2000年11月, 応用物理学会, 第61回秋期応用物理学会学術講演会『講演奨励賞』　　　　　　　　　　　　　　　
化合物半導体ナノショットキー界面の電気的特性とその制御
佐藤 威友

1997年12月, 電気関係学会北海道支部会, 平成9年度『若手講演者賞』　　　　　　　　　　　　　　　
In situ 電気化学プロセスを用いたショットキー障壁の形成
佐藤 威友

Reduction in Gap State Density near Valence Band Edge at Al2O3/p-type GaN Interface by Photoelectrochemical Etching and Subsequent SiO2 Cap Annealing
Yining Jiao, Takahide Nukariya, Umi Takatsu, Tetsuo Narita, Tetsu Kachi, Taketomo Sato, Masamichi Akazawa
Physica Status Solidi (B) Basic Research, 2024年
研究論文（学術雑誌）, The process-dependent properties of Al2O3/p-type GaN (p-GaN) interfaces formed by atomic layer deposition at 300 °C after photoelectrochemical (PEC) etching are reported. For investigating the gap states at the Al2O3/p-GaN interface, metal-oxide-semiconductor (MOS) diodes are fabricated and examined by sub-bandgap-light-assisted and temperature-dependent capacitance–voltage (C–V) measurements. PEC etching prior to Al2O3/p-GaN interface formation is conducted with the etching depth varied in the range between 12.5 and 32.1 nm. The C–V characteristics of the MOS diodes without PEC etching indicate Fermi-level pinning due to the near-surface defect level in p-GaN at 0.7 eV above the valence band edge EV and a high density of gap states around the midgap. However, all samples with PEC etching exhibit C–V characteristics, indicating a reduction in the density of the defect states at EV + 0.7 eV and midgap states. Still, PEC etching after capless annealing at 800 °C for the activation of Mg acceptors cannot reduce the density of gap states near the valence band edge. On the other hand, annealing of a sample with a SiO2 cap layer at 800 °C after PEC etching can reduce the gap state density near the valence band edge.

Investigation of dominance in near-surface region on electrical properties of AlGaN/GaN heterostructures using TLM, XPS, and PEC etching techniques
Ryota Ochi, Takuya Togashi, Yoshito Osawa, Fumimasa Horikiri, Hajime Fujikura, Kazunari Fujikawa, Takashi Furuya, Ryota Isono, Masamichi Akazawa, Taketomo Sato
Applied Physics Express, 16, 9, 091002-1, 091002-2, IOP, 2023年09月, ［査読有り］, ［国際誌］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Detection of defect levels in vicinity of Al2O3/ p-type GaN interface using sub-bandgaplight- assisted capacitance–voltage method
Masamichi Akazawa, Yuya Tamamura, Takahide Nukariya, Kouta Kubo, Taketomo Sato, Tetsuo Narita, Tetsu Kachi
Journal of Applied Physics, 132, 19, 195302-1, 195302-10, 2022年11月16日, ［査読有り］, ［国際誌］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Fabrication of GaN nanowires containing n+-doped top layer by wet processes using electrodeless photo-assisted electrochemical etching and alkaline solution treatment
Michihito Shimauchi, Kazuki Miwa, Masachika Toguchi, Taketomo SATO, Junichi Motohisa
Applied Physics Express, IOP Publishing, 2021年10月06日, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Self-terminating contactless photo-electrochemical (CL-PEC) etching for fabricating highly uniform recessed-gate AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs)
Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Yoshinobu Narita, Osamu Ichikawa, Ryota Isono, Takeshi Tanaka, Taketomo Sato
Journal of Applied Physics, 130, 2, 024501, 024501, AIP Publishing, 2021年07月14日, ［査読有り］, ［最終著者］
英語, 研究論文（学術雑誌）

HfSiOx-gate GaN MOS-HEMTs for RF power transistor
Tamotsu Hashizume, Ryota Ochi, Erika Maeda, Toshihide Nabatame, Koji Shiozaki, Taketomo Sato
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11686, 2021年
研究論文（国際会議プロシーディングス）, We have investigated AlGaN/GaN high-electron mobility transistors (HEMTs) with a high κ gate dielectric using hafnium silicate (HfSiOx). The (HfO2)/(SiO2) laminate structure was deposited on the AlGaN surface by a plasma enhanced atomic layer deposition, followed by a post-deposition annealing at 800 °C. The HfSiOx-gate HEMT showed good transfer characteristics with a high transconductance expected from its κ value and a subthreshold swing of 71 mV/ decade. In addition, we observed excellent capacitance-voltage (C-V) characteristics with negligible frequency dispersion in the metal-oxide-semiconductor (MOS) HEMT diode. The detailed C-V analysis showed low state densities in the order of 1011 cm-2 eV-1 at the HfSiOx/AlGaN interface.

光電気化学エッチング法を用いたAlGaInN/AlGaNリセスゲートHFETの作製
伊藤滉朔, 小松祐斗, 渡久地政周, 井上暁喜, 三好実人, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, 2020年11月23日, ［最終著者］

(Invited) Photo-Electrochemical Etching and Porosification of III-Nitride Semiconductors
Taketomo Sato, Masachika Toguchi
ECS Meeting Abstracts, 2020年11月23日, ［招待有り］, ［筆頭著者］
研究論文（国際会議プロシーディングス）

Depth profiling of surface damage in n-type GaN induced by inductively coupled plasma reactive ion etching using photo-electrochemical techniques
Shinji Yamada, Kentaro Takeda, Masachika Toguchi, Hideki Sakurai, Toshiyuki Nakamura, Jun Suda, Tetsu Kachi, Taketomo Sato
Applied Physics Express, 13, 10, 106505, 106505, IOP Publishing, 2020年10月01日, ［査読有り］, ［最終著者］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Gate controllability of HfSiOx/AlGaN/GaN MOS high-electron-mobility transistor
Ryota Ochi, Erika Maeda, Toshihide Nabatame, Koji Shiozaki, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
AIP Advances, 10, 6, 065215, 065215, AIP Publishing, 2020年06月01日, ［査読有り］
研究論文（学術雑誌）

Thermal-assisted contactless photoelectrochemical etching for GaN
Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Hiroshi Ohta, Naomi Asai, Yoshinobu Narita, Takehiro Yoshida, Tomoyoshi Mishima, Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Hiroki Ogami, Taketomo Sato
Applied Physics Express, 13, 4, 2020年04月01日
研究論文（学術雑誌）, Advanced contactless photoelectrochemical etching for GaN was conducted under the condition that the sulfate radicals (SO4•-) as the oxidizing agent were mainly produced from the S2O82- ions by heat. The generation rate of SO4•- was determined from the titration curve of the pH in the mixed solutions between KOH (aq.) and K2S2O8 (aq.); it clearly increased with an increase in the S2O82- ion concentration. The highest etching rate of >25 nm min-1 was obtained in the "alkali-free" electrolyte of 0.25 mol dm-3 (NH4)2S2O8 (aq.) at 80 °C, which was approximately 10 times higher than that reported by previous studies.

Self-termination of contactless photo-electrochemical (PEC) etching on aluminum gallium nitride/gallium nitride heterostructures
Kazuki Miwa, Yuto Komatsu, Masachika Toguchi, Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Yoshinobu Narita, Osamu Ichikawa, Ryota Isono, Takeshi Tanaka, Taketomo Sato
Applied Physics Express, 13, 2, 026508, 026508, IOP Publishing, 2020年02月01日, ［査読有り］, ［最終著者, 責任著者］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Fabrication of recessed structures for GaN HEMTs by a simple wet etching process
Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Yoshinobu Narita, Osamu Ichikawa, Ryota Isono, Takeshi Tanaka, Taketomo Sato
CS MANTECH 2020 - 2020 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, Digest of Papers, 127, 130, 2020年
研究論文（国際会議プロシーディングス）, Photoelectrochemical (PEC) etching is a promising technology for fabricating GaN devices with low damage. In the simple contactless PEC (CL-PEC) etching process that includes K2S2O8 in the electrolyte as an oxidizing agent, a sample is dipped into the electrolyte under UV irradiation. In this study, we applied CL-PEC to the gate-recess process of GaN HEMTs on an SiC substrate. The etching depth of the recess showed considerable reproducibility by the self-termination feature, and the residual AlGaN layer thickness was approximately 5 nm. The Schottky gate HEMTs with a recessed structure showed the normally off characteristics, and the Vthvalue was +0.4 V with a standard deviation of ±3.8 mV.

Photoelectrochemical Etching Technology for Gallium Nitride Power and RF Devices
Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Hiroshi Ohta, Naomi Asai, Yoshinobu Narita, Takehiro Yoshida, Tomoyoshi Mishima, Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Taketomo Sato
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 32, 4, 489, 495, Institute of Electrical and Electronics Engineers ({IEEE}), 2019年10月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Low-Damage Etching for AlGaN/GaN HEMTs Using Photo-Electrochemical Reactions
Taketomo Sato, Masachika Toguchi, Yuto Komatsu, Keisuke Uemura
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 32, 4, 483, 488, Institute of Electrical and Electronics Engineers ({IEEE}), 2019年08月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Anisotropic Electrochemical Etching of Porous Gallium Nitride by Sub-Bandgap Absorption Due to Franz-Keldysh Effect
Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Taketomo Sato
Journal of The Electrochemical Society, 166, 12, H510, H512, The Electrochemical Society, 2019年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Electrodeless photo-assisted electrochemical etching of GaN using a H3PO4-based solution containing S2O82– ions　　　　　　　　　　　　　　　
Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Yoshinobu Narita, Takehiro Yoshida, Taketomo Sato
Applied Physics Express, 12, 066504-1, 066504-4, 2019年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Effect of photoelectrochemical etching and post-metallization annealing on gate controllability of AlGaN/GaN high electron mobility transistors
Keisuke Uemura, Manato Deki, Yoshio Honda, Hiroshi Amano, Taketomo Sato
Japanese Journal of Applied Physics, 58, SC, SCCD20-1, SCCD20-6, 2019年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）

Simple wet-etching technology for GaN using an electrodeless photo-assisted electrochemical reaction with a luminous array film as the UV source
Horikiri Fumimasa, Fukuhara Noboru, Ohta Hiroshi, Asai Naomi, Narita Yoshinobu, Yoshida Takehiro, Mishima Tomoyoshi, Toguchi Masachika, Miwa Kazuki, Sato Taketomo
APPLIED PHYSICS EXPRESS, 12, 3, 2019年03月01日, ［査読有り］

Effects of a photo-assisted electrochemical etching process removing dry-etching damage in GaN
Matsumoto Satoru, Toguchi Masachika, Takeda Kentaro, Narita Tetsuo, Kachi Tetsu, Sato Taketomo
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 57, 12, 2018年12月, ［査読有り］

新規製造現場での基盤技術 光電気化学反応を利用した半導体の低損傷加工と高精度エッチング技術
佐藤威友
ケミカルエンジニヤリング, 63, 6, 399‐405, 2018年06月, ［招待有り］
日本語

光電気化学反応を利用した窒化物半導体の低損傷エッチングと電子デバイスへの応用
植村圭佑, 松本悟, 渡久地政周, 伊藤圭亮, 佐藤威友, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 117, 331(ED2017 49-71), 23‐26, 26, 電子情報通信学会, 2017年11月23日
日本語

Precise thickness control in recess etching of AlGaN/GaN hetero-structure using photocarrier-regulated electrochemical process
Yusuke Kumazaki, Keisuke Uemura, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 121, 18, AMER INST PHYSICS, 2017年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The photocarrier-regulated electrochemical (PREC) process was developed for fabricating recessed-gate AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) for normally off operation. The PREC process is based on photo-assisted electrochemical etching using low-energy chemical reactions. The fundamental photo-electrochemical measurements on AlGaN/GaN heterostructures revealed that the photo-carriers generated in the top AlGaN layer caused homogeneous etching of AlGaN with a smooth surface, but those generated in the GaN layer underneath caused inhomogeneous etching that roughens the surface. The concept of the PREC process is to supply the photo-carriers generated only in the AlGaN layer by selecting proper conditions on light wavelength and voltage. The phenomenon of self-termination etching has been observed during the PREC process, where the etching depth was controlled by light intensity. The recessed-gate AlGaN/GaN HEMT fabricated with the PREC process showed positive threshold voltage and improvement in transconductance compared to planar-gate AlGaN/GaN HEMTs. Published by AIP Publishing.

Precise Structural Control of GaN Porous Nanostructures Utilizing Anisotropic Electrochemical and Chemical Etching for the Optical and Photoelectrochemical Applications
Yusuke Kumazaki, Satoru Matsumoto, Taketomo Sato
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 164, 7, II477, II483, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2017年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A low-damaged wet process utilizing electrochemical (EC) etching and subsequent chemical etching has been developed for the fabrication of GaN porous structures. Superior controllability in depth and diameter could be obtained by achieving anisotropic nature of the vertical direction to the substrate by EC etching and horizontal direction by tetramethylammonium hydroxide (TMAH) etching, respectively. The optical and photoelectrochemical properties of GaN porous structures were very sensitive to the structural properties. Photoreflectance measurement revealed that porous sample had an effective refractive index that could be controlled by TMAH etching time. In photoelectrochemical measurement, the incident-photon-to-current conversion efficiency (IPCE) was dramatically enhanced to as high as 91% by the formation of porous structures. A series of experimental results were consistently explained by the change of thickness of pore wall and width of space charge region. (C) The Author(s) 2017. Published by ECS. This is an open access article distributed under the terms of the Creative Commons Attribution 4.0 License (CC BY, http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/), which permits unrestricted reuse of the work in any medium, provided the original work is properly cited. All rights reserved.

電気化学加工技術を利用したAlGaN/GaNヘテロ構造の低損傷リセスエッチング
熊崎祐介, 植村圭佑, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 116, 357(CPM2016 90-112), 45‐50, 2016年12月05日
日本語

Formation of GaN porous structures with improved structural controllability by photoassisted electrochemical etching
Yusuke Kumazaki, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 55, 4, 04EJ12, IOP PUBLISHING LTD, 2016年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We aimed to develop a photoassisted electrochemical etching process for the formation of GaN porous structures. Pore linearity and depth controllability were strongly affected by the anode voltage. In addition, the use of light with an energy below the band gap played an important role in controlling the pore diameter. Spectro-electrochemical measurements revealed that the high electric field induced at the GaN/electrolyte interface caused a redshift of the photoabsorption edge. This specific phenomenon can be explained by a theoretical calculation based on the Franz-Keldysh effect. On the basis of the results of our experimental and theoretical analyze, we propose a formation model for GaN porous structures. We also note that the application of the Franz-Keldysh effect is useful in controlling the structural properties of GaN porous structures. (C) 2016 The Japan Society of Applied Physics

Electrochemical Formation of N-type GaN and N-type InP Porous Structures for Chemical Sensor Applications
Taketomo Sato, Xiaoyi Zhang, Keisuke Ito, Satoru Matsumoto, Yusuke Kumazaki
2016 IEEE SENSORS, IEEE, 2016年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, The feasibility of liquid-phase sensors based on n-type GaN and n-type InP porous structures was investigated. The response currents to the addition of H2O2 increased on the porous electrodes. The source-drain currents of ion-sensitive field-effect transistors having a porous channel changed with good response to the pH values. The sensitivities of two kinds of chemical sensors to ions were drastically enhanced by the implementation of the porous structures having large surface areas with good conductivity.

Interface control technologies for high-power GaN transistors - Self-stopping etching of p-GaN layers utilizing electrochemical reactions
Taketomo Sato, Yusuke Kumazaki, Masaaki Edamoto, Masamichi Akazawa, Tamotsu Hashizume
GALLIUM NITRIDE MATERIALS AND DEVICES XI, 9748, 97480Y, SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING, 2016年, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, The selective and low-damaged etching of p-type GaN or AlGaN layer is inevitable process for AlGaN/GaN high-power transistors. We have investigated an electrochemical etching of p-GaN layer grown on AlGaN/GaN heterostructures, consisting of an anodic oxidation of p-GaN surface and a subsequent dissolution of the resulting oxide. The p- GaN layer was electrochemically etched by following the pattern of the SiO2 film that acted as an etching mask. Etching depth was linearly controlled by cycle number of triangular waveform at a rate of 25 nm/cycle. The AFM, TEM and mu-AES results showed that the top p- GaN layer was completely removed after 5 cycles applied, and the etching reaction was automatically sopped on the AlGaN surface. I-V and C-V measurements revealed that no significant damages were induced in the AlGaN/GaN heterostructures.

Large photocurrents in GaN porous structures with a redshift of the photoabsorption edge
Taketomo Sato, Yusuke Kumazaki, Hirofumi Kida, Akio Watanabe, Zenji Yatabe, Soichiro Matsuda
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 31, 1, IOP PUBLISHING LTD, 2016年01月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Photoresponse and photoabsorption properties of GaN porous structures were investigated by measuring photocurrent and spectroscopic photoabsorption under monochromatic light with various wavelengths. The measured photocurrents on the porous GaN electrodes were larger than those on the planar electrodes due to the unique features of the former electrode, such as large surface area and low photoreflectance properties. Moreover, the photocurrents were observed even under illumination with wavelength of 380 nm, corresponding to photon energy of 3.26 eV, which is 130 meV lower than the bandgap energy of bulk GaN. A potential simulation revealed that a high-electric field was induced at the pore tips due to modification of the potential in the porous structures. The observed redshift of the photoabsorption edge can be qualitatively explained by the Franz-Keldysh effect.

電気化学的手法によるGaN多孔質構造の形成と紫外光応答特性
喜田 弘文, 熊崎 祐介, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 115, 170, 51, 54, 電子情報通信学会, 2015年07月, ［国内誌］
日本語

分光電気化学法によるGaN/電解液界面の評価とナノ構造形成への応用
熊崎 祐介, 渡部 晃生, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 115, 63, 63, 66, 電子情報通信学会, 2015年05月, ［国内誌］
日本語

Interface trap states in Al2O3/AlGaN/GaN structure induced by inductively coupled plasma etching of AlGaN surfaces
Zenji Yatabe, Joel T. Asubar, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 212, 5, 1075, 1080, WILEY-V C H VERLAG GMBH, 2015年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We have investigated the effects of the inductively coupled plasma (ICP) etching of AlGaN surface on the resulting interface properties of the Al2O3/AlGaN/GaN structures. The experimentally measured capacitance-voltage (C-V) characteristics were compared with those calculated taking into account the interface states density at the Al2O3/AlGaN interface. As a complementary method, photoassisted C-V method utilizing photons with energies less than the bandgap of GaN was also used to probe the interface state density located near AlGaN midgap. It was found that the ICP etching of the AlGaN surface significantly increased the interface state density at the Al2O3/AlGaN interface. It is likely that ICP etching induced the interface roughness, disorder of chemical bonds and formation of various type of defect complexes including nitrogen-vacancy-related defects at the AlGaN surface, leading to poor C-V curve due to higher interface state density at the Al2O3/AlGaN interface.

Formation of GaN-Porous Structures Using Photo-Assisted Electrochemical Process in Back-Side Illumination Mode
Akio Watanabe, Yusuke Kumazaki, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
ECS ELECTROCHEMISTRY LETTERS, 4, 5, H11, H13, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2015年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We investigated the structural features of gallium-nitride-porous structures formed using the photo-assisted electrochemical process in the back-side illumination (BSI) mode. The pore diameter and depth were strongly affected by the direction of illumination, where higher controllability was achieved compared with front-side illumination. The spectroscopic measurements revealed that illumination with photon energy below the bulk bandgap plays an important role in pore formation. We propose a formation model by considering the Franz-Keldysh effect that can consistently explain the obtained experimental data in which anodic etching occurs only at the pore tips under the high electric field induced in the depletion region. (C) 2015 The Electrochemical Society. All rights reserved.

