               
    研究助成
    2015年 - 2016年
    石川史太郎
    加藤科学振興会, 研究代表者, 競争的資金
  • 半導体・酸化物融合による新材料ナノワイヤエレクトロニクスの創出               
    研究助成
    2014年 - 2015年
    石川史太郎
    村田学術振興財団, 研究代表者, 競争的資金
  • 希釈窒化物半導体光源を用いた誘電体ロッド型フォトニック結晶レーザの創出
    科学研究費助成事業
    2011年04月01日 - 2014年03月31日
    石川 史太郎
    希釈窒化物半導体ナノ構造を用いた、新しい誘電体ロッド型フォトニック結晶レーザー実現の可能性について、分子線エピタキシー成長とフォトニック結晶展開を軸に検討した。
    GaAsNナノワイヤの成長では、コアーシェル型ナノワイヤの成長に成功した。さらに、窒素導入量の制御から、発光波長を950nmの赤外域まで長波長化できた。一方、伸張歪型のGaInNAsを活性層とし、試料表面にフォトニック結晶を配置させたレーザテスト試料を作製したところ、フォトニックバンド端で未加工時のおよそ10倍となる発光強度の増強を観測し、同材料のレーザー応用への有効性を示すことができた。
    日本学術振興会, 若手研究(A), 研究代表者, 競争的資金, 23686004
  • 希釈窒化物半導体GaAsNナノワイヤの結晶成長とフォトニック結晶展開               
    倉田奨励金
    2013年04月 - 2014年03月
    石川史太郎
    倉田記念日立科学技術財団, 研究代表者, 競争的資金
  • III-N-V半導体における原子緩和に関する研究
    科学研究費助成事業
    2008年 - 2012年
    近藤 正彦, 若原 昭浩, 江村 修一, 石川 史太郎
    GaInNAs に代表される III-N-V半導体は、半導体レーザ等の次世代半導体デバイスの基盤材料としての大きな可能性を内在している。熱処理(アニール)は III-N-V 化合物半導体の光学特性改善に欠かせない技術として定着しているが、未だにその結晶に与える影響については未解明な部分が多い。本研究では、放射光施設を利用して、X 線吸収微細構造(XAFS)測定及び硬 X 線光電子分光(HXPES)の測定を行い、アニールが引き起こす III-N-V 半導体中の原子緩和について研究をおこなった。
    日本学術振興会, 基盤研究(B), 大阪大学, 20360139
  • 極薄窒化層導入による新手法半導体バンドエンジニアリングの創製               
    研究助成
    2010年 - 2011年
    石川史太郎
    光科学技術研究振興財団, 研究代表者, 競争的資金
  • 再現性に優れるGaInNAs結晶技術の確立および長波長半導体レーザへの適用
    科学研究費助成事業
    2006年 - 2010年
    近藤 正彦, 藤原 康文, 森 伸也, 百瀬 英毅, 石川 史太郎, 森藤 正人
    本研究の目的は、半導体レーザへ向けた再現性に優れるGaInNAs結晶技術を確立することである。そのため、分子線エピタキシー装置に組み付け可能なフォトルミネッセンス評価装置を独自に開発して、GaInNAs結晶の高品質化に取り組んだ。高品質結晶の成長には未だ問題が多い。その中の一つとして、Alセルを装備したMBEでは意図しないAlの混入が発生し、その結果、結晶品質やそれに伴うレーザ特性の劣化が発生することが報告されている。本研究では、結晶劣化の原因を究明し、合わせて結晶性の劣化を回避する方法を見出した。
    日本学術振興会, 特定領域研究, 大阪大学, 18069008