Bias-dependent photoabsorption properties of gan porous structures under back-side illumination
Taketomo Sato, Hirofumi Kida, Yusuke Kumazaki, Zenji Yatabe
ECS Transactions, 69, 2, 161, 166, Electrochemical Society Inc., 2015年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Photoabsorption properties of GaN porous structures were investigated by measuring photocurrent and light transmittance under monochromatic light with various wavelengths. The measured photocurrents on the porous GaN electrode were larger than those on the planar electrodes, and those were observed even under illumination with lower photon energy than the bandgap energy of bulk GaN. Moreover, the light transmittance that was measured in the back-side illumination (BSI) mode depended strongly on the applied voltage to the porous electrode with change of the photocurrents. The observed photoabsorption properties can be qualitatively explained by the Franz-Keldysh effect
namely, the high electric field induced in the GaN porous structure easily causes a redshift of the photoabsorption edge.

Characterization of electronic states at insulator/(Al)GaN interfaces for improved insulated gate and surface passivation structures of GaN-based transistors
Zenji Yatabe, Yujin Hori, Wan-Cheng Ma, Joel T. Asubar, Masamichi Akazawa, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
Japanese Journal of Applied Physics, 53, 10, 100213-1, 10, Institute of Physics, 2014年10月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, <b>第38回(2016年度)応用物理学会優秀論文賞</b>



<b>Spotlights 2014</b>



<b>Selected Topics in Applied Physics, "Progresses and Future Prospects in Nitride Semiconductors"</b>



This paper presents a systematic characterization of electronic states at insulators/(Al)GaN interfaces, particularly focusing on insulator/AlGaN/GaN structures. First, we review important results reported for GaN metal–insulator–semiconductor (MIS) structures. SiO₂ is an attractive material for MIS transistor applications due to its large bandgap and high chemical stability. In-situ SiNx is effective for improving the operation stability of high electron mobility transistors (HEMTs). Meanwhile, Al₂O₃/GaN structures have high band offsets and low interface state densities, which are also desirable for insulated gate applications. We have proposed a calculation method for describing capacitance–voltage (<i>C</i>–<i>V</i>) characteristics of HEMT MIS structures for evaluating electronic state properties at the insulator/AlGaN interfaces. To evaluate near-midgap states at insulator/AlGaN interfaces, a photo-assisted <i>C</i>–<i>V</i> technique using photon energies less than the bandgap of GaN has been developed. Using the calculation in conjunction with the photo-assisted <i>C</i>–<i>V</i> technique, we estimate interface state density distributions at the Al₂O₃/AlGaN interfaces.

Correlation between Structural and Photoelectrochemical Properties of GaN Porous Nanostructures Formed by Photo-Assisted Electrochemical Etching
Yusuke Kumazaki, Akio Watanabe, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
Journal of The Electrochemical Society, 161, 10, 705, 709, The Electrochemical Society, 2014年08月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We investigated the correlation between structural and photoelectrochemical properties of GaN porous nanostructures formed by photo-assisted electrochemical etching. The porous nanostructures were formed during light irradiation of the top-surface of homo-epitaxial layers grown on freestanding GaN substrates. The pore depth, wall thickness, and surface morphology of porous nanostructures were strongly influenced by the way holes generated by the light irradiation were supplied. Such structural features influenced the optical properties of GaN porous nanostructures. The photoluminescence peaks measured on GaN porous nanostructures were shifted to higher energies because of the quantum confinement in the thin GaN walls between pores. Formation of porous nanostructure decreased the photoreflectance of the GaN surface, and the smallest reflectance was obtained from the porous sample having large pores on its surface after the ultrathin layer with small pores had been removed by surface-etching. The photoelectrochemical response measured on GaN porous nanostructures in a NaCl electrolyte were drastically enhanced by the unique features of those structures, such as low photoreflectance and large surface area. The largest photocurrents were obtained from the sample from which H₃PO₄ treatment had removed the ultrathin layer without thinning the pore walls.

III‐V族化合物半導体多孔質構造の形成と機能素子への応用
佐藤威友, 熊崎祐介, 渡部晃生
表面技術協会講演大会講演要旨集, 129th, 295, 297, 2014年03月, ［招待有り］
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

GaNパワー素子のための絶縁膜界面制御
橋詰 保, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電気学会研究会資料. EDD, 電子デバイス研究会, EDD-14, 39-49, 13, 16, 2014年03月, ［招待有り］, ［国内誌］
日本語

Interface Characterization and Control of GaN-based Heterostructures
橋詰保, 谷田部然治, 佐藤威友
表面科学, 35, 2, 96-101 (J-STAGE), 101, The Surface Science Society of Japan, 2014年, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Interface properties of GaN-based heterostructures have been characterized. Schottky contacts on dry-etched n-GaN layers showed leaky I-V characteristics. An anneal process at 400°C was effective in recovering the rectifying characteristics. To characterize interface properties of Al₂O₃ insulated gates on AlGaN/GaN structures with and without the inductively coupled plasma (ICP) etching of AlGaN, we have developed a C-V calculation method taking into account electronic state charges at the Al₂O₃/AlGaN interface and a photoassisted C-V technique utilizing photons with energies less than the bandgap of AlGaN. It was found that the ICP etching caused the monolayer-level interface roughness, disorder of the chemical bonds and formation of various types of defect complexes at the AlGaN surface, resulting in poor C-V characteristics due to high-density interface states at the Al₂O₃/AlGaN interface.

電気化学的手法によるGaN多孔質構造の形成と光電極特性
熊崎祐介, 渡部晃生, 谷田部然治, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 113, 329(ED2013 64-89), 113, 116, 2013年11月
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

Investigation on optical absorption properties of electrochemically formed porous InP using photoelectric conversion devices
Yusuke Kumazaki, Tomohito Kudo, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
Applied Surface Science, 279, 116, 120, 2013年08月15日, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We investigated the optical absorption properties of InP porous structures formed by the electrochemical process using photoelectric conversion (PC) devices formed on p-n junction substrates. The photocurrent measurements revealed that the current from PC devices changed in response to the incident light power and the thickness of the top layer on the p-n interface. Since the photocarriers contributing to the observed photocurrents are excited by the photons reaching the p-n interface through the top layer, the photocurrents give us information on the optical absorption properties of the top layer. The photocurrents observed on a porous device with a porous structure in the top layer were lower than that of a non-porous device, indicating that the absorption properties of InP were enhanced after the formation of porous structures. This phenomenon can be explained in terms of absorption coefficient, α, increased by the light scattering and the sub-bandgap absorption in the porous layer. © 2013 Published by Elsevier B.V.

気化学的手法によるInP多孔質構造の光吸収特性と光電変換　　　　　　　　　　　　　　　
熊崎 祐介, 神保 亮平, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電子情報通信学会技術研究報告, 113, 39(ED2013-27), 61, 64, 2013年05月
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

電気化学的手法によるInP多孔質構造の光吸収特性と光電変換　　　　　　　　　　　　　　　
熊崎 祐介, 神保 亮平, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電子情報通信学会技術研究報告, 113, 39(ED2013-27), 61, 64, 2013年05月
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

Formation and Photoelectrical Measurements of Pt Schottky Interfaces on InP Porous Structures
Ryohei Jinbo, Yusuke Kumazaki, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
ECS Transactions, 50, 37, 247, 252, 2013年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Schottky interfaces were formed on InP porous structures by the electrodeposition of Pt films. The coverage of the Pt film and its optical reflectance depended largely on the surface morphology of the porous structure. Removal of the irregular top layer formed at the initial stage of the pore formation effectively improved the coverage of the Pt film inside pores. According to <i>I</i>-<i>V</i> measurements, the Pt/porous InP showed higher photocurrents with lower dark currents than those of a reference planar sample.

Control of Insulated Gate Interfaces on AlGaN/GaN Heterostructures for Power Devices
Yujin Hori, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
2013 1ST IEEE WORKSHOP ON WIDE BANDGAP POWER DEVICES AND APPLICATIONS (WIPDA), 143, 146, IEEE, 2013年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Interface properties of Al2O3 insulated gates on AlGaN/GaN structures prepared by atomic layer deposition have been characterized, focusing on the interface state density distribution at the Al2O3/AlGaN interface. We have developed a C-V calculation method taking into account electronic states charges at the Al2O3/AlGaN interface and a photoassisted C-V technique utilizing photons with energies less than the bandgap of AlGaN. These techniques were then applied to investigate the effect of the ICP etching of AlGaN on the interface properties.

Large photocurrent-response observed at Pt/InP Schottky interface formed on anodic porous structure
Ryohei Jinbo, Tomohito Kudo, Zenji Yatabe, Taketomo Sato
THIN SOLID FILMS, 520, 17, 5710, 5714, ELSEVIER SCIENCE SA, 2012年06月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A photoelectric-conversion device-based on an InP porous structure utilizing the large surface area inside pores and the low reflectance on the porous surface-is proposed. The InP walls inside the pores are covered with thin platinum films that form a Schottky barrier yielding an electric field that separates photo carriers generated under illumination. The coverage of the platinum film and its optical reflectance depended largely on the surface morphology of the porous structure. Removal of the irregular top layer formed at the initial stage of the pore formation effectively improved the coverage of the platinum film, which showed a very low optical reflectance (i.e., below 3.2%). According to current-voltage measurements under illumination, the platinum/porous InP showed larger photocurrents and higher responsivity than those of a reference planar sample. (C) 2012 Elsevier B.V. All rights reserved.

Electrochemical formation of InP porous structures for their application to photoelectric conversion devices(Session 2B : Graphene and III-Vs)
OKAZAKI Hiroyuki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 110, 110, 85, 89, 一般社団法人電子情報通信学会, 2010年06月23日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, We report the electrochemical formation of porous structures on n-type epitaxial layers grown on p-type InP substrates in view of the application to the photoelectric conversion devices. We successfully formed the arrays of regular-sized pores whose diameter and depth could be changed by the doping density and anodic conditions, respectively. From the photo I-V measurements, we confirmed the optical absorption process in the porous layers whose photovoltaic response strongly depended on the structural properties.

Realization of an extremely low reflectance surface based on InP porous nanostructures for application to photoelectrochemical solar cells
Taketomo Sato, Naoki Yoshizawa, Tamotsu Hashizume
THIN SOLID FILMS, 518, 15, 4399, 4402, ELSEVIER SCIENCE SA, 2010年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Extremely low reflectance was obtained from InP porous nanostructures in UV, visible, and near-infrared ranges. Porous samples were electrochemically prepared on which 130-nm-diameter nanopores were formed in a straight, vertical direction and were laterally separated by 50-nm-thick InP nanowalls. The reflectance strongly depended on the surface morphology. The lowest reflectance of 0.1% in the visible light range was obtained after the irregular top layer had been completely removed. Superior photoelectrochemical properties were obtained on the InP porous structures clue to two unique features: the large surface area inside pores, and the large photon absorption enhanced on the low reflectance surface. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.

Low Reflectance Surface Observed on InP Porous Structures after Photoelectrochemical Etching
T. Sato, N. Yoshizawa, H. Okazaki, T. Hashizume
SEMICONDUCTOR ELECTROLYTE INTERFACE AND PHOTOELECTROCHEMISTRY, 25, 42, 83, 88, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2010年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Extremely low reflectance was obtained from InP porous nanostructures in UV, visible, and near-infrared light ranges. The reflectance strongly depended on the surface morphology of the porous structures prepared by the electrochemical process, and the lowest reflectance of 0.1% in the visible light range was obtained from a sample after the irregular top layer was completely removed. Large anodic photocurrents were obtained on the InP porous structures that had low reflectance surfaces with deeper pores.

Electrochemical Functionalization of InP Porous Nanostructures with a GOD Membrane for Amperometric Glucose Sensors
Taketomo Sato, Akinori Mizohata, Tamotsu Hashizume
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 157, 2, H165, H169, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2010年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The electrochemical functionalization of n-type InP porous nanostructures and their feasibility for biochemical sensor applications were investigated. The porous structures have extremely large surface areas, i.e., over 10 m(2)/cm(3), and superior electrical properties with conductive semiconductor substrates. As a first attempt at electrochemical functionalization, we successfully deposited a glucose oxidase (GOD) membrane onto an InP surface under an applied anodic bias of 1.2 V. With the addition of glucose, the response currents on the porous electrodes increased compared to those on planar InP electrodes due to their enlarged surface area. The sensitivity curves of the porous electrodes we used showed good linearity between the response currents and concentrations in a range from 0 to 5 mM.

電気化学的手法によるInP多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用
佐藤威友, 吉澤直樹, 岡崎拓行, 橋詰 保
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, ED2010, 35, 11, 15, 一般社団法人電子情報通信学会, 2010年
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, ゲート検出部に多孔質構造を持つ新しいISFET(多孔質ゲート型ISFET)を提案し,試作した素子の基本特性を評価した.p^+-InP基板上に結晶成長したn.InP層をチャネル層とし,電気化学的手法を用いてチャネル層内に多孔質構造を形成する手法を確立した.作製した多孔質ゲート型ISFETは,孔壁の表面電位の変化をソース-ドレイン電流で検出可能であり,基板裏面に形成したバックゲートに印加する電圧で感度を調整可能であることを明らかにした.さらに,pH応答特性を評価した結果,提案する多孔質ゲート型ISFETはプレーナ型素子と比べて電流変化率が大きく,化学物質の高感度検出に有望であることを示した.

OPTICAL AND ELECTRICAL PROPERTIES OF InP POROUS STRUCTURES FORMED ON P-N SUBSTRATES
Hiroyuki Okazaki, Taketomo Sato, Naoki Yoshizawa, Tamotsu Hashizume
2010 22ND INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS (IPRM), IEEE, 2010年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, We demonstrated to form InP porous structures on n-type epitaxial layers grown on p-type (001) substrates. The high-density array of straight pores with 150nm diameter and 5000nm depth was formed by the electrochemical anodization process, where the pore depth could be controlled by the anodization time in the n-type layer. The present p-n InP porous structures show the low optical reflectance in UV-, visible-and near-infrared region. The current transport properties clearly show the rectifying behavior. These features are very promising for practical application to high-efficiency photo-sensitive devices.

Fundamental Study of InP-Based Open-Gate Field-Effect Transistors for Application to Liquid-Phase Chemical Sensors
Naoki Yoshizawa, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 48, 9, 91102, JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, 2009年09月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, We prove with this paper that InP-based open-gate field-effect transistors (FETs) work well as liquid-phase chemical sensors. The open-gate FET clearly exhibited current saturation and a pinch-off behavior in the electrolyte, resulting in a rapid response to the gate bias applied via the electrolyte. A series of sensing measurements showed that the surface potential of the InP linearly changed with the pH values of the electrolytes in a pH range from 3.0 to 12.0. The pH sensitivity of the open-gate FETs depended on the ion species contained in the electrolyte. A Si3N4 layer was useful as an ion selective membrane for the InP open-gate FETs to improve the selectivity of H+ ions. (C) 2009 The Japan Society of Applied Physics

平成20年度リフレッシュ理科教室開催報告-サイエンスオリエンテーリング2008 in 札幌- : 北海道支部・北海道大学会場
有田 正志, 菅原 陽, 植村 哲也, 足立 智, 菅原 広剛, 葛西 誠也, 松田 健一, 佐藤 威友, 高橋 庸夫, 福井 孝志
応用物理教育, 33, 1, 25, 30, 2009年07月31日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

Integration of Zn-Cd-Te-Se Semiconductors on Si Platforms via Structurally Designed Cubic Templates Based on Group IV Elements
John Tolle, Radek Roucka, Brandon Forrest, Andrew V. G. Chizmeshya, John Kouvetakis, Vijay R. D'Costa, Christian D. Poweleit, Michael Groenert, Taketomo Sato, Jose Menendez
CHEMISTRY OF MATERIALS, 21, 14, 3143, 3152, AMER CHEMICAL SOC, 2009年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, This work describes the development and application of a new class of highly versatile Ge-Sn/Si (100) hybrid substrate systems for the integration of a broad range of technologically important II-VI optical materials on silicon platforms. GeSn buffer layers were grown directly on Si(100), via introduction of Lomer edge dislocations at the interface, and exhibited low densities of threading defects, atomically flat surfaces, and strain-free microstructures. Specialized cleaning protocols were first developed to obtain GeSn surfaces possessing superior chemical purity and single-crystalline, long-range orientation for subsequent heteroepitaxy. The quality of the resulting platforms was then validated using proof-of-concept fabrication of prototype AlGaAs/GaAs/AlGaAs quantum well structures, which exhibited optical properties comparable to those of analogs grown via homoepitaxy on bulk GaAs substrates. The application of these platforms in CMOS-compatible integration of the II-VI materials was explored using a progressive strategy based on the systematic epitaxial fabrication of simple binaries within Zn-Cd-Te-Se class. This culminated in the Formation of fully lattice matched ZnSc/'GeSn/Si(100) structures for the first time, as well as highly mismatched CdTe and CdTe/ZnTe systems directly on silicon. These successful depositions represent an important milestone en route to the ultimate integration of ZnSe, CdTe, Zn(1-)zCd(z)Te and Hg(1-x)Cd(x)Te with Si for applications in high-performance IR photodetectors, imaging technologies, and high-efficiency, low-cost solar cells.

Formation and application of InP porous structures on p-n substrates
SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki, OKAZAKI Hiroyuki, HASHIZUME Tamotsu
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 109, 97, 117, 120, 一般社団法人電子情報通信学会, 2009年06月17日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, We demonstrated to form InP porous structures on n-type epitaxial layers grown on p-type (001) substrates. The high-density array of straight pores with 150nm diameter and 5000nm depth was formed by the electrochemical anodization process, where the pore depth could be controlled by the anodization time in the n-type layer. The present p-n InP porous structures show the low optical reflectance in UV-, visible- and near-infrared region. The current transport properties clearly show the rectifying behavior. These features are very promising for practical application to high-efficiency photo-s...

Formation and application of InP porous structures on p-n substrates
SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki, OKAZAKI Hiroyuki, HASHIZUME Tamotsu
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 109, 98, 117, 120, 一般社団法人電子情報通信学会, 2009年06月17日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, We demonstrated to form InP porous structures on n-type epitaxial layers grown on p-type (001) substrates. The high-density array of straight pores with 150nm diameter and 5000nm depth was formed by the electrochemical anodization process, where the pore depth could be controlled by the anodization time in the n-type layer. The present p-n InP porous structures show the low optical reflectance in UV-, visible- and near-infrared region. The current transport properties clearly show the rectifying behavior. These features are very promising for practical application to high-efficiency photo-s...

Electrochemical formation and functionalization of InP porous nanostructures and their application to chemical sensors(Session8B: High-Frequency, Photonic and Sensing Devices)
MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 108, 122, 327, 330, 一般社団法人電子情報通信学会, 2008年07月02日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, We investigated the electrocatalytic activity of n-type InP porous nanostructures and the feasibility of their functionalization for the biochemical sensor applications. The porous structures have extremely large surface areas over 10m^2/cm^3 and superior electrical properties with conductive semiconductor substrates. The response currents to the addition of H_2O_2 increased on the porous electrodes due to their enlarged surface area, and its sensitivity had good linearity with H_20_2 concentration. As a first attempt of the electrochemical functionalization, glucose oxidase membrane was su...

Electrochemical formation and functionalization of InP porous nanostructures and their application to chemical sensors(Session8B: High-Frequency, Photonic and Sensing Devices)
MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 108, 121, 327, 330, 一般社団法人電子情報通信学会, 2008年07月02日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, We investigated the electrocatalytic activity of n-type InP porous nanostructures and the feasibility of their functionalization for the biochemical sensor applications. The porous structures have extremely large surface areas over 10m^2/cm^3 and superior electrical properties with conductive semiconductor substrates. The response currents to the addition of H_2O_2 increased on the porous electrodes due to their enlarged surface area, and its sensitivity had good linearity with H_20_2 concentration. As a first attempt of the electrochemical functionalization, glucose oxidase membrane was su...

Amperometric detection of hydrogen peroxide using InP porous nanostructures
Taketomo Sato, Akinori Mizohata, Naoki Yoshizawa, Tamotsu Hashizume
APPLIED PHYSICS EXPRESS, 1, 5, 51202, JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, 2008年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The electrocatalytic activity of n-type InP porous nanostructures was investigated in terms of their application to amperometric biochemical sensors. The current sensitivities for H(2)O(2) detection were strongly dependent on the structural properties of these porous nanostructures. A sample with deeper pores responsed more sensitively because of the enlarged surface area inside the nanopores. The removal of an irregular top layer also effectively improved the current sensitivity. The conductive porous nanostructures presented here were very promising for the direct amperometric detection of H(2)O(2). (c) 2008 The Japan Society of Applied Physics.

Photoelectrochemical etching and removal of the irregular top layer formed on InP porous nanostructures
Taketomo Sato, Akinori Mizohata
ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS, 11, 5, H111, H113, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2008年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A photoelectrochemical (PEC) process was developed to remove the irregular top layer from InP porous nanostructures. After anodic formation of a nanopore array, the PEC process repeated in the same electrolyte under illumination. The etching rate of the pore surfaces was strongly associated with their structural properties, being greater in the irregular top layer. The irregular top layer was completely removed by monitoring and controlling the anodic photocurrents in the ramped bias mode. (c) 2008 The Electrochemical Society.

Electrochemical formation of InP porous nanostructures and its application to amperometric chemical sensors
Taketomo Sato, Akinori Mizohata, Toshiyuki Fujino, Tamotsu Hashizume
PHYSICA STATUS SOLIDI C - CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 5, NO 11 2008, 5, 11, 3475, 3478, WILEY-V C H VERLAG GMBH, 2008年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, In this paper, we report the electrochemical formation of the InP porous nanostructures and their feasibility for the application to the amprometric chemical sensors. Our two step electrochemical process consists of the pore formation on a (001) n-type InP substrate and the subsequent etching of pore walls caused by changing the polarity of the InP electrode in A HCL based electrolyte. By applying the anodic bras to the Inp electrode, the high density array of uniform nanopores was formed on the surface Next, the cathodic bias was applied to the porous sample to reduce the wait thickness by cathodic decomposition of InP, where the thickness of InP nanowall decreased uniformly along the entire depth of the porous layer. From the amperometric measurements of the porous electrode, it was found that the electrocatalytic, activity was much higher than that of the planar electrode. Furthermore, the current sensitivity for the H(2)O(2) detection was much enhanced after the cathodic decomposition process. The InP porous nanostructure formed by the present process is one of the promising structures for the application to the semiconductor based bio/chemical sensors. (c) 2008 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim

Complete removal of irregular top layer for sensor applications of InP porous nanostructures
Taketomo Sato, Akinori Mizohata, Naoki Yoshizawa, Tamotsu Hashizume
ECS Transactions, 16, 3, 405, 410, 2008年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, The photo-electrochemical (PEC) process was developed to remove the irregular top layer of InP porous nanostructures for the application to amperometric chemical sensors. The PEC etching rate of the pore surface was associated with their structural properties, resulting in the complete removal of the irregular layer by monitoring and controlling the anodic photo-currents. The porous electrode prepared by PEC process gave higher sensitivity for detecting H2O2 due to the enlarged openings of all pores with complete removal of irregular top layer. ©The Electrochemical Society.

Electrochemical formation of InP porous nanostructures and its application to amperometric chemical sensors
Taketomo Sato, Akinori Mizohata, Toshiyuki Fujino, Tamotsu Hashizume
Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics, 5, 11, 3475, 3478, 2008年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, In this paper, we report the electrochemical formation of the InP porous nanostructures and their feasibility for the application to the amperometric chemical sensors. Our two step electrochemical process consists of the pore formation on a (001) n-type InP substrate and the subsequent etching of pore walls caused by changing the polarity of the InP electrode in a HCl-based electrolyte. By applying the anodic bias to the InP electrode, the high-density array of uniform nanopores was formed on the surface. Next, the cathodic bias was applied to the porous sample to reduce the wall thickness by cathodic decomposition of InP, where the thickness of InP nanowall decreased uniformly along the entire depth of the porous layer. From the amperometric measurements of the porous electrode, it was found that the electrocatalytic activity was much higher than that of the planar electrode. Furthermore, the current sensitivity for the H2O2 detection was much enhanced after the cathodic decomposition process. The InP porous nanostructure formed by the present process is one of the promising structures for the application to the semiconductor-based bio/chemical sensors. © 2008 Wiley-VCH Verlag GmbH &
Co. KGaA.

Liquid-phase chemical sensors using InP-based open-gate FETs
Naoki Yoshizawa, Taketomo Sato, Akinori Mizohata
Proceedings of IEEE Sensors, 1305, 1308, 2008年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, In this paper, we demonstrated that the InP-based open-gate FET worked well as a liquid-phase chemical sensor in acid electrolytes. The open-gate FET clearly exhibited current saturation and pinch-off behavior in the electrolyte, resulted in a rapid response to the gate bias applied via the electrolyte. A series of sensing measurements showed that the surface potential of the InP linearly changed with the pH values of the electrolytes, and their sensitivity was strongly dependent on ion species contained in the electrolyte. © 2008 IEEE.

化合物半導体ナノ構造の自己組織化形成と高感度化学センサへの応用
佐藤威友
村田学術振興財団年報, 21, 222, 229, 2007年12月
日本語, 研究論文（その他学術会議資料等）

陽極酸化によりn‐GaN上に形成された酸化膜の評価と応用
塩崎奈々子, 石川史太郎, TRAMPERT A, GRAHN H. T, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 68th, 3, 1431, 2007年09月04日
日本語

Size-controlled porous nanostructures formed on InP(001) substrates by two-step electrochemical process
Toshiyuki Fujino, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 46, 7A, 4375, 4380, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2007年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A high-densjty array of size-controlled porous nanostructures was formed on InP(001) substrates by a two-step electrochemical process using anodic and cathodic reactions. After the formation of InP porous structures by anodization, we subsequently applied cathodic decomposition to the reduction of the lateral thickness of the InP pore wall. The etching rate of the pore wall was extremely low and strongly dependent on the cathodic bias and crystal orientations of the wall surface. The thickness of InP walls could be precisely controlled in the range of 15-30nm by changing cathodic bias and cathodic decomposition time. From the PL measurement at room temperature, the porous structures showed strong blue-shifted emissions due to quantum confinement in thinner InP nanowalls.

Formation of thin native oxide layer on n-GaN by electrochemical process in mixed solution with glycol and water
Nanako Shiozaki, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 46, 4A, 1471, 1473, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2007年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, In this paper, we report on the feasibility of oxidizing n-GaN by an electrochemical process in a mixture containing an aqueous solution of tartaric a id and propylene glycol. Photons generated by UV illumination were supplied at the electrolyte-GaN interface during the oxidation process. In the constant-voltage mode, X-ray photoelectron spectroscopy analysis revealed that relatively thick Ga oxide layer formed on the n-GaN surface. However, the oxide surface was very rough. In addition, we found metallic Ga components in the oxide layer or at the oxide-GaN interface for longer oxidation times. On the other hand, a thin Ga2O3 layer with a smooth surface was grown by a constant-current process.

Electrochemical formation of size-controlled InP nanostructures using anodic and cathodic reactions
Taketomo Sato, Toshiyuki Fujino, Tamotsu Hashizume
ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS, 10, 5, H153, H155, ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2007年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A two-step electrochemical process using anodic and cathodic reactions was developed to form size-controlled nanostructures on InP(001) substrates. After anodic formation of a nanopore array, the cathodic decomposition process was applied to reduce the thickness of InP nanowalls. The etching rate of the nanowalls was extremely small and strongly dependent on the cathodic bias and crystal orientations of the wall surface. Wall thickness could be controlled in the range of 10-30 nm by changing the cathodic bias and processing time. (c) 2007 The Electrochemical Society.

Performance of open-gate AlGaN/GaN HFET in various kinds of liquids
KOKAWA Takuya, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2006, 326, 327, 2006年09月13日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Optical Properties of Size-Controlled Porous Nanostructures Formed on n-InP (001) Substrates by Electrochemical Process
FUJINO Toshiyuki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2006, 728, 729, 2006年09月13日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Selective molecular beam epitaxy growth of size- and position-controlled GaN/AlGaN nanowires on nonplanar (0001) substrates and its growth mechanism
Sato Taketomo, Oikawa Takeshi, Hasegawa Hideki, Hashizume Tamotsu
Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures, 24, 4, 2087, 2092, 2006年07月26日, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Fundamental growth properties were investigated for the size-controlled selective MBE growth of AlGaN/GaN nanowires on the GaN (0001) prepatterned substrates both experimentally and theoretically. The lateral size of the present GaN nanowire was determined by two facet boundaries formed within AlGaN barrier layers. From the series of wire growth experiments, the growth selectivity and the measured angle of the facet boundary strongly depended on the Al composition and the initial crystalline facets of the mesa patterned templates. The experimental evolution of the cross-sectional structures...

Liquid-phase sensors using open-gate AlGaN/GaN high electron mobility transistor structure
Takuya Kokawa, Taketomo Sato, Hideki Hasegawa, Tamotsu Hashizume
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 24, 4, 1972, 1976, A V S AMER INST PHYSICS, 2006年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Liquid-phase sensing characteristics of open-gate AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT) structures were investigated in aqueous solutions and polar liquids. In de-ionized water, the open-gate HEMT clearly showed good drain I-V characteristics with current saturation and pinch-off behavior, very similar to I-V characteristics of typical Schottky-gate HEMTs. We observed a fine parallel shift in the transfer curves according to change in the pH value in a solution, indicating the corresponding potential change at the AlGaN surface. The sensitivity for the potential change was 57.5 mV/pH, very close to the theoretical value of 58.9 mV/pH at 24 degrees C for the Nernstian response to, H+ ions. In the low drain bias region, the drain current linearly decreased with the pH value. This also indicated a systematic potential change at the AlGaN surface due to pH change. The present open-gate device showed a fast response to the pH change and a stable operation at fixed pH values. A possible mechanism for the pH response of the AlGaN surface is discussed in terms of equilibrium reactions of hydroxyls at the AlGaN surface with H+ in a solution. It was also found that the device was quite sensitive to changes in the electrostatic boundary conditions of the open-gate area by exposure to polar liquids. The drain current linearly decreased with increasing normalized liquid dipole moment. (c) 2006 American Vacuum Society.

Future of heterostructure microelectronics and roles of materials research for its progress
Hideki Hasegawa, Seiya Kasai, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS, E89C, 7, 874, 882, IEICE-INST ELECTRONICS INFORMATION COMMUNICATIONS ENG, 2006年07月, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, With advent of the ubiquitous network era and due to recent progress of III-V nanotechnology, the present III-V heterostructure microelectronics will turn into what one might call III-V heterostructure nanoelectronics, and may open up a new future in much wider application areas than today, combining information technology, nanotechnology and biotechnology. Instead of the traditional top-down approach, new III-V heterostructure nanoelectronics will be formed on nanostructure networks formed by combination of top-down and bottom-up approaches. In addition to communication devices, emerging devices include high speed digital LSIs, various sensors, various smart-chips, quantum LSIs and quantum computation devices covering varieties of application areas. Ultra-low power quantum LSIs may become brains of smart chips and other nanospace systems. Achievements of new functions and higher performances and their on chip integration are key issues. Key processing issue remains to be understanding and control of nanostructure surfaces and interfaces in atomic scale.

Future of heterostructure microelectronics and roles of materials research for its progress
Hideki Hasegawa, Seiya Kasai, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS, E89C, 7, 874, 882, IEICE-INST ELECTRONICS INFORMATION COMMUNICATIONS ENG, 2006年07月, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, With advent of the ubiquitous network era and due to recent progress of III-V nanotechnology, the present III-V heterostructure microelectronics will turn into what one might call III-V heterostructure nanoelectronics, and may open up a new future in much wider application areas than today, combining information technology, nanotechnology and biotechnology. Instead of the traditional top-down approach, new III-V heterostructure nanoelectronics will be formed on nanostructure networks formed by combination of top-down and bottom-up approaches. In addition to communication devices, emerging devices include high speed digital LSIs, various sensors, various smart-chips, quantum LSIs and quantum computation devices covering varieties of application areas. Ultra-low power quantum LSIs may become brains of smart chips and other nanospace systems. Achievements of new functions and higher performances and their on chip integration are key issues. Key processing issue remains to be understanding and control of nanostructure surfaces and interfaces in atomic scale.

Selective molecular beam epitaxy growth of size- and position-controlled GaN/AlGaN nanowires on nonplanar (0001) substrates and its growth mechanism
Taketomo Sato, Takeshi Oikawa, Hideki Hasegawa, Tamotsu Hashizume
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 24, 4, 2087, 2092, A V S AMER INST PHYSICS, 2006年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Fundamental growth properties were investigated for the size-controlled selective MBE growth of AlGaN/GaN nanowires on the GaN (0001) prepatterned substrates both experimentally and theoretically. The lateral size of the present GaN nanowire was determined by two facet boundaries formed within AlGaN barrier layers. From the series of wire growth experiments, the growth selectivity and the measured angle of the facet boundary strongly depended on the Al composition and the initial crystalline facets of the mesa patterned templates. The experimental evolution of the cross-sectional structures was well reproduced by a computer simulation based on the phenomenological growth model where the slope angle dependence of lifetime of adatoms was taken into account. The lateral width of present nanowires could be kinetically controlled by the growth conditions and the supply thickness of AlGaN layers. (c) 2006 American Vacuum Society.

Self-assembled formation of uniform InP nanopore arrays by electrochemical anodization in HCl based electrolyte
Taketomo Sato, Toshiyuki Fujino, Hideki Hasegawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 252, 15, 5457, 5461, ELSEVIER SCIENCE BV, 2006年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to optimize the electrochemical anodization process for the formation of high-density, regular and straight nanopore arrays on InP. The structure, shape and size of the pores were very sensitive to substrate orientations, electrolyte concentrations and anodization voltages. Among (1 1 1)A, (1 1 1)B and (0 0 1) substrate orientations, the most uniform and most straight nanopore arrays were obtained on (0 0 1) substrates at anodization voltages of 5-7 V by using 1.0-1.5 M HCl electrolyte containing HNO3. The pore depth could be controlled up to 80 mu m by the anodization time. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.

Sensing mechanism of InP hydrogen sensors using Pt Schottky diodes formed by electrochemical process
T Kimura, H Hasegawa, T Sato, T Hashizume
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 45, 4B, 3414, 3422, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2006年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Hydrogen sensing characteristics of Pt/InP Schottky diodes fabricated by electro-deposition were investigated. Such diodes gave high Schottky barrier heights (SBHs) of 650-810 meV. Upon exposure to hydrogen in air, the diodes exhibited a remarkable increase in forward and reverse currents. The saturation current on a log scale and the transient speed changed in proportion to the square root of the hydrogen pressure, P-H2. Upon exposure to hydrogen in vacuum or in nitrogen, a much larger and much faster increase in current took place. However, the saturation Current was almost independent Of P-H2, and the current increase remained almost the same after the hydrogen was removed. The sensing mechanism is explained in terms of changes in SBH caused by interface dipoles formed at Pt/InP interfaces due to adsorbed atomic hydrogen. Transient waveforms and dependence of saturation current and transient time constant on P-H2 were explained quantitatively by a simple theory where processes including atomic hydrogen generation, transport; storage, adsorption, desorption, and reaction with oxygen are effectively included.

Embedded nanowire network growth and node device fabrication for GaAs-based high-density hexagonal binary decision diagram quantum circuits
T Tamura, Tamai, I, S Kasai, T Sato, H Hasegawa, T Hashizume
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 45, 4B, 3614, 3620, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2006年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The basic feasibility of constructing hexagonal binary decision diagram (BDD) quantum circuits on GaAs-based selectively grown (SG) nanowires was investigated front viewpoints of electrical connections through embedded nanowires and electrical-uniformity of devices formed on nanowires. For this, <(1) over bar 10 >- and < 510 >-oriented nanowires and hexagonal network structures combining these nanowires were formed on (001) GaAs substrates by selective molecular beam epitaxy (MBE) growth. The width and vertical position of the nanowires could be controlled by growth conditions for both <(1) over bar 10 >- and < 510 >-directions. By current-voltage (I-V) measurements, good electrical connection was confirmed at the node point where vertical alignment of embedded GaAs nanowire pieces was found to be important. SG quantum wire (QWR) switches formed on the nanowires showed good gate control over a wide temperature range with clear conductance quantization at low temperatures. Good device uniformities were obtained on the test chips, providing a good prospect for future integration. BDD node devices using SG QWR switches showed clear path switching characteristics. Estimated power-delay product values were very small, confirming the feasibility of ultra low-power operation of future circuits.

Precisely controlled anodic etching for processing of GaAs-based quantum nanostructures and devices
N Shiozaki, T Sato, M Akazawa, H Hasegawa
JOURNAL DE PHYSIQUE IV, 132, 249, 253, EDP SCIENCES S A, 2006年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, For controlled low-damage etching of AlGaAs/GaAs nanostructures. fundamental properties of an etching process consisting of anodic oxidation and subsequent oxide dissolution are investigated both theoretically and experimentally. Anodic oxides formed on GaAs (001) and (111)B surfaces have the same composition and the same anodization parameters according to XPS, SEM and AFM measurements. The same applies to those formed on Al(0.3)Gi(0.7)As (001) and (111)B surfaces. The etching depth can be precisely controlled in nanometer scale by the anodization voltage. Selective etching was realized, using the lithography patterns. The surface morphology is much better than that in the standard wet chemical etching.

Precisely controlled anodic etching for processing of GaAs-based quantum nanostructures and devices
N Shiozaki, T Sato, M Akazawa, H Hasegawa
JOURNAL DE PHYSIQUE IV, 132, 249, 253, EDP SCIENCES S A, 2006年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, For controlled low-damage etching of AlGaAs/GaAs nanostructures. fundamental properties of an etching process consisting of anodic oxidation and subsequent oxide dissolution are investigated both theoretically and experimentally. Anodic oxides formed on GaAs (001) and (111)B surfaces have the same composition and the same anodization parameters according to XPS, SEM and AFM measurements. The same applies to those formed on Al(0.3)Gi(0.7)As (001) and (111)B surfaces. The etching depth can be precisely controlled in nanometer scale by the anodization voltage. Selective etching was realized, using the lithography patterns. The surface morphology is much better than that in the standard wet chemical etching.

Electrochemical formation of chaotic and regular nanostructures on (001) and (111)B InP substrates and their photoluminescence characterizations
Toshiyuki Fujino, Takeshi Kimura, Taketomo Sato, Hideki Hasegawa, Tamotsu Hashizume
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, 4, 184, 191, 2006年02月10日, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to form various nanostructures on InP substrates using anodization process. Surprisingly wide varieties of nanostructures were obtained. They included zigzag pore arrays and chaotic porous structures on (111)B substrate, and quasi-periodic straight nanopore arrays on (001) substrate. Straight pore samples showed blue-shifted peaks due to quantum confinement whereas no clear energy shifts were observed in (111)B samples. Zigzag and straight pore samples also showed red-shifted PL emissions probably due to emission from surface state continuum. © 2006 The Surface Science Society of Japan.

Growth simulation and actual MBE growth of triangular GaAs nanowires on patterned (111)B substrates
Isao Tamai, Taketomo Sato, Hideki Hasegawa, Tamotsu Hashizume
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, 4, 19, 24, 2006年01月12日, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Attempts were made to further elaborate our experimental growth method and the theoretical growth simulation method for formation of AlGaAs/GaAs QWRs on the (111)B substrates, paying attention to Al composition dependence of growth. A series of repeated growth experiments were carried out on simple one-sided mesa patterns, and from their analysis of the results led to determination of parameter values needed for computer simulation based on the continuum model. The experimental evolution of the cross-sectional structures was well reproduced by simulation, not only on one-side mesa, but also on mesa stripes actually used for wire growth. Finally, an optimum growth design was derived for growth of an array of GaAs triangular QWRs with 40 nm base width on GaAs (111)B substrate by the simulation, and the actual growth experiment confirmed its realization. © 2006 The Surface Science Society of Japan.

Dynamics and control of recombination process at semiconductor surfaces, interfaces and nano-structures
Hideki Hasegawa, Taketomo Sato, Seiya Kasai, Boguslawa Adamowicz, Tamotsu Hashizume
SOLAR ENERGY, 80, 6, 629, 644, PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD, 2006年, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Characterization methods and fundamental aspects of surface/interface states and recombination process in Si and III-V materials are reviewed. Various measurement considerations are pointed out for the conventional metal-insulator-semiconductor (MIS) capacitance-voltage (C-P) method, a contactless C-V method, and the microscopic scanning tunneling spectroscopy (STS) method, and general features of surface states are discussed. Surface states are shown to have U-shaped distributions of donor acceptor continuum with a characteristic charge neutrality level, E-HO. Rigorous simulation of dynamics of surface recombination process has shown that the effective surface recombination velocity, S-eff, is not a constant of the surface, but its value changes by many orders of magnitude with the incident light intensity and the polarity and amount of fixed charge. From this, new methods of surface state characterization based on photoluminescence and cathodoluminescence are derived. Attempts to control surface states and Fermi level pinning at metal semiconductor interface and free surfaces of nano-structures are presented as efforts toward "nano-photovoltaics". (c) 2006 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Performance of electrodeposited Pt/InP Schottky diode as a hydrogen sensing head for InP-based wireless sensor chips
Takeshi Kimura, Hideki Hasegawa, Taketomo Sato, Tamotsu Hashizume
2006 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS CONFERENCE PROCEEDINGS, 443, +, IEEE, 2006年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Hydrogen-sensing performances of Pt/InP Schottky diodes and MESFETs are evaluated from a viewpoint of constructing a nanometer-scale hydrogen sensor head of a future wireless hydrogen sensor chip. To realize large Schottky barrier heights (SBHs), Pt films were deposited by a pulsed in-situ electrochemical process. Upon exposure to hydrogen in air, the Pt/InP Schottky diode exhibited remarkably large increase of forward and reverse currents. The sensing mechanism is explained in terms of SBH changes caused by interface dipole formed at Pt/InP interface due to the adsorbed atomic hydrogen. Quantitative relationships between response magnitude and speed have been established. The Pt/InP MESFET also showed hydrogen induced current changes, and their magnitudes were much larger than those of the Schottky diode. Based on these, a novel structure of a nanometer-scale hexagonal hydrogen sensing head is proposed.

Toward ultra-low power III-V quantum large scale integrated circuits for ubiquitous network era
Hasegawa Hideki, Kasai Seiya, Sato Taketomo
Frontiers in Electronics, 41, 2, 421, 436, 2006年, ［査読有り］

ゲートレス型AlGaN/GaN HEMTを利用した溶液センサ
古川拓也, 木村健, 佐藤威友, 葛西誠也, 長谷川英機, 橋詰保
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 105, 326(ED2005 139-156), 39, 42, 2005年10月07日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

RF‐MBE選択成長法を用いたAlGaN/GaN細線ネットワークの形成
及川武, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 105, 325(ED2005 118-138), 89, 92, 一般社団法人電子情報通信学会, 2005年10月06日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, 窒化物系量子細線ネットワーク構造の形成を目的とし、AlGaN/GaN細線構造のGaN(0001)加工基板上でのMBE選択成長を検討した。ECR-RIBEドライエッチングによりメサストライプ型とヘキサゴナルネットワーク型に加工した基板を初期基板として用いた。<1-100>方向と<11-20>方向に加工したメサストライプ型加工基板についてAl_<0.24>Ga_<0.76>Nを成長しテラス幅の変化を調べた結果、<11-20>方向で良好な選択性を示すことを見出した。試作した細線ネットワークはGaNバルク以外からも強いCL発光を示し、量子構造の形成を確認した。さらに細線断面形状の時間的発展やAl組成依存性について検討し、量子細線構造サイズや形状の制御性を明らかにした。

Embedded Nanowire Network Growth and Node Device Fabrication for GaAs-Based High-Density Hexagonal BDD Quantum Circuits
TAMAURA Takahiro, TAMAI Isao, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki, HASHIZUME Tamotsu
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2005, 152, 153, 2005年09月13日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Sensing Mechanism of InP Hydrogen Sensors Using Pt Schottky Diodes Formed by Electrochemical Process
KIMURA Takeshi, HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2005, 218, 219, 2005年09月13日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Growth kinetics and theoretical modeling of selective molecular beam epitaxy for growth of GaAs nanowires on nonplanar (001) and (111)B substrates
T Sato, Tamai, I, H Hasegawa
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 23, 4, 1706, 1713, A V S AMER INST PHYSICS, 2005年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The growth kinetics involved in the selective molecular beam epitaxy growth of GaAs quantum wires (QWRs) on mesa-patterned substrates is investigated in detail experimentally, and an attempt is made to model the growth theoretically, using a phenomenological continuum model. Experimentally, <-110 >-oriented QWRs were grown on (001) and (113)A substrates, and <-1-12 >-oriented QWRs were grown on (I I I)B substrates. From a detailed investigation of the growth profiles, it was found that the lateral wire width is determined by facet boundaries (FBs) within AlGaAs layers separating growth regions on top facets from those on side facets of mesa structures. Evolution of FBs during growth was complicated. For computer simulation, measured growth rates of various facets were fitted into a theoretical formula to determine the dependence of a lifetime of adatoms on the slope angle of the growing surface. The continuum model using the slope angle dependent lifetime reproduced the details of the experimentally observed growth profiles very well for growth on (001), (113)A, and (111)B substrates, including the complex evolution of facet boundaries (c) 2005 American Vacuum Society.

Effects of surface states and Si-interlayer based surface passivation on GaAs quantum wires grown by selective molecular beam epitaxy
N Shiozaki, T Sato, H Hasegawa
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 23, 4, 1714, 1721, A V S AMER INST PHYSICS, 2005年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Effects of surface states and surface passivation on photoluminescence (PL) properties of GaAs quantum wires (QWRs) are investigated. QWR samples were grown on (001) and (111)B substrates by the selective molecular beam epitaxy (MBE) method. For surface passivation, an ultrathin (about 1 nm) Si interface control layer (Si ICL) was grown by MBE as an interlayer. In both of the selectively grown QWRs on (001) and (111)B substrates, the PL intensity reduced exponentially with reduction of their wire-to-surface distance, being coexistent with a more gradual reduction due to carrier supply reduction. The exponential reduction was explained in terms of interaction between surface states and quantum confined states leading to tunneling assisted nonradiative recombination through surface states. Surface passivation by the Si-ICL method almost completely recovered PL intensities not only for QWRs on the (001) substrate, but also for QWRs on the (111)B substrate. (c) 2005 American Vacuum Society.

Investigation of Side-gating Effects in GaAs-based Quantum Wire Transistor (QWRTr) utilizing Nanosized Schottky Gates
JIA Rui, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 105, 110, 31, 36, 一般社団法人電子情報通信学会, 2005年06月03日
英語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, Side-gating effects inhibiting the high-density integration of devices GaAs-based quantum wire transistors (QWRTrs) with nanosized Schottky gates controlling etched nanowires were investigated experimentally. Side-gating behaviors depended on the distance between the side-gate and nanowire edge d_<sg>, and when d_<sg><500nm and nanowire mesa etching was shallow, the large side-gating effect occurred, which could not be explained by the electrostatic effect. At the same time, anomalously large side-gate leakage current due to electron tunneling was observed. Here, we propose a model for the ...

GaAs(111)B基板上に形成されたAlGaAs/GaAs量子構造のSi界面制御層による表面不活性化
赤沢正道, 塩崎奈々子, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 105, 110(ED2005 58-66), 25, 30, 一般社団法人電子情報通信学会, 2005年06月03日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, GaAs(111)B面上に形成した量子構造の表面を, Si界面制御層を用いて不活性化する方法について検討した.試料作製工程各段階における試料表面に対するXPSと, 作製された構造に対するPL測定を行った.GaAsおよびAlGaAs(111)B面の表面フェルミ準位位置はSi界面制御層の形成により伝導帯側へ移動した.また, 表面を不活性化していない試料においては, 表面と量子構造との距離の縮小に伴い量子構造からのPL発光強度が低下したが, Si界面制御層を用いて表面を不活性化した試料においては, 量子構造からのPL発光強度の回復が見られた.

Study on ECR dry etching and selective MBE growth of AlGaN/GaN for fabrication of quantum nanostructures on GaN (0001) substrates
T Oikawa, F Ishikawa, T Sato, T Hashizume, H Hasegawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 244, 1-4, 84, 87, ELSEVIER SCIENCE BV, 2005年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, This paper attempts to form AlGaN/GaN quantum wire (QWR) network structures on patterned GaN (0 0 0 1) substrates by selective molecular beam epitaxy (MBE) growth. Substrate patterns were prepared along < 1 1 2 0 > - and < 1 1 0 0 >-directions by electron cyclotron resonance assisted reactive-ion beam etching (ECR-RIBE) process. Selective growth was possible for both directions in the case of GaN growth, but only in the < 1 1 2 0 >-direction in the case of AlGaN growth. A hexagonal QWR network was successfully grown on a hexagonal mesa pattern by combining the < 1 1 2 0 >-direction and two other equivalent directions. AFM observation confirmed excellent surface morphology of the grown network. A clear cathodoluminescence (CL) peak coming from the embedded AlGaN/GaN QWR structure was clearly identified. (c) 2004 Published by Elsevier B.V.

Electrochemical processes for formation, processing and gate control of III-V semiconductor nanostructures
H Hasegawa, T Sato
ELECTROCHIMICA ACTA, 50, 15, 3015, 3027, PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD, 2005年05月, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, This paper reviews recent efforts by authors' group to utilize electrochemical processes for formation, processing and gate control of III-V semiconductor nanostructures. Topics include precise photo-anodic and pulsed anodic etching of InP, formation of arrays of < 001 >-oriented straight nanopores in n-type (001)InP by anodization and their possible applications and macroscopic and nanometer-scale metal contact formation on GaAs, InP and GaN by a pulsed in situ electrochemical process, which remarkably reduces Fermi level pinning. All the results indicate that electrochemical processes can achieve unique and important results, which the conventional semiconductor technology cannot realize, anticipating their increased importance in future semiconductor nanotechnology and nanoelectronics. (c) 2005 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Surface-related reduction of photoluminescence in GaAs quantum wires and its recovery by new passivation
N Shiozaki, S Anantathanasarn, T Sato, T Hashizume, H Hasegawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 244, 1-4, 71, 74, ELSEVIER SCIENCE BV, 2005年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Etched GaAs quantum wires (QWRs) and selectively grown (SG) QWRs were fabricated, and dependence of their photoluminescence (PL) properties on QWR width (W) and QWR distance to surface (d) were investigated. PL intensity greatly reduced with reduction of Wand d, due to non-radiative recombination through surface states. Surface passivation by growing a Si interface control layer (Si-ICL) on group III-terminated surfaces greatly improved PL properties. (c) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.

Electrochemical processes for formation, processing and gate control of III-V semiconductor nanostructures
H Hasegawa, T Sato
ELECTROCHIMICA ACTA, 50, 15, 3015, 3027, PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD, 2005年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, This paper reviews recent efforts by authors' group to utilize electrochemical processes for formation, processing and gate control of III-V semiconductor nanostructures. Topics include precise photo-anodic and pulsed anodic etching of InP, formation of arrays of < 001 >-oriented straight nanopores in n-type (001)InP by anodization and their possible applications and macroscopic and nanometer-scale metal contact formation on GaAs, InP and GaN by a pulsed in situ electrochemical process, which remarkably reduces Fermi level pinning. All the results indicate that electrochemical processes can achieve unique and important results, which the conventional semiconductor technology cannot realize, anticipating their increased importance in future semiconductor nanotechnology and nanoelectronics. (c) 2005 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Growth of AlGaN/GaN quantum wire structures by radio-frequency-radical-assisted selective molecular beam epitaxy on prepatterned substrates
T Sato, T Oikawa, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 44, 4B, 2487, 2491, JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, 2005年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The feasibility of the selective molecular beam epitaxy (MBE) growth of AlGaN/GaN quantum wire (QWR) Structures on prepatterned substrates is investigated. The detailed studies on growth features have revealed that size-reducing selective Growth is possible on mesa patterns having the (11-20)-orientation, but not on those having the (1-100)-orientations. The behavior reflects complex growth kinetics on high-index crystalline facets. The lateral wire width of QWR structures formed selectively on a top mesa can be controlled by adjusting the growth thickness and the initial size of mesa patterns. From cathodoluminescence (CL) measurements, emission from the embedded AlGaN/GaN QWR structure has been clearly identified.

Cross-sectional evolution and its mechanism during selective molecular beam epitaxy growth of GaAs quantum wires on (111)B substrates
Tamai, I, T Sato, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 44, 4B, 2652, 2656, JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, 2005年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The mechanism of the cross-sectional evolution during the selective growth of GaAs quantum wires (QWRs) on (111)B-patterned substrates was studied in detail both experimentally and theoretically. For this purpose, growth experiments were carried out on <-1-12 >-oriented wires by systematically changing growth conditions and pattern sizes. A detailed investigation on cross sections of wires has shown that the lateral wire width is determined by facet boundaries (FBs) within AlGaAs layers separating growth regions on top facets from those on side facets of mesa structures. FBs were found to be planar or curved, depending on initial pattern sizes and growth conditions. Computer simulation based on a phenomenological growth model was attempted, taking account of the facet-angle-dependent lifetime of adatoms. The simulation well reproduced the experimentally observed growth features including the evolution of FBs, indicating that the cross sections of wires grown on (111)B-patterned substrates are kinetically controlled by the pattern sizes and growth conditions.

量子細線ネットワークと論理回路応用
長谷川英機, 葛西誠也, 佐藤威友
応用物理, 74, 3, 320, 326, 2005年03月, ［査読有り］, ［招待有り］
日本語, 研究論文（学術雑誌）

MBE選択成長法を適用したGaAs BDD量子節点デバイスの作製と評価
田村隆博, 湯元美樹, 玉井功, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 104, 624(SDM2004 222-228), 19, 24, 一般社団法人電子情報通信学会, 2005年01月20日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, ヘキサゴナル二分決定グラフ(BDD)量子集積回路の実現に向け、MBE選択成長量子細線(SG QWR)ネットワーク技術を適用した量子細線スイッチおよびBDD量子節点デバイスの試作と評価を行った。作製したSG QWRスイッチは、<-011>、<510>両方向とも室温から低温まで通常のFETと同様な動作を示し、低温においては明瞭なコンダクタンスステップが確認された。詳細なゲート制御性を評価するためシュブニコフ-ド-ハース振動測定を行った結果、作製したSG QWRスイッチにおいてはショットキーラップゲート(WPG)の制御により良好なゲート制御性が得られた。2つの方向の細線を組合わせたY字型のBDD節点デバイスを試作し、明確なパススイッチング動作を実現した。また、デバイスのスイッチング速度と電力遅延時間積(PDP)の見積もりを行い、スイッチング速度τ=50ps、PDP=10^<-18>Jを得た。

RF-MBE選択成長法を用いたAlGaN/GaN細線ネットワークの形成　　　　　　　　　　　　　　　
及川 武, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰 保
電子情報通信学会技術研究報告，CPM, CPM2005, 134, 89, 92, 2005年
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

Electrodeposited Pt/InP Schottky barriers with large barrier heights and large hydrogen sensitivity for sensor chips using InP-Based uanturn wire networks
T Kimura, T Sato, T Hashizume, H Hasegawa
2005 International Conference on Indium Phosphide and Related Materials, 533, 536, IEEE, 2005年
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Pt Schottky diodes were fabricated on n-InP by pulsed electrodeposition, and their H-2 sensing properties were investigated. Deposition resulted in formation of Pt nanoparticles. As compared with diodes by vacuum deposition, electrodepositod diodes gave much higher Schottky barrier heights (SBHs) of 810 meV. They showed marked increase of the reverse current on exposure to H-2 gas in air. The magnitudes of current change and on-off transients depended on the partial pressure of H-2. The detection mechanism is explained in terms of SBH change caused by adsorption/desorption of atomic hydrogen at the Pt/semiconductor interface. Its behavior was strongly affected by the presence of oxygen in the atmosphere. Integration of the present sensor with a hexagonal quantum wire network is proposed for realization of a wireless hydrogen sensor chip.

ゲートレス型AlGaN/GaN -HEMTを利用した溶液センサ
古川拓也, 木村健, 佐藤威友, 葛西誠也, 長谷川英機, 橋詰保
電子情報通信学会技術研究報告，CPM, CPM2005, 134, 39, 42, 一般社団法人電子情報通信学会, 2005年
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, Al_<0.24>Ga_<0.76>N/GaNヘテロ構造を用いたゲートレスHEMTを作製し、pH応答を含む各種溶液に対する応答特性を調べた。このためにHEMT表面をSiO_2膜で保護し、窓開けしたゲート部を溶液に曝した。溶液中ではデバイスは、飽和カロメル参照電極でゲート制御された。各種溶液中で、通常のショットキーゲートHEMTと同様のドレインI-V特性が得られ、溶液を介しての良好なゲート制御が観測された。線形領域でのドレイン電流は、溶液のpH値の変化に対して線形的に変化し、pH値に対する表面ポテンシャルの変化率として50.4mV/pHという理論値に近い値が得られた。エタノールやアセトンなどの有極性溶液の中でも、溶液の種類に応じて、ゲートレスHEMTのドレイン電流が変化を示し、溶液のダイポール測定の可能性を示した。

Hexagonal binary decision diagram quantum circuit approach for ultra-low power III-V quantum LSIs
H Hasegawa, S Kasai, T Sato
IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS, E87C, 11, 1757, 1768, IEICE-INST ELECTRONICS INFORMATION COMMUNICATIONS ENG, 2004年11月, ［査読有り］, ［招待有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, A new approach for ultra-low-power LSIs based on quantum devices is presented and its present status and critical issues are discussed with a brief background review on the semiconductor nanotechnology. It is a hexagonal binary decision diagram (BDD) quantum logic circuit approach suitable for realization of ultra-low-power logic/mernory circuits to be used in new applications such as intelligent quantum (IQ) chips embedded in the ubiquitous network environment. The basic concept of the approach, circuit examples showing its feasibility, growth of high density nanostructure networks by molecular beam epitaxy (NIBE) for future LSI implementation, and the key processing issues including the device isolation issue are addressed.

Growth of AlGaN/GaN Quantum Wire Structures by RF-Radical Assisted Selective MBE on Pre-Patterned Substrates
SATO Taketomo, OIKAWA Takeshi, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2004, 814, 815, 2004年09月15日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Cross-Sectional Evolution and Its Mechanism during Selective MBE Growth of GaAs Quantum Wires on (111)B Substrates
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 2004, 880, 881, 2004年09月15日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Evolution mechanism of heterointerface cross-section during growth of GaAs ridge quantum wires by selective molecular beam epitaxy
T Sato, Tamai, I, S Yoshida, H Hasegawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 234, 1-4, 11, 15, ELSEVIER SCIENCE BV, 2004年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The mechanism determining heterointerface cross-sections is studied for GaAs ridge quantum wires (QWRs) grown by selective molecular beam epitaxy (MBE). Arrays of (-110)- and (-1-12)-orientated QWRs were grown on (001) and (111)B GaAs patterned substrates, respectively. A detailed investigation of cross-sections of wires has shown that the boundary planes appear on both sides of QWRs, keeping a constant angle, theta, with respect to the flat top of the substrate pattern, and they determine the lateral wire width. Their evolution mechanism has turned out to be a kinetic process, reflecting differences in migration and atom incorporation rates on different facets. Simple formulas for theta have been derived, and they have shown excellent agreements with experiment. This has led to precise kinetic control of the wire width by growth conditions. (C) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.

Growth kinetics and modeling of selective molecular beam epitaxial growth of GaAs ridge quantum wires on pre-patterned nonplanar substrates
T Sato, Tamai, I, H Hasegawa
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 22, 4, 2266, 2274, A V S AMER INST PHYSICS, 2004年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The growth kinetics involved in the selective molecular beam epitaxial growth of GaAs ridge QWRs is investigated in detail experimentally and an attempt is made to model the growth theoretically. For this purpose, detailed experiments were carried out on the growth of <110>-oriented AlGaAsGaAs ridge quantum wires on mesa-patterned (00 1) GaAs substrates. A phenomenological modeling was done based on the continuum approximation including parameters such as group III adatom lifetime, diffusion constant and migration length. Computer simulation using the resultant model well reproduces the experimentally observed growth features such as the cross-sectional structure of the ridge wire and its temporal evolution, its temperature dependence and evolution of facet boundary planes. The simple phenomenological model developed here seems to be very useful for design and precise control of the growth process. (C) 2004 American Vacuum Society.

Selective molecular beam epitaxy growth of GaAs hexagonal nanowire networks on (111)B patterned substrates
S Yoshida, Tamai, I, T Sato, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 43, 4B, 2064, 2068, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2004年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, In view of applications to hexagonal binary decision diagram (BDD) quantum circuits, the growth of hexagonal GaAs nanowire networks was attempted by selective molecular beam epitaxy (MBE) on (111)B prepatterned substrates. The basic feasibility of <112>-oriented straight nanowires was first investigated. GaAs nanowires were selectively formed on the top (111)B plane of AlGaAs mesa structures with high uniformity. The lateral width of the wires was determined by two facet boundary planes separating the growth regions on the top and the side facets of the mesa structures. The angle of the boundary planes remained constant during growth, resulting in the wire width being precisely controlled by the thickness of the AlGaAs barrier layer. Then, GaAs/AlGaAs hexagonal nanowire networks were grown on the patterned substrates consisting of three equivalent <112>-oriented wires for a (111)B plane. The results of detailed structural and optical studies showed that highly uniform and smoothly connected hexagonal nanowire networks having threefold symmetry were successfully fabricated by the present selective MBE growth technique.

内部交差量子細線構造の深さ分解/面内分布カソードルミネッセンス評価
石川史太郎, 及川武, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 51st, 3, 1540, 2004年03月28日
日本語

Formation of high-density GaAs hexagonal nano-wire networks by selective MBE growth on pre-patterned (001) substrates
Tamai, I, T Sato, H Hasegawa
PHYSICA E-LOW-DIMENSIONAL SYSTEMS & NANOSTRUCTURES, 21, 2-4, 521, 526, ELSEVIER SCIENCE BV, 2004年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to grow high-density GaAs hexagonal nano-wire networks on (001) patterned substrates by selective molecular beam epitaxy. To form a hexagon, (110)- and (510)-directions were combined. By the growth of straight wire arrays in each direction, the growth mode, conditions and mechanism were investigated. The wire width was shown to be determined for both directions by the facet boundary planes resulting from the growth rate difference on different facets. By optimizing growth conditions, highly uniform and smoothly connected hexagonal nano-wire networks with a density of 3 x 10(8) cm(-2) were successfully formed. (C) 2003 Elsevier B.V. All rights reserved.

Formation of high-density GaAs hexagonal nano-wire networks by selective MBE growth on pre-patterned (001) substrates
Tamai, I, T Sato, H Hasegawa
PHYSICA E-LOW-DIMENSIONAL SYSTEMS & NANOSTRUCTURES, 21, 2-4, 521, 526, ELSEVIER SCIENCE BV, 2004年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to grow high-density GaAs hexagonal nano-wire networks on (001) patterned substrates by selective molecular beam epitaxy. To form a hexagon, (110)- and (510)-directions were combined. By the growth of straight wire arrays in each direction, the growth mode, conditions and mechanism were investigated. The wire width was shown to be determined for both directions by the facet boundary planes resulting from the growth rate difference on different facets. By optimizing growth conditions, highly uniform and smoothly connected hexagonal nano-wire networks with a density of 3 x 10(8) cm(-2) were successfully formed. (C) 2003 Elsevier B.V. All rights reserved.

ヘキサゴナルBDD量子集積回路のための量子細線スイッチの特性
湯元美樹, 田村隆弘, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 103, 631(SDM2003 213-221), 15, 19, 一般社団法人電子情報通信学会, 2004年01月30日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, ヘキサゴナル二分決定グラフ(BDD)論理アーキテクチャの大規模集積回路への応用を考え、分子線エピタキシー(MBE)法により形成された選択成長(SG)埋め込み量子細線(QWR)を用いて量子BDD節点デバイスを実現する手法を提案し、デバイスの試作・評価を行った。MBE選択成長により形成したGaAs系量子細線デバイスにプロセスを施すことにより、ショットキーラップゲート(WPG)で細線内のポテンシャル制御を行うSG QWR枝スイッチの作製に成功した。SG QWR枝スイッチのゲート制御特性をシュブニコフ・ド・ハース(SdH)振動測定を用いて評価し、その動作がエッチング細線型QWR枝スイッチと類似することを明らかにした。作製したSG QWR枝スイッチは、低温において明瞭な量子化コンダクタンスを実現し、コンダクタンスステップ傾きの温度依存性を調べた。2個のSG QWR枝スイッチを有するY字型のBDD節点デバイスを試作し、明確なパススイッチング動作を実現した。

(111)B加工基板上へのMBE選択成長によるGaAsヘキサゴナル量子細線ネットワークの形成
吉田崇一, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 103, 630(SDM2003 207-212), 23, 28, 一般社団法人電子情報通信学会, 2004年01月29日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, 本研究では、二分決定グラフ量子回路への応用を目指し、GaAs(111)B加工基板上へのMBE選択成長法により、(111)面のもつ三回対称性を利用した、GaAsヘキサゴナル量子細線ネットワークの形成と評価を行った。まず、<112>方向細線の作製を行い、細線幅の制御性に関して調査をおこなった。 GaAs細線はメサ頂上部(111)B面上に均一かつ選択的に形成され、そのサイズは成長条件により制御可能である。次に、MBE選択成長法によりヘキサゴナルネットワーク構造の作製を試みた。詳細な構造評価および光学特性の評価から、成長条件の最適化により、MBE選択成長法を用いて、広範囲で均一なヘキサゴナル細線が形成可能であることがわかった。

Fabrication of BDD quantum node switches on embedded GaAs quantum wires grown by selective MBE
M Yumoto, T Tamura, T Sato, H Hasegawa
SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES, 34, 3-6, 485, 491, ACADEMIC PRESS LTD ELSEVIER SCIENCE LTD, 2003年09月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, In view of applications to hexagonal binary decision diagram (BDD) LSIs, a first attempt is made to form quantum BDD node switches on selectively grown (SG) embedded quantum wires (QWRs) by molecular beam epitaxy (MBE). SG branch switches controlled by a Schottky wrap gate (WPG) were successfully fabricated by MBE growth and subsequent device processing. Gate control characteristics were studied by gate-dependent Shubnikov-de-Haas measurements, and the behavior was found to be similar to that of devices fabricated on wires by etching. The switch exhibited clear conductance quantization at low temperature, and temperature dependence of the voltage slope of conductance jump was clarified. A Y-branch BDD node device using two SG branch switches was successfully fabricated, and realized clear path switching characteristics. (C) 2004 Elsevier Ltd. All rights reserved.

MBE選択成長法によるヘキサゴナルGaAs細線ネットワークの作製と評価
佐藤威友, 玉井功, 吉田崇一, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 103, 117(ED2003 50-57), 29, 34, 一般社団法人電子情報通信学会, 2003年06月13日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, MBE選択成長法を用いてGaAs(001)、(111)B加工基板上に、GaAsリッジ細線およびヘキサゴナル細線ネットワークの形成を試みた。メサストライプ加工基板上にAlGaAs/GaAs/AlGaAs構造を成長すると、AlGaAsリッジ頂上部に選択的に埋め込み型GaAs細線が形成される。GaAsリッジ細線の幅は、リッジを構成する2つの結晶面の材料成長速度の差から幾何学的に決定され、初期基板の加工寸法と成長条件により制御可能であることが明らかとなった。(001)面上では<-110>方向と2つの<510>方向細線、(111)B面上では対称な3つの<-1-12>方向細線を組み合わせることにより、広範囲にわたって均一なGaAsヘキサゴナル細線ネットワークが形成可能であることが分かった。

MBE選択成長法によるGaAsリッジ量子細線の形成とヘキサゴナル細線ネットワークへの応用
佐藤威友, 玉井功, 吉田崇一, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 102, 640(SDM2002 244-251), 27, 32, 一般社団法人電子情報通信学会, 2003年02月10日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, MBE選択成長法を用いてGaAs(001)加工基板上に、GaAsリッジ細線およびヘキサゴナル細線ネットワークの形成を試みた。<-110>方向および<510>方向に沿ったメサストライプ基板上にAlGaAs/GaAs/AlGaAs構造を成長すると、埋め込み型GaAs細線がAlGaAsリッジ頂上部に選択的に形成される。細線形成過程を詳細に調べた結果、GaAsリッジ細線の幅は、リッジを構成する2つの結晶面の材料成長速度の差から幾何学的に決定され、初期基板の加工寸法と成長条件により制御可能であることが明らかとなった。これをもとに、<-110>方向と<510>方向からなる六角形パターン上へ選択成長することにより、広範囲にわたって均一なGaAsヘキサゴナル細線ネットワークが形成可能であることが分かった。

Effects of surface states on control characteristics of nano-meter scale Schottky gates formed on GaAs
A Kameda, S Kasai, T Sato, H Hasegawa
SOLID-STATE ELECTRONICS, 47, 2, 323, 331, PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD, 2003年02月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Effects of surface states on gate control characteristics of nano-meter scale Schottky gates formed on GaAs are investigated both theoretically and experimentally. Special sample structures are used. They are metal-insulator-semiconductor structures having nano-meter scale Schottky dot arrays for capacitance-voltage (C-V) measurements and metal-semi-conductor field effect transistor structures having nano-meter scale grating Schottky gates for current-voltage (I-V) measurements. Measured C-V and I-V results are compared with results of theoretical calculation on a computer.
The effects of surface states are found to be two-fold. Namely, it is shown that control characteristics of nano-meter scale Schottky gates are strongly degraded by the presence of Fermi level pinning caused by surface states on the free surface surrounding the gate. It is also shown that a significant amount of gate-induced lateral charging of surface states takes place around the gate periphery, effectively increasing the gate dimension. These results indicate the critical importance of control of surface states in nano-devices using nano-meter scale Schottky gates. (C) 2002 Elsevier Science Ltd. All rights reserved.

Selective MBE growth of GaAs ridge quantum wire arrays on patterned (001) substrates and its growth mechanism
T Sato, Tamai, I, H Hasegawa
COMPOUND SEMICONDUCTORS 2002, 174, 3, 145, 148, IOP PUBLISHING LTD, 2003年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Selective MBE growth of an array of <-110>-oriented GaAs ridge QWRs was attempted on pre-patterned (001) substrates. Arrow-head shaped GaAs QWRs were selectively formed on the top (I 13)A facets of GaAs ridge structures. The underlying growth mechanism was clarified, and based on this, the wire width could be kinetically controlled by the growth process.

Prospects of III-V quantum LSIs based on hexagonal BDD approach
Seiya Kasai, Taketomo Sato, Hideki Hasegawa
2003 International Semiconductor Device Research Symposium, ISDRS 2003 - Proceedings, 482, 483, Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 2003年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Explosive growth of intemets and wireless telephones starting in the late 20th century has opened up prospects towards an advanced ubiquitous network society. This also opens up new directions in the device research in addition to the continued efforts of scale down of Si CMOS device along the roadmap.

Electrochemical formation of self-assembled InP nanopore arrays and their use as templates for molecular beam epitaxy growth of InGaAs quantum wires and dots
T Hirano, A Ito, T Sato, F Ishikawa, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 41, 2B, 977, 981, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2002年02月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to optimize the parameters of the electrochemical process to form uniform nanopore arrays and utilize them as templates for molecular beam epitaxy (MBE) growth of InP-based quantum wires and quantum dots. Template parameters such as pore depth, diameter and period were strongly dependent on anodization conditions. In particular, in the pulsed anodization mode, the pore depth could be well controlled in the nanometer range by adjusting the number of the applied pulses. InGaAs MBE growth was attempted using the nanopore templates. Growth of InGaAs in pores occurred at a substantial depth of about 20-60 nm. The measured photoluminescence (PL) spectra had a new peak at about 1.2 eV in addition to the PL emission from the InP substrate and that from the InGaAs top layer. The new peak was tentatively assigned to the peak arising from InGaAs quantum wire arrays embedded in InP pores with a possible alloy composition change.

MBE選択成長法によるGaAs/AlGaAs量子細線の形成とその結合ネットワークへの応用
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 101, 617(ED2001 224-231), 15, 20, 2002年01月28日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

電気化学的手法によるInPポーラス構造の形成と応用
平野哲郎, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 101, 617(ED2001 224-231), 49, 54, 2002年01月28日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

MBE選択成長法によるGaAs/AlGaAs量子細線の形成とその結合ネットワークへの応用　　　　　　　　　　　　　　　
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
電子情報通信学会研究会技術研究報告, ED2001, 101/617, 15, 20, 2002年
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

Selective MBE growth of GaAs/AlGaAs nanowires on patterned GaAs (001) substrates and its application to hexagonal nanowire network formation
T Sato, Tamai, I, C Jiang, H Hasegawa
COMPOUND SEMICONDUCTORS 2001, 170, 170, 325, 330, IOP PUBLISHING LTD, 2002年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Feasibility of formation of GaAs/AlGaAs hexagonal nanowire networks by selective MBE growth on patterned (001) substrates is investigated. First, the process for forming <(1) over bar 10>-oriented straight QWR arrays is studied and optimized with respect to wire shape, size and uniformity. SEM and PL studies showed that arrow-head shaped GaAs nanowires can be formed on the top of (113) AlGaAs ridge with excellent size controllability and high uniformity. Feasibility study of hexagonal nanowire network formation by combining different pattern orientations has shown combination of <(1) over bar 10>- and <510>- directions is most promising.

Selective MBE Growth of <-110>- and <510>- Oriented GaAs Ridge Quantum Wires on Patterned (001) Substrates for Formation of Hexagonal Nanowire Networks　　　　　　　　　　　　　　　
Sato Taketomo, Tamai Isao, Jiang Chao, Hasegawa Hideki
The Second International Workshop on Quantum Nonplanar Nanostructures & Nanoelectronics, 283, 286, 2002年
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

電気化学的手法によるInPポーラス構造の形成と応用　　　　　　　　　　　　　　　
平野 哲郎, 佐藤 威友, 長谷川 英機
電子情報通信学会研究会技術研究報告, ED2001, 101-617/, 49, 54, 2002年
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成とその応用(2)
平野哲郎, 佐藤威友, 伊藤章, 石川史太郎, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 62nd, 3, 1059, 2001年09月11日
日本語

Current transport and capacitance-voltage characteristics of GaAs and InP nanometer-sized Schottky contacts formed by in situ electrochemical process
T Sato, S Kasai, H Hasegawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 175, 181, 186, ELSEVIER SCIENCE BV, 2001年05月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts which were successfully formed on n-GaAs and n-InP substrates by a combination of an electrochemical process and an electron-beam (EB) lithography. were characterized both experimentally and theoretically. The detailed I-ri measurements using a conductive AFM system showed nonlinear log I-ii characteristics with large n value in range of 1.2-2.0 which cannot be explained by a standard 1D thermionic emission model. A computer simulation showed that this nonlinear characteristics can be explained by a new 3D thermionic emission model where Fermi-level pinning on the surrounding free surface modifies the potential distribution underneath the nano-contact. Calculation of C-V characteristics showed an extremely small change of the depletion layer width with bias due to the environmental Fermi-level pinning. On the other hand, it was also found that Fermi-level pinning at the metal-semiconductor interface itself is greatly reduced, resulting in a strong dependence of barrier height on the metal workfunction. (C) 2001 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成とその応用
平野哲郎, 佐藤威友, 伊藤章, 石川史太郎, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 48th, 3, 1378, 2001年03月28日
日本語

Electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts for gate control of III-V single electron devices and quantum devices
T Sato, S Kasai, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 40, 3B, 2021, 2025, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2001年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts formed on n-GaAs and n-InP substrates by an in situ electrochemical process were studied both experimentally and theoretically to understand and improve their gate control behavior in single electron devices and quantum devices. From the current-voltage (I-V) measurements using a conductive atomic force microscope (AFM) system, the nano-Schottky contacts showed nonlinear log I-V characteristics with large and voltage-dependent n values which cannot be explained by the 1D thermionic emission model. The behavior was explained by a novel 3D thermionic emission model including 3D potential distribution modified by an environmental Fermi-level pinning. The depletion characteristics were calculated on the basis of the new model including the environmental effects. The results showed small changes of the depletion layer width with a bias underneath the nano-Schottky contacts due to the environmental Fermi-level pinning. Control of Fermi-level pinning is thus crucial to obtain nano devices in the quantum regime that exhibit good behavior.

Electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts for gate control of III-V single electron devices and quantum devices
T Sato, S Kasai, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 40, 3B, 2021, 2025, INST PURE APPLIED PHYSICS, 2001年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts formed on n-GaAs and n-InP substrates by an in situ electrochemical process were studied both experimentally and theoretically to understand and improve their gate control behavior in single electron devices and quantum devices. From the current-voltage (I-V) measurements using a conductive atomic force microscope (AFM) system, the nano-Schottky contacts showed nonlinear log I-V characteristics with large and voltage-dependent n values which cannot be explained by the 1D thermionic emission model. The behavior was explained by a novel 3D thermionic emission model including 3D potential distribution modified by an environmental Fermi-level pinning. The depletion characteristics were calculated on the basis of the new model including the environmental effects. The results showed small changes of the depletion layer width with a bias underneath the nano-Schottky contacts due to the environmental Fermi-level pinning. Control of Fermi-level pinning is thus crucial to obtain nano devices in the quantum regime that exhibit good behavior.

Effects of surface fermi level pinning and surface state charging on control characteristics of nanometer scale Schottky gates formed on GaAs
A Kameda, S Kasai, T Sato, H Hasegawa
2001 INTERNATIONAL SEMICONDUCTOR DEVICE RESEARCH SYMPOSIUM, PROCEEDINGS, 626, 629, IEEE, 2001年
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Electrochemical formation of self-assembled nanopore arrays as templates for MBE growth of InP-based quantum wires and dots
T Hirano, A Ito, T Sato, F Ishikawa, H Hasegawa
2001 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS, CONFERENCE PROCEEDINGS, 378, 381, IEEE, 2001年
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, In this study, attempts were made to optimize the parameters of the electrochemical process to form uniform nanopore arrays in order to utilize them as templates for MBE growth of InP-based quantum wires and quantum dots. Template parameters such as the pore depth, diameter and period were strongly dependent on anodization conditions. Especially, in the pulsed anodization mode, the pore depth could be well controlled in the nanometer range by changing the number of the applied pulses. InGaAs MBE growth was attempted using the nanopore templates. Growth of InGaAs in pores took place into a substantial depth of about 100-200 nm. The measured PL spectrum had a new peak at about 1.2 eV in addition to the PL emission from the InP substrate and that of InGaAs top layer. The new peak was tentatively assigned to be from InGaAs quantum wire arrays embedded in InP pores with a possible alloy composition change.

Unpinning of Fermi level in nanometer-sized Schottky contacts on GaAs and InP
H Hasegawa, T Sato, S Kasai
APPLIED SURFACE SCIENCE, 166, 1-4, 92, 96, ELSEVIER SCIENCE BV, 2000年10月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Transport properties of two types of electrochemically produced nanometer-sized GaAs and InP Schottky contacts were investigated. One is macroscopic contacts containing many nano-dots and the other is isolated single-dot contacts. Macroscopic contacts showed near ideal thermionic emission characteristics with ideality factors close to unity. I-V characteristics of single nano-dor, contacts directly measured by a conductive AFM probe showed nonlinear log I-V behavior with large and voltage-dependent ideality factors. The latter was explained by potential profile modification due to Fermi level pinning on surrounding free surfaces. Both types of contacts indicated that Fermi level pinning disappears as the dot size is reduced, indicating that strong Fermi level pinning is not intrinsic to Schottky contacts. (C) 2000 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

Electrical properties of nanometer-sized Schottky contacts on n-GaAs and n-InP formed by in situ electrochemical process
T Sato, S Kasai, H Okada, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 39, 7B, 4609, 4615, JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, 2000年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The current transport characteristics of nanometer-sized Schottky contacts were investigated from theoretical and experimental viewpoints. A theoretical calculation of the three dimensional (3D) potential distributions showed that the potential shape underneath the nano-Schottky contacts was considerably modified by the surface Fermi level pinning on the air exposed free surfaces, producing a saddle point in the potential. The curl ent-voltage (I-V) curves were strongly influenced by this saddle point potential and resulted in nonlinear log I-V characteristics. Experimentally, the Pt nano-particles were selectively formed using the in situ electrochemical process on n-type GaAs and n-type InP substrates patterned using electron-beam (EB) lithography. Their I-V measurements were carried out using an atomic force microscopy (AFM) system equipped with a conductive probe. The log I-V curves of the nano-Schottky contacts showed nonlinear characteristics with large n values of 1.96 for n-GaAs and 1.27 for n-InP and could be very well explained by the theoretical I-V curves considering the "environmental" Fermi level pinning.

Electrochemical formation of uniform and straight nano-pore arrays on (001) InP surfaces and their photoluminescence characterizations
H Fujikura, AM Liu, A Hamamatsu, T Sato, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 39, 7B, 4616, 4620, JAPAN J APPLIED PHYSICS, 2000年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Recently, (001)-oriented nanometer-sized pores (nano-pores) without side branches, unlike porous Si, have been realized by our group on (001) n-InP surfaces by means of electrochemical anodization in 1M HCl solution. However, they exhibit large structural nonuniformity including the presence of an irregular top layer, random pore positioning and wavy pore walls. In this study, attempts have been made to improve pore uniformity and to clarify their optical properties. Anodization in 1M HCl + HNO3 solution realized highly uniform nano-pore arrays consisting of square-shaped straight pores defined by four crystalline (011) facets. This improvement is explained in terms of preferential etching along the vertical (001)-direction at the pore tip due to the slow etching rate along the lateral (011)-direction as well as the uniform supply of reactant species to pore tips realized by the removal of the irregular top layer during the anodization process. The nano-pore arrays show strong blue- and red-shifted photoluminescence emissions at high and low temperatures, respectively. These are assigned as emissions due to the transition between electron and hole quantum states inside the pore walls and that involving a broad surface state continuum at pore wall surfaces, respectively.

電気化学プロセスを用いたナノショットキー電極の形成と電気的評価
佐藤威友, 葛西誠也, 岡田浩, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 99, 616(ED99 306-318), 79, 84, 一般社団法人電子情報通信学会, 2000年02月10日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, ナノショットキー接触界面の電気的特性を、理論的および実験的立場から検討した。計算機シュミレーションの結果から、ナノショットキー界面直下のポテンシャル形状は電極周囲の影響を強く受け、電流輸送特性は、マクロなショットキー接触とは異なる熱電子放出電流特性を示すことが明らかとなった。このような周囲の影響は、半導体自由表面のフェルミ準位のピンニング現象に起因し、電極サイズが減少するほど顕著になる。一方、電気化学プロセスを用いて作製したナノショットキー接触の電気的特性を導電性AFMで評価した結果、電流・電圧特性はシュミレーション結果と良く一致し、周囲のフェルミ準位のピンニングがナノショットキー接触の電流輸送に大きな影響を与えることがわかった。

Self-assembled formation of InP nanopore arrays by electrochemical anodization
H Fujikura, AM Liu, T Sato, T Hirano, H Hasegawa
2000 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS, CONFERENCE PROCEEDINGS, 510, 513, IEEE, 2000年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, High density, uniform arrays of (001)-oriented straight nanopores were successfully formed on (001) n-InP surfaces in a self-assembled fashion by electrochemical anodization in 1M HCl + HNO3 solution. Unlike porous Si, the pores do not have side branches and possessed nearly equal-sized square-shapes defined by four crystalline flat (110) facets. Preferential etching along vertical (001)-direction due to slow etching rates on (110) side facets may be responsible for formation of such a uniform structure. At low temperature, the nanopore arrays showed strong red-shifted photoluminescence (PL) emission probably due to a transition involving a broad surface state continuum at the pore wall surfaces. On the other hand, a strong blue-shifted PL emission was observed at room temperature, confirming presence of quantum size effect in the pore walls as expected from the structural observations.

Properties of nanometer-sized metal-semiconductor interfaces of GaAs and InP formed by an in situ electrochemical process
H Hasegawa, T Sato, C Kaneshiro
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 17, 4, 1856, 1866, AMER INST PHYSICS, 1999年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, The properties of GaAs and InP Schottky diodes having nanometer-sized metal dots were investigated in order to clarify whether or not strong Fermi level pinning is an intrinsic property of the metal-semiconductor interface. Macroscopic Schottky diode samples having many nanometer-sized metal dots as well as single-dot Schottky diode samples were prepared by an in situ electrochemical process which consisted of pulsed anodic etching of the semiconductors followed by subsequent de or pulsed cathodic deposition of the metal. Strong Fermi level pinning was not seen in the GaAs and InP macroscopic samples. The Schottky barrier height SBH values were strongly dependent on the metal work function and on the electrochemical processing conditions. Of particular interest, the difference in the dot size changed the SBH almost 340 meV in Pt/InP macroscopic Schottky diodes, indicating that Fermi level pinning disappears as the dot size is sufficiently reduced. X-ray photoelectron spectroscopy and Raman measurements indicated that these interfaces are oxide and stress free. Use of an atomic force microscope with a conductive probe allowed direct I-V measurements on single-dot samples. The metal work function and dot size dependencies of the SBHs in these samples were similar to those in macroscopic samples. Large ideality factors observed in the single-dot sample were explained in terms of environmental Fermi level pinning which produces a saddle point potential. The metal work function dependence of the SBHs measured as well as the relationship between the SBH and the ideality factor were both far from what was found in recent predictions based on the metal-induced gap state model. All the experimental results were consistently explained by the disorder-induced gap state model which asserts that strong Fermi level pinning is an extrinsic property of the metal-semiconductor interface. (C) 1999 American Vacuum Society. [S0734-211X(99)04704-6].

パルスモード電気化学プロセスによる化合物半導体へのナノショットキー接触の形成と評価
佐藤威友, 岡田浩, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 99, 21(ED99 1-10), 39, 44, 一般社団法人電子情報通信学会, 1999年04月22日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, 電気化学プロセスと電子ビーム(EB)リソグラフィを組み合わせた独自のプロセスで、ナノメーターサイズのショットキー接触を形成することに成功した。最適なパルス条件を用いた電気化学プロセスでは、平均粒径26nmの均一なPt微粒子が自己形成的にn-InP表面に生成し、その時、最も高い障壁高さ(0.86eV)が得られた。このパルス条件を用いて、EBリソグラフィを施したInA1As基板上に、きのこ型Ptゲート電極を作製することに成功した。さらに、周期的な円形パターンを用いることで、直径30nmのPtドットアレイを選択的に形成することに成功した。また、導電性プローブを有する原子間力顕微鏡(AFM)を用いた電気的許価の結果、単一のPtドットに対しショットキー障壁が形成していることが明らかとなった。

Formation of size- and position-controlled nanometer size Pt dots on GaAs and InP substrates by pulsed electrochemical deposition
T Sato, C Kaneshiro, H Okada, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 38, 4B, 2448, 2452, JAPAN J APPLIED PHYSICS, 1999年04月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Attempts were made to form regular arrays of size- and position-controlled Pt-dots on GaAs and InP by combining an ir? situ electrochemical process with the electron beam (EB) lithography. This utilizes the precipitation of Pt nano-particles at the initial stage of electrodeposition. First, electrochemical conditions were optimized in the mode of self-assembled dot array formation on unpatterned substrates. Minimum in-plane dot diameters of 22 nm and 26 nm on GaAs and InP. respectively, were obtained under the optimal pulsed mode. Then, Pt dots were selectively formed on patterned substrates with open circular windows formed by EB lithography, thereby realizing dot-position control. The Pt dot was round to have been deposited at the center of each open window, and the in-plane diameter of the dot could be controlled by the number, width and period of the pulse-waveform applied to substrates. A minimum diameter of 20 nm was realized in windows with a diameter of 100 nm, using a single pulse. Current-voltage (I-V) measurements using an atomic force microscopy (AFM) system with a conductive probe indicated that each Pt dot/n-GaAs contact possessed a high Schottky barrier height of about 1 eV.

The strong correlation between interface microstructure and barrier height in Pt/n-InP Schottky contacts formed by an in situ electrochemical process
T Sato, C Kaneshiro, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 38, 2B, 1103, 1106, JAPAN J APPLIED PHYSICS, 1999年02月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, In order to investigate the correlation between the microstructure of a metal/semiconductor (M/S) interface and the Schottky barrier height (SBH), Pt Schottky contacts were formed on n-type InP by an in situ electrochemical process under various electrochemical conditions; they were then investigated using scanning electron microscopy (SEM), current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) measurements. Electrodeposition resulted in the formation of arrays of nanometer-sized Pt particles whose distribution strongly depended on electrochemical conditions. The SBH values exhibited a strong correlation with the particle distribution, leading to a high SBH value of 0.86 eV under the condition of the most uniform distribution of the smallest particles. The result is discussed from the viewpoint of the disorder-induced gap state (DIGS) model.

Electrochemical etching of indium phosphide surfaces studied by voltammetry and scanned probe microscopes
C Kaneshiro, T Sato, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 38, 2B, 1147, 1152, JAPAN J APPLIED PHYSICS, 1999年02月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Using voltammetry, X-ray photoemission spectroscopy (XPS), in situ electrochemical scanning tunneling microscopy (STM), ex situ atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscope (SEM) measurements, electrochemical etching modes for n-InP surfaces were investigated and optimized for uniform and controlled etching in an HCl electrolyte. The voltammograms indicated the presence of active and passive regions. The surfaces obtained in the active region were clean and featureless with an rms roughness of 1.8 nm. On the other hand, the oxide cove:red surfaces obtained in the passive region were nonuniform and porous. Etching characteristics of the d.c. photo-anodic mode and the pulsed avalanche mode were then investigated and compared. Both modes were found to be highly controllable and produced uniform and clean surfaces, consuming eight holes per molecule of InP. In particular, the pulsed avalanche etching mode realized an extremely high etch depth controllability of 3 x 10(-5) nm/pulse.

Realization of strongly metal-dependent Schottky barrier heights on n-GaAs by in situ electrochemical process
C Kaneshiro, T Sato, H Hasegawa
COMPOUND SEMICONDUCTORS 1998, 162, 585, 590, IOP PUBLISHING LTD, 1999年, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, K Ni, Co and Sn Schottky barriers were formed on n-GaAs by an in situ electrochemical process which consists of anodic etching and subsequent metal deposition in the same electrolyte. All the fabricated diodes showed nearly ideal thermionic emission transport. The Schottky barrier heights were found to be strongly dependent on the metal work function, giving a large value of slope factor of S=0.18-0.55. The result was far away from the recent prediction based on MIGS model. Based on SEM/AFK XPS and Raman measurements, the result was explained by the DIGS model.

GaAs-based single electron logic and memory devices using electrodeposited nanometer Schottky gates
Hiroshi Okada, Taketomo Sato, Kei-ichiroh Jinushi, Hideki Hasegawa
Microelectronic Engineering, 47, 1-4, 285, 287, 1999年

Formation of Size- and Position-Controlled Nanometer Size Pt Dots on GaAs and InP Substrates by Pulsed Electrochemical Deposition
SATO Taketomo, KANESHIRO Chinami, OKADA Hiroshi, HASEGAWA Hideki
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 1998, 74, 75, 1998年09月07日
英語

電気化学プロセスによる化合物半導体ショットキー接合の形成と界面制御
兼城千波, 佐藤威友, 小山雄司, 橋詰保, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 98, 185(ED98 84-97), 55, 60, 一般社団法人電子情報通信学会, 1998年07月22日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, 金属イオンを含む電界溶液中において、GaAsなどの化合物半導体表面をエッチングし、引き続き同一液中で金属膜の堆積(めっき)を行い、ショットキー接合の形成を行った。作製したダイオードの電気的特性はほぼ理想的なショットキー特性を示した。金属析出の初期過程では、20-30nmの大きさをもつ金属粒子が半導体表面に堆積する。さらに、金属堆積の初期過程及び電気的特性の評価により、ダメージフリー、ストレスフリーの制御された接合界面が本プロセスにより実現できることが明らかとなった。また、作製したダイオードの障壁高さは、これまでの報告よりも仕金属事関数依存性が強いことがわかり、ピンニングの緩和したショットキー界面が形成されている可能性が示された。

電気化学プロセスによる金属ドットアレイの作製
佐藤威友, 兼城千波, 岡田浩, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 98, 184(ED98 76-83), 21, 26, 一般社団法人電子情報通信学会, 1998年07月21日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, 電気化学プロセスと電子ビーム(EB)リソグラフィを用い、n-GaAs上にPtドットアレイを形成した。EBリソグラフィで金属析出部分を制限することで、金属析出の初期表面に見られる直径数10nmの金属微粒子の位置制御が可能である。パルス条件を適切に選ぶことで、EBリソグラフィによる直径100nm、周期200nmのドットパターンの中心部に、直径20nmのPt微粒子の形成が可能となった。また、導電性プローブを有する原子間力顕微鏡(AFM)を用いた電気的特性の評価の結果、Pt微粒子/n-GaAs界面の電流-電圧特性は整流性を示し、ショットキー障壁が形成されているものと考えられる。

Strong correlation between interface microstructure and barrier height in N-InP Schottky contacts formed by in situ electrochemical process
T Sato, C Kaneshiro, H Hasegawa
1998 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS - CONFERENCE PROCEEDINGS, 623, 626, IEEE, 1998年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, InP and related materials are attractive materials for high speed electronic and optoelectronic devices. Technologically, well-controllable metal/semiconductor (M/S) interface with high Schottky barrier heights (SBHs) in nano-scale are required for the realizability and the high reliability of nano-scaled electronic devices. However, metal/n-InP contacts generally produces low SBH values of typically about 450meV. SBH values can not be increased by using contact metals with large workfunctions due to so-called Fermi-level pinning. In contrast to this, we have recently shown that the SBH value of the Pt/n-InP contacts can be increased up to 860meV[1] by using an in situ pulsed electrochemical process. This process has also been shown to be useful for the Schottky gate formation for MESFETs and HEMTs[2,3].
The purpose of this paper is to optimize the electrochemical process for high SBHs by investigating the correlation between the microstructures of metal/n-InP interfaces having nano-scale metal particles and the SBHs.

Highly controllable electrochemical etching of InP studied by voltammetry and scanned probe microscope
C Kaneshiro, T Sato, H Hasegawa
1998 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS - CONFERENCE PROCEEDINGS, 191, 194, IEEE, 1998年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Electrochemical etching of n-InP surfaces is studied by using voltammetry, XPS, in situ electrochemical STM, ex situ AFM and SEM measurements in order to characterize and optimize the etching process. The voltammograms indicated occurrence of the active-passive transition. The surfaces etched by the optimal anodic condition were clean and featureless with an rms roughness of 2.5 nm, whereas the surfaces obtained in the passive region were porous. The optimum avalanche pulse etching mode realized an extremely high etch depth controllability of 6 x 10(-5) nm/pulse.

Electrochemical formation and characterization of Schottky in-plane and wrap gate structures for realization of GaAs- and InP-based quantum wires and dots
H Hasegawa, T Sato, H Okada, K Jinushi, S Kasai, Y Satoh
APPLIED SURFACE SCIENCE, 123, 335, 338, ELSEVIER SCIENCE BV, 1998年01月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, In order to realize high temperature operating quantum devices, this paper attempts to form nm-size Schottky in-plane gate (IPG) and wrap gate (WPG) structures on GaAs- and InP-based nanostructures by an in-situ electrochemical process. Pulsed electrodeposition of Pt was found to be optimal, realizing nearly pinning-free high Schottky barrier heights as well as fine and highly uniform nm-size grains with minimal stress. Using the optimized process, quantum wire transistors and single electron transistors were successfully realized on GaAs etched 2DEG bars and on MBE grown InGaAs ridge quantum wires. (C) 1998 Elsevier Science B.V.

電気化学プロセスによるInP系化合物半導体のショットキー障壁高の制御とその機構
佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 97, 158(ED97 65-74), 13, 18, 一般社団法人電子情報通信学会, 1997年07月14日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, In-situ電気化学プロセスによる新しいショットキー障壁形成技術を用い, n形InP系化合物半導体に対し, ショットキー障壁の制御を試みた. Pt/n-InP, Pt/n-InAl As, Pt/n-InGaAsショットキー接合において, それぞれ0.86eV, 0.50eV, 0.89eVの極めて高い障壁を実現することができた.金属堆積の初期過程および界面構造の詳細な評価より, ダメージフリー・ストレスフリーの制御された接合界面が, 電気化学プロセスにより形成されていることが明かとなった. この電気化学プロセスによるショットキー障壁の制御機構は, MIGSモデルでは説明できず, DIGSモデルに基づくフェルミ準位ピンニングの緩和により説明できることを指摘した.

Evolution mechanism of nearly pinning-free platinum/n-type indium phosphide interface with a high Schottky barrier height by in situ electrochemical process
H Hasegawa, T Sato, T Hashizume
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 15, 4, 1227, 1235, AMER INST PHYSICS, 1997年07月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Recently, unusually high Schottky barrier heights (SBHs) have been realized by our group on n-type InP and related materials by an in situ electrochemical deposition of Pt. In an attempt to understand the underlying mechanism of the SBH enhancement, this article investigates in detail the evolution process of the metal (Pt, Ni, Co, and Ag)-InP interface during the in situ electrochemical process, using current-voltage, capacitance voltage, deep level transient spectroscopy, x-ray photoelectron spectroscopy, Raman, atomic force microscope, and scanning electron microscope measurements. Pt deposition by the electrochemical process realized an oxide-free, defect-free, stress-free, and nearly pinning-free interface, whereas Pt deposition by conventional electron beam evaporation and sputtering processes as well as Ag, Ni, and Co deposition by the electrochemical process gave rise to stressed and pinned interfaces. The observed large process dependence of SBH can be explained by none of the metal induced gap state model, the unified defect model, and the effective workfunction model. It is explained here by the disorder induced gap state model. (C) 1997 American Vacuum Society.

Large Schottky barrier heights on indium phosphide-based materials realized by in-situ electrochemical process
T Sato, S Uno, T Hashizume, H Hasegawa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 36, 3B, 1811, 1817, JAPAN J APPLIED PHYSICS, 1997年03月, ［査読有り］
英語, 研究論文（学術雑誌）, Pt Schottky barriers were formed on InP-based materials by a novel in-situ, electrochemical process. electrical characteristics, surfaces and interfaces of the Schottky diodes were investigated by current-voltage (IV), capacitance-voltage (C-V), deep-level transient spectroscopy (DLTS) and atomic force microscopy (AFM) measurements. The mechanism for increasing the Schottky barrier heights (SBH) was explained in terms of possible ordered interface formation from the viewpoint of the disorder induced gap state (DIGS) model.

Formation of pinning-free Schottky barriers on InP and related materials by novel in-situ electrochemical process and its mechanism
T Sato, H Hasegawa
1997 INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS - CONFERENCE PROCEEDINGS, 517, 520, I E E E, 1997年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）, Recently the so-called InP-based materials such as InP, In0.52Al0.48As and In0.53Ga0.47As have become important materials for high speed electronic and optoelectronic devices. A common drawback of these materials is, however, that Schottky barrier heights (SBHs) on n-type materials are generally low. Typical SBH values are 0.45eV, 0.60eV and 0.20eV for n-InP, In0.52Al0.48As and In0.53Ga0.47As, respectively. Technologically low SBH values are problematic and impose severe limitations on the realizability of MESFETs and MSM photoditectors, and performance and reliability of HEMTs. In an attempt to overcome this difficulty, we have recently found that the SBH value of the Pt/n-InP Schottky diode can be increased up to 0.86 eV by using a novel in-situ electrochemical process,[1] and have succeeded in realization of well-behaved InP MESFETs[2] for the first time.
The purpose of the present paper is further to understand and optimize the electrochemical process in view of its possible application to formation of fine Schottky gate electrodes for InP-based HEMTs utilizing InAlAs/InGaA s/InAlAs/InP heterostructures. First, electrodeposition conditions and metal selection were optimized for InP for higher SBHs. Then, applicability of the electrochemical process for formation of Schottky gate was confirmed directly on HEMT wafers. Finally, the possible mechanism for the observed SBH increase is briefly discussed.

In‐situ電気化学プロセスによるInP系化合物半導体への高いショットキー障壁形成
佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
電子情報通信学会技術研究報告, 96, 352(ED96 112-119), 9, 15, 一般社団法人電子情報通信学会, 1996年11月08日
日本語, 研究論文（研究会，シンポジウム資料等）, In-situ電気化学プロセスによる新しいショットキー障壁形成技術を用い、n形InP系化合物半導体に対しPt-ショットキー障壁の形成を試みた。作製したショットキーダイオードの電気的特性、接合界面-表面の評価にはI-V法、C-V法、DLTS法、AFMを用いた。電気化学プロセスを用いて作製したショットキーダイオードの障壁高さは、n-InP、n-In_<0.53>Ga_<0.47>Asおよびn-In_<0.52>Al_<0.48>Asに対して、それぞれ0.89eV、0.50eV、0.89eVと、EB 蒸着法に比べてはるかに高い障壁が得られた。このようなショットキー障壁増大のメカニズムは、DIGSモデルにより説明できる。

Enhancement of Schottky Barrier Heights on Indium Phosphide-Based Materials by In-Situ Electrochemical Process and Its Mechanism
SATO Taketomo, UNO Shouichi, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 1996, 106, 108, 1996年08月26日
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

Fabrication of high-performance InP MESFETs with in-situ pulse-plated metal gates
S Uno, T Hashizume, T Sato, H Hasegawa
1996 EIGHTH INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE AND RELATED MATERIALS, 338, 341, I E E E, 1996年, ［査読有り］
英語, 研究論文（国際会議プロシーディングス）

窒化物半導体の光電気化学エッチングと電子デバイス応用—Photo-electrochemical Etching of Nitride Semiconductors and Electron Device Applications—電子デバイス/半導体電力変換合同研究会・パワーデバイス・パワーエレクトロニクスとその実装技術
佐藤 威友, 電気学会研究会資料. SPC = The papers of technical meeting on semiconductor power converter, IEE Japan / 半導体電力変換研究会 [編], 2022, 172-177・179-190, 61, 64, 2022年12月01日
電気学会, 日本語

窒化物半導体の光電気化学エッチングと電子デバイス応用—Photo-electrochemical Etching of Nitride Semiconductors and Electron Device Applications—電子デバイス/半導体電力変換合同研究会 パワーデバイス・パワーエレクトロニクスとその実装技術
佐藤 威友, 電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編], 2022, 32-37・39-50, 61, 64, 2022年12月01日
電気学会, 日本語

コンタクトレス光電気化学エッチングによるリセスゲートAlGaN/GaN HEMTの作製(2)
渡久地政周, 三輪和希, 堀切文正, 福原昇, 成田好伸, 市川磨, 磯野僚多, 田中丈士, 佐藤威友, 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, 2021年

コンタクトレス光電気化学エッチングによるリセスゲートAlGaN/GaN HEMTの作製
渡久地政周, 三輪和希, 堀切文正, 福原昇, 成田好伸, 市川磨, 磯野僚多, 田中丈士, 佐藤威友, 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 67th, 2020年

電気化学的手法によるⅢ-Ⅴ族半導体多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用
佐藤 威友, 渡部 晃生, 熊崎 祐介, Proceedings of the Chemical Sensor Symposium, 56, 64, 66, 2014年03月
電気化学会化学センサ研究会, 日本語

電気化学的手法を用いたInPポーラスナノ構造の形成とセンサ応用
佐藤 威友, 藤野 敏幸, 橋詰 保, 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 107, 110, 269, 272, 2007年06月18日
InPポーラスナノ構造の高密度形成と,精密な寸法制御を目的とした表面エッチングを連続的に行う2段階電気化学プロセスを開発した.ポーラス形成直後の陰極分解反応によりInP孔壁の厚さは30nmから15nm までナノメータスケールで制御され,これまでにない高いアスペクト比を持つ特徴的なナノ構造が形成された.また,ポーラスナノ構造の過酸化水素に対する応答特性は,プレーナ基板と比較して大幅に向上した.これは,ポーラス構造が大きな実効表面積を有することに起因しており,化学/バイオセンサへの応用に有望であることを示している., 一般社団法人電子情報通信学会, 英語

AlGaN表面の欠陥・不純物準位の制御とセンサー応用
橋詰 保, 金子 昌充, 小谷 淳二, 古川 拓也, 木村 健, 佐藤 威友, 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 106, 137, 93, 98, 2006年06月26日
AlGaN/GaNヘテロ構造上のショットキー接合のリーク電流を抑制する目的で、超薄Al膜を利用した表面制御プロセスを開発した。この制御プロセスによって、ショットキー接合のリーク電流は減少し、またI-V特性には明確な温度依存性が出現した。Pd/AlGaN/GaNを作製し、水素ガス検知特性を評価した。C-V曲線は導入した水素ガス分圧に従って系統的にシフトし、そのシフト量は最大で1000mVに達した。オープンゲート型AlGaN/GaNHEMTの溶液中における特性を調べた。伝達特性が溶液中のpH値に従って平行移動し、57.5mV/pHの感度を得た。, 一般社団法人電子情報通信学会, 英語

半導体製造におけるウェット／ドライエッチング　　　　　　　　　　　　　　　
株)ISTL 礒部, 服部コンサルティングインターナショナル 服部, 毅, グロスバーグ合同会社, 大山, 聡, 式田 光宏, アドヒージョン(株, 河合 晃, サムコ(株, 中野 博彦, サムコ(株, 扇谷 浩通, 浜口, 智志, 豊田 紀章, 唐橋 一浩, 江利口 浩二, 寒川, 誠二, 株, 日立製作所, 篠田 和典, 佐藤 威友, 有馬, 健太, 第４章第３節GaNの光電気化学（PEC）エッチング
(株)R&D支援センター, 2022年10月, 9784905507611, ［分担執筆］

Lateral Alignment of Epitaxial Quantum Dots　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, KASAI Seiya, 24 Large-Scale Integration of Quantum Dot Devices on MBE-Based Quantum Wire Networks
Springer, 2007年, ［分担執筆］

Self-terminating photo-electrochemical (PEC) etching for recessed-gate fabrication on AlGaN/GaN HEMTs　　　　　　　　　　　　　　　
Takuya Togashi, Kosaku Ito, Taketomo Sato
2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2022), 英語, 口頭発表（一般）
2022年09月26日 - 2022年09月29日

Mgドープp-GaNを用いたMOS構造のC-V特性に対する光電気化学エッチングの効果　　　　　　　　　　　　　　　
忽滑谷 崇秀, 玉村 祐也, 久保 広大, 佐藤 威友, 赤澤 正道
第83回応用物理学会秋季学術講演会, 日本語, ポスター発表
2022年09月20日 - 2022年09月23日

光電気化学(PEC)エッチングの自己停止とAlGaN/GaN HEMTのゲートリセス加工　　　　　　　　　　　　　　　
富樫 拓也, 伊藤 滉朔, 越智 亮太, 佐藤 威友
第83回応用物理学会秋季学術講演会, 日本語, ポスター発表
2022年09月20日 - 2022年09月23日

n型及びp型GaN表面の電気化学的評価　　　　　　　　　　　　　　　
高津 海, 久保 広太, 佐藤 威友
第83回応用物理学会秋季学術講演会, 日本語, ポスター発表
2022年09月20日 - 2022年09月23日

n-GaN加工表面に対するコンタクトレス光電気化学(CL-PEC)エッチング (2)　　　　　　　　　　　　　　　
大澤 由斗, 大神 洸貴, 越智 亮太, 堀切 文正, 福原 昇, 佐藤 威友
第83回応用物理学会秋季学術講演会, 日本語, ポスター発表
2022年09月20日 - 2022年09月23日

Effect of parallel conduction on the current linearity of AlGaN/GaN MIS-HEMTs　　　　　　　　　　　　　　　
Ryota Ochi, Tamotsu Hashizume, Taketomo Sato
14th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM2022), 英語, 口頭発表（一般）
2022年08月29日 - 2022年09月01日

Contactless-Photoelectrochemical (CL-PEC) etching on process-damaged n-GaN surface　　　　　　　　　　　　　　　
Yoshito Osawa, Hiroki Ogami, Masachika Toguchi, Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Taketomo Sato
14th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM2022), 英語, 口頭発表（一般）
2022年08月29日 - 2022年09月01日

電気化学反応を利用した窒化ガリウムのウェットエッチングと機能性材料　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤威友, 渡久地 政周
電子情報通信学会電子デバイス研究会, 日本語, 口頭発表（一般）
2022年05月27日

n-GaN加工損傷面に対するコンタクトレス光電気化学（CL-PEC）エッチング　　　　　　　　　　　　　　　
大神洸貴, 大澤由斗, 渡久地政周, 堀切文正, 福原昇, 佐藤威友
第69回応用物理学会春季学術講演会, 日本語
2022年03月22日 - 2022年03月26日

AlGaN/GaN MIS-HEMTsにおけるパラレル伝導評価　　　　　　　　　　　　　　　
越智亮太, 橋詰保, 佐藤 威友
第69回応用物理学会春季学術講演会, 口頭発表（一般）
2022年03月22日 - 2022年03月26日

Fabrication of Recessed-gate AlGaN/GaN HEMTs by Low-Damage Contactless Photo-Electrochemical Etching　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, K. Miwa, F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, O. Ichikawa, R. Isono, T. Tanaka, T. Sato
4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 英語, 口頭発表（招待・特別）
2022年03月06日 - 2022年03月10日, ［招待講演］

低損傷コンタクトレス光電気化学エッチングを利用したリセスゲーAlGaN/GaN HEMTsの作製　　　　　　　　　　　　　　　
渡久地 政周, 三輪 和希, 堀切 文正, 福原 昇, 成田 好伸, 市川 磨, 磯野 僚多, 田中 丈士, 佐藤 威友
電子情報通信学会電子デバイス研究会, 日本語, 口頭発表（一般）
2021年11月25日 - 2021年11月26日

光電気化学エッチング法を用いたAlGaInN/AlGaN HFETの作製　　　　　　　　　　　　　　　
伊藤 滉朔, 小松裕斗, 渡久地 政周, 井上暁喜, 田中さくら, 三好実人, 佐藤 威友
電子情報通信学会電子デバイス研究会, 日本語, 口頭発表（一般）
2021年11月25日 - 2021年11月26日

HfSiOx-gate AlGaN/GaN MOS HEMTs with improved operation stability　　　　　　　　　　　　　　　
R. Ochi, T. Nabatame, T. Hashizume, T. Sato
2021 International Conference on Solid State Devices and Materials, 英語, 口頭発表（一般）
2021年09月06日 - 2021年09月09日

光電気化学エッチング法を用いたAlGaInN/AlGaNリセスゲートHFETの作製　　　　　　　　　　　　　　　
伊藤滉朔, 小松裕斗, 渡久地政周, 井上暁喜, 三好実人, 佐藤威友
第68回応用物理学会春季学術講演会, 日本語, 口頭発表（一般）
2021年03月16日 - 2021年03月19日

コンタクトレス光電気化学エッチングによるリセスゲートAlGaN/GaN HEMT の作製　　　　　　　　　　　　　　　
渡久地政周, 三輪和希, 堀切文正, 福原昇, 成田好伸, 吉田丈洋, 佐藤威友
第68回応用物理学会春季学術講演会, 日本語, 口頭発表（一般）
2021年03月16日 - 2021年03月19日

Precise control in threshold voltage of AlGaN/GaN HEMTs utilizing a photoelectrochemical (PEC) etching　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, M. Toguchi, K. Itoh, T. Hashizume
The 8th Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology (CGCT-8), 英語
2021年03月01日 - 2021年03月03日

Recessed-gate AlGaN/GaN HEMTs fabricated by photo-electrochemical (PEC) etching　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, T. Hashizume
Virtual Workshop on Materials Science and Advanced Electronics Created by Singularity, 英語, 口頭発表（一般）
2021年02月01日 - 2021年02月03日

n+GaN基板上n-GaN層の光電気化学(PEC)エッチング時のカソード電極　　　　　　　　　　　　　　　
福原昇, 堀切文正, 渡久地政周, 三輪和希, 大神洸貴, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2021年
2021年 - 2021年

半導体ナノ構造を利用した高感度化学センサの開発（依頼講演）　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤威友
第6回北海道大学部局横断シンポジウム, 2020年10月19日, 日本語, シンポジウム・ワークショップパネル（公募）
［招待講演］

Fabrication of Recessed-Gate AlGaN/GaN HEMTs Utilizing Contactless Photo-Electrochemical (CLPEC) Etching　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, K. Miwa, F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, O. Ichikawa, R. Isono, T. Tanaka, T. Sato
2020 Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science (PRiME 2020), 英語, 口頭発表（一般）
2020年10月04日 - 2020年10月09日

Photo-Electrochemical Etching and Porosification of III-Nitride Semiconductors (Invited)　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, M. Toguchi
2020 Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science (PRiME 2020), 英語, 口頭発表（招待・特別）
2020年10月04日 - 2020年10月09日, ［招待講演］

GaN Wet Etching Process for HEMT Devices (invited)　　　　　　　　　　　　　　　
F. Horikiri, N. Fukuhara, M. Toguchi, T. Sato
International symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 英語, 口頭発表（招待・特別）
2020年03月08日 - 2020年03月11日, ［招待講演］

電気化学的手法を用いたICP-RIE加工n-GaN表面の評価　　　　　　　　　　　　　　　
武田健太郎, 山田真嗣, 山田真嗣, 渡久地政周, 加地徹, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2020年
2020年 - 2020年

GaNの光電気化学(PEC)エッチングが有する可能性 3)加熱によるエッチング速度の向上　　　　　　　　　　　　　　　
堀切文正, 福原昇, 太田博, 浅井直美, 成田好伸, 吉田丈洋, 三島友義, 渡久地政周, 三輪和希, 大神洸貴, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2020年
2020年 - 2020年

加熱による硫酸ラジカルの生成とn-GaN光電気化学(PEC)エッチングへの応用　　　　　　　　　　　　　　　
三輪和希, 大神洸貴, 渡久地政周, 堀切文正, 福原昇, 成田好伸, 吉田丈洋, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2020年
2020年 - 2020年

電気めっき法によるGaNへのPt電極の形成と電気特性評価　　　　　　　　　　　　　　　
小原康, 島内道人, 佐藤威友, 本久順一
応用物理学会北海道支部/日本光学会北海道支部合同学術講演会講演予稿集, 2020年
2020年 - 2020年

コンタクトレス光電気化学(PEC)エッチングを用いたリセスゲートHEMTの作製　　　　　　　　　　　　　　　
堀切文正, 福原昇, 渡久地政周, 三輪和希, 成田好伸, 市川磨, 磯野僚多, 田中丈士, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 2020年
2020年 - 2020年

Simple Photoelectrochemical Etching of GaN for RF Application　　　　　　　　　　　　　　　
F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, T. Yoshida, M. Toguchi, K. Miwa, T. Sato
Materials Research Meeting 2019, 英語
2019年12月10日 - 2019年12月14日

Contactless Photoelectrochemical Etching of n-GaN in K2S2O8 solution　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, K. Miwa, F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, T. Yoshida, T. Sato
Materials Research Meeting 2019, 英語, ポスター発表
2019年12月10日 - 2019年12月14日

Precise Control in Threshold Voltage of AlGaN/GaN HEMTs by Photoelectrochemical Etching　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Komatsu, M. Toguchi, T. Sato
Materials Research Meeting 2019, 英語, ポスター発表
2019年12月10日 - 2019年12月14日

Fabrication of GaN nanowires by wet processes using electrodeless photo-assisted electro- chemical etching and alkaline solution treatment　　　　　　　　　　　　　　　
M. Shimauchi, K. Miwa, M. Toguchi, T. Sato, J. Motohisa
The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 英語, ポスター発表
2019年11月10日 - 2019年11月15日

Evaluation of Radical Production Rate from S2O82- ions for GaN Etching　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, K. Miwa, F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, T. Yoshida, T. Sato
The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 英語, ポスター発表
2019年11月10日 - 2019年11月15日

Simple Photoelectrochemical Etching for GaN HEMT Application　　　　　　　　　　　　　　　
F. Horikiri, N. Fukuhara, Y. Narita, T. Yoshida, M. Toguchi, K. Miwa, T. Sato
The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap SemiconductorsThe 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 英語, ポスター発表
2019年11月10日 - 2019年11月15日

Precise control in recessed-gate etching for AlGaN/GaN HEMTs by utilizing photo- electrochemical reactions　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Komatsu, M. Toguchi, T. Sato
The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 英語, ポスター発表
2019年11月10日 - 2019年11月15日

III-V族化合物半導体のウェットエッチング 〜窒化物半導体に関する最近の話題を中心に〜　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤 威友, 渡久地 政周
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国内会議］

コンタクトレス光電気化学エッチング及びウェットエッチングによる窒化ガリウムナノワイヤの作製　　　　　　　　　　　　　　　
島内 道人, 三輪 和希, 渡久地 政周, 佐藤 威友, 本久 順一
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

高濃度n型GaN基板に対する光電気化学（PEC）エッチングの調査　　　　　　　　　　　　　　　
三輪 和希, 渡久地 政周, 佐藤 威友
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, ポスター発表
［国内会議］

AlGaInN/AlGaNヘテロ構造の光電気化学エッチング(2)　　　　　　　　　　　　　　　
小松 祐斗, 渡久地政周, 斉藤 早紀, 三好 実人, 佐藤 威友
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, ポスター発表
［国内会議］

K2S2O8/H3PO4混合溶液を用いたn-GaNのコンタクトレスエッチング　　　　　　　　　　　　　　　
渡久地 政周, 三輪 和希, 堀切 文正, 福原 昇, 成田 好伸, 吉田 丈洋, 佐藤 威友
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

電気化学インピーダンス法を用いたn-GaN加工表面の評価 (2)　　　　　　　　　　　　　　　
武田 健太郎, 渡久地 政周, 佐藤 威友
2019 第80回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月18日, 日本語, ポスター発表
［国内会議］

GaN Wet Etching Process for Power and RF Devices　　　　　　　　　　　　　　　
F. Horikiri, N. Fukuhara, H. Ohta, N. Asai, Y. Narita, T. Yoshida, T. Mishima, M. Toguchi, K. Miwa, T. Sato
2019 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2019年09月05日, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Characterization of processing-damage induced on n-GaN surface utilizing electrochemical methods　　　　　　　　　　　　　　　
Kentaro Takeda, Masachika Toguchi, Taketomo Sato
13th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics, 2019年08月26日, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Photo-electrochemical etching optimized for high-doped n-type GaN　　　　　　　　　　　　　　　
Kazuki Miwa, Masachika Toguchi, Taketomo Sato
13th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics, 2019年08月26日, 英語, ポスター発表
［国際会議］

GaN Wet Etching Process　　　　　　　　　　　　　　　
Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Hiroshi Ohta, Naomi Asai, Yoshinobu Narita, Takehiro Yoshida, Tomoyoshi Mishima, Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Taketomo Sato
13th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics, 2019年08月26日, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

窒化物半導体の電気化学エッチングとデバイス応用（招待講演）　　　　　　　　　　　　　　　
日本表面真空学会 関西支部 合同セミナー２０１９, 2019年07月05日, 日本語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］

GaN Wet Etching Process for Power and RF Devices　　　　　　　　　　　　　　　
Fumimasa Horikiri, Noboru Fukuhara, Hiroshi Ohta, Naomi Asai, Yoshinobu Narita, Takehiro Yoshida, Tomoyoshi Mishima, Masachika Toguchi, Kazuki Miwa, Taketomo Sato
2019 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices, 2019年07月01日, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Damage-less Wet Etching for Normally-off AlGaN/GaN HEMTs using Photo-electrochemical Reactions　　　　　　　　　　　　　　　
Taketomo Sato, Keisuke Uemura, Masachika Toguchi
2019 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology, 2019年05月01日, 英語, 口頭発表（招待・特別）
Minneapolis, USA, ［招待講演］, ［国際会議］

Electrochemical characterization of etching damage induced to n-GaN surface　　　　　　　　　　　　　　　
K. Takeda, M. Toguchi, T. Sato
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitride and Nanomaterials, 2019年03月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Low-damage wet etching for AlGaN/GaN recessed-gate HEMTs using photo-electrochemical reactions　　　　　　　　　　　　　　　
K. Uemura, Y. Komatsu, T. Sato
11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitride and Nanomaterials, 2019年03月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

光電気化学エッチングによる窒化ガリウムの微細加工の検討　　　　　　　　　　　　　　　
島内道人, 三輪和希, 渡久地政周, 佐藤威友, 本久順一
第66回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

AlGaInN/AlGaNヘテロ構造の光電気化学エッチング　　　　　　　　　　　　　　　
小松祐斗, 植村圭佑, 佐藤威友
第66回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

ペルオキソ二硫酸イオン(S2O82-)含有電解液におけるGaNの電気化学特性　　　　　　　　　　　　　　　
渡久地政周, 三輪和希, 堀切文正, 福原昇, 成田好伸, 吉田丈洋, 佐藤威友
第66回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

GaNの光電気化学（PEC）エッチングが有する可能性②コンタクトレスでのエッチング　　　　　　　　　　　　　　　
堀切文正, 福原昇, 太田博, 浅井直美, 成田好伸, 吉田丈洋, 三島友義, 渡久地政周, 三輪和希, 佐藤威友
第66回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月, 日本語, 口頭発表（一般）
東京工業大学大岡山キャンパス，東京都目黒区, ［国内会議］

Effect of Photo-electrochemical Etching and Post-metallization Annealing on Gate-controllability of AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors　　　　　　　　　　　　　　　
K. Uemura, M. Deki, Y. Honda, H. Amano, T. Sato
International Workshop on Nitride Semiconductors 2018 (IWN2018), 2018年11月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Low-damage Etching for GaN-based Electronic Devices utilizing Photo-electrochemical Reactions　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤 威友
4th Intensive Discussion on Growht of Nitride Semiconductors, 2018年11月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Fabrication of GaN Porous Nanostructures utilizing Electrochemical Reactions　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato
HU-SNU Joint Symposium, 2018年11月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Precise thickness control in recess-etching for normally-off AlGaN/GaN HEMTs using a photo-electrochemical reaction　　　　　　　　　　　　　　　
K. Uemura, Y. Komatsu, T. Sato
HU-SNU Joint Symposium, 2018年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Electrochemical Formation and Application of Porous Gallium Nitride　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, M. Toguchi
Americas International Meeting on Electrochemistry and Solid State Science (AiMES 2018), 2018年10月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

AlGaN/GaNヘテロ構造トランジスタを基盤とする高感度化学センサの検討
小松祐斗, 植村圭佑, 渡久地政周, 佐藤威友
電気化学秋季大会講演要旨集(CD‐ROM), 2018年09月11日, 日本語

窒化ガリウム加工基板に対する選択的光電気化学エッチングの検討
渡久地政周, 武田健太郎, 佐藤威友
電気化学秋季大会講演要旨集(CD‐ROM), 2018年09月11日, 日本語

電気化学インピーダンス法を用いたn‐GaN加工表面の評価
武田健太郎, 渡久地政周, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2018年09月05日, 日本語

Recessed-gate AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors (HEMTs) Prepared by Photo-electrochemical Etching and Post-metallization Annealing　　　　　　　　　　　　　　　
K. Uemura, M. Deki, Y. Honda, H. Amano, T. Sato
第79 回応用物理学会秋季大会、19p-CE-4（日韓ジョイントシンポジウム, 2018年09月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Control of Pore Depth in GaN Porous Structures Utilizing a Photoabsorption Process Under below-Bandgap Illumination　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, S. Matsumoto, T. Sato
233rd ECS Meeting, 2018年05月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Precisely-controlled etching of gallium nitride utilizing electrochemical reactions　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, M. Toguchi
Nanotech Malaysia 2018, 2018年05月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

表面加工を施した窒化ガリウムの特異的光吸収特性と光電気化学エッチングの制御
渡久地政周, 佐藤威友
電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM), 2018年02月23日, 日本語

光電気化学反応を利用した窒化物半導体の低損傷エッチングと電子デバイスへの応用　　　　　　　　　　　　　　　
植村圭佑, 松本悟, 渡久地政周, 伊藤圭亮, 佐藤 威友
電子情報通信学会 電子デバイス研究会, 2017年12月, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

Improved wet-etching processes for GaN-based electron devices　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, K. Uemura, T. Hashizume
2017 MRS Fall Meeting and Exhibit, 2017年11月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Photo-electrochemical Formation of Porous Nanostructures on n-type GaN utilizing Franz-Keldysh Effect　　　　　　　　　　　　　　　
M. Toguchi, S. Matsumoto, T. Sato
The 8th International Symposium on Surface Science (ISSS8), 2017年10月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Removal of reactive-ion-etching damage from n-GaN surface using a photoelectrochemical process　　　　　　　　　　　　　　　
S. Matsumoto, M. Toguchi, T. Sato
2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2017), 2017年09月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Franz‐Keldysh効果を用いた窒化ガリウムの光電気化学反応制御
渡久地政周, 佐藤威友
電気化学秋季大会講演要旨集(CD‐ROM), 2017年08月28日, 日本語

光電気化学反応を利用したn‐GaN表面層の低損傷エッチング
松本悟, 佐藤威友, 成田哲生, 成田哲生, 加地徹, 橋詰保, 橋詰保
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2017年08月25日, 日本語

光電気化学(PEC)反応を利用したリセスゲートAlGaN/GaN HEMTの作製
植村圭佑, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2017年08月25日, 日本語

Highly-controllable etching for AlGaN/GaN recessed-gate structures utilizing low-damage electrochemical reactions　　　　　　　　　　　　　　　
K. Uemura, Y. Kumazaki, T. Sato, T. Hashizume
12th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2017), 2017年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Precise thickness control in recess-etching for normally-off AlGaN/GaN HEMTs using a low damage photo-electrochemical reaction　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, K. Uemura, Y. Kumazaki, T. Hashizume
12th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS 12), 2017年07月, 日本語, ポスター発表
［国際会議］

2段階異方性エッチングによる窒化ガリウム多孔質構造の形成と形状制御
佐藤威友, 熊崎祐介, 松本悟
電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM), 2017年03月17日, 日本語

GaN多孔質構造の形状およびキャリア濃度の違いとインピーダンス特性について
伊藤圭亮, ZHANG Xiaoyi, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2017年03月01日, 日本語

光電気化学反応を利用したn‐GaN表面ダメージ層の除去
枝元将彰, 松本悟, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2017年03月01日, 日本語

電気化学堆積法によるCu₂O/InPヘテロ界面の形成(3)
近江沙也夏, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2017年03月01日, 日本語

電気化学的手法を用いたGaN多孔質構造の選択領域形成
松本悟, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2017年01月07日, 日本語

AlGaN/GaNヘテロ構造の電気化学的リセス加工における反応キャリア供給過程の影響
植村圭佑, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2017年01月07日, 日本語

GaN多孔質構造の形状によるインピーダンス特性の分析
伊藤圭亮, ZHANG Xiaoyi, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2017年01月07日, 日本語

Electrochemical formation of N-type GaN and N-type InP porous structures for chemical sensor applications　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, X. Zhang, K. Ito, S. Matsumoto, Y. Kumazaki
IEEE SENSORS 2016, 2016年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Precise Structural Tuning of Porous GaN Using Two-Step Anisotropic Etching for Optical and Photo-Electric Applications　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Kumazaki, S. Matsumoto, T. Sato
2016 Pacific Rim Meeting on Electrochemistry and Solid State Science (PRiME 2016), 2016年10月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Electrochemical Formation and Characterization of Cu2O Films on n-type InP Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
S. Omi, Y. Kumazaki, T. Sato
2016 Pacific Rim Meeting on Electrochemistry and Solid State Science (PRiME 2016), 2016年10月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

GaN多孔質構造の選択領域形成に関する検討
松本悟, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年09月01日, 日本語

電気化学堆積法によるCu₂O/InP多孔質構造ヘテロ界面の形成
近江沙也夏, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年09月01日, 日本語

金属有機化合物分解法によるGaN表面へのNiO粒子の形成(2)
喜田弘文, 伊藤圭亮, 熊崎祐介, 渡久地政周, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年09月01日, 日本語

電気化学インピーダンス分光法によるGaN多孔質構造の評価
伊藤圭亮, ZHANG Xiaoyi, 喜田弘文, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年09月01日, 日本語

AlGaN/GaNヘテロ構造の光電気化学特性と低損傷加工技術への応用
熊崎祐介, 植村圭佑, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年09月01日, 日本語

電気化学堆積法によるCu₂O/InPヘテロ界面の形成
近江沙也夏, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日, 日本語

異方性ウェットエッチングによるGaN多孔質構造の作製と光学特性評価
熊崎祐介, 松本悟, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日, 日本語

金属有機化合物分解法によるGaN表面へのNiO粒子の形成
喜田弘文, 伊藤圭亮, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日, 日本語

光電気化学反応を利用したGaN表面の陽極酸化
枝元将彰, 熊崎祐介, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日, 日本語

Interface control technologies for high-power GaN transistors: Self-stopping etching of p-GaN layers utilizing electrochemical reactions　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, Y. Kumazaki, M. Edamoto, M. Akazawa, T. Hashizume
SPIE Photonics West 2016, 2016年02月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Photoelectric energy conversion in GaN porous nanostructures formed by electrochemical process　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, Y. Kumazaki, T. Hashizume
Energy, Materials and Nanotechnology, 2015年12月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

Size-controlled formation of high-aspect ratio porous nanostructures on GaN substrates utilizing photo-assisted electrochemical etching for photovoltaic applications　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato
2015 MRS Fall Meeting & Exhibit, 2015年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Effect of High Electric Field on Photoabsorption Properties of GaN Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, Y. Kumazaki, Z. Yatabe
228th ECS meeting, Hyatt Regency Phoenix and Phoenix Convention Center, 2015年10月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Formation of Self-aligned Pore Arrays on n-GaN Substrates by Photo-assisted Electrochemical Etching Process　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Kumazaki, T. Sato, Z. Yatabe
2015 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2015), 2015年09月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

裏面光照射電気化学法によるGaN陽極酸化表面の分析
枝元将彰, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年08月31日, 日本語

電気化学堆積法によるCu₂O/InPヘテロ構造の形成と特性評価
近江沙也夏, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年08月31日, 日本語

Cu₂O/GaNヘテロ構造の電気化学形成と光学的特性評価
熊崎祐介, 近江沙也夏, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年08月31日, 日本語

光触媒水分解システムを用いたn‐GaN多孔質構造の光電気化学的評価
喜田弘文, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年08月31日, 日本語

High-selective etching of p-GaN layers on AlGaN/GaN heterostructures by electrochemical process　　　　　　　　　　　　　　　
M. Edamoto, Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato, T. Hashizume
11th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2015), 2015年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Electrochemical Formation of Cu2O Films on n-type InP and n-type GaN Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
S. Omi, Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato
11th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2015), 2015年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Photoelectrochemical characterization of n-type GaN porous structures for use in photocatalytic water-splitting system　　　　　　　　　　　　　　　
H. Kida, Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato
11th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2015), 2015年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Influence of dry etching on Al2O3/AlGaN/GaN MOS interface properties　　　　　　　　　　　　　　　
Z. Yatabe, J. Ohira, T. Sato, T. Hashizume
11th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2015), 2015年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Electrochemical formation of GaN porous structures for photocatalytic applications　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, Y. Kumazaki, Z. Yatabe
11th Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics (TWHM 2015), 2015年08月, 英語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国際会議］

電気化学的手法によるGaN多孔質構造の形成と紫外光応答特性
喜田弘文, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 2015年07月27日, 日本語

分光電気化学法によるGaN/電解液界面の評価とナノ構造形成への応用
熊崎祐介, 渡部晃生, 谷田部然治, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 2015年05月21日, 日本語

ドライエッチングがAl₂O₃/AlGaN/GaN構造のMOS界面特性に与える影響
谷田部然治, 大平城二, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年02月26日, 日本語

電気化学堆積法によるCu₂O/GaNヘテロ構造の形成と特性評価
熊崎祐介, 近江沙也夏, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2015年02月26日, 日本語

電気化学エッチングによるGaN多孔質構造の形成
渡部晃生, 熊崎祐介, 谷田部然冶, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2015年01月09日, 日本語

デバイス応用に向けた6H‐SiC上グラフェンの高品質・多機能化
宮本貴雄, 小西敬太, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2015年01月09日, 日本語

Correlation between growth time and carrier density in epitaxial graphene on 6H-SiC　　　　　　　　　　　　　　　
T. Miyamoto, K. Konishi, T. Sato
The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS2014), 2014年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Structural Properties and Control of GaN Porous Nanostructures Formed by Photo-assisted Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
A. Watanabe, Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato
The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS2014), 2014年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Enhanced spin-orbit interaction in the hydrogenated epitaxial graphene on silicon carbide　　　　　　　　　　　　　　　
K. Konishi, T. Miyamoto, K. Yoh, T. Sato
27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2014), 2014年11月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Electrochemical Formation of GaN Porous Structures Under UV-Light Irradiation for Photoelectrochemical Application　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, A. Watanabe, Y. Kumazaki, Z. Yatabe
2014 ECS and SMEQ Joint International Meeting, 2014年10月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

電気化学エッチングを用いた窒化物半導体多孔質構造の形成
渡部晃生, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
電気化学秋季大会講演要旨集, 2014年09月27日, 日本語

III‐V族化合物半導体の電気化学エッチングと微細加工への応用
佐藤威友, 熊崎祐介, 渡部晃生, 谷田部然治
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2014年09月01日, 日本語

6H‐SiC上グラフェンにおける成長時間とキャリア密度の関係
宮本貴雄, 小西敬太, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2014年09月01日, 日本語

電気化学エッチングによるGaN多孔質構造の形成と形状制御の向上
熊崎祐介, 渡部晃生, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2014年09月01日, 日本語

Correlation between Structural and Optical Properties of GaN Porous Structures Formed by Photo-assisted Electrochemical Etching　　　　　　　　　　　　　　　
Y. Kumazaki, A. Watanabe, Z. Yatabe, T. Sato
The International Workshop on Nitride Semiconductors 2014 (IWN2014), 2014年08月, 英語

Interface Trap States in Al2O3/AlGaN/GaN Structure Induced by ICP Etching of AlGaN Surfaces　　　　　　　　　　　　　　　
Z. Yatabe, T. Sato, T. Hashizume
The International Workshop on Nitride Semiconductors 2014 (IWN2014), 2014年08月, 英語
［招待講演］

Structural control of GaN porous structures for high-sensitive chemical sensors　　　　　　　　　　　　　　　
A. Watanabe, Y. Kumazaki, Z. Yatabe, T. Sato
The 6th IEEE International Nanoelectronics Conference 2014 (INEC-2014), 2014年07月, 英語

Electrochemical Formation of III-V Semiconductor Porous Nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
T. Sato, Y. Kumazaki, A. Watanabe, Z. Yatabe
The 6th IEEE International Nanoelectronics Conference 2014 (INEC-2014), 2014年07月, 英語
［招待講演］

電気化学的手法によるIII-V族半導体多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用
佐藤 威友, 渡部 晃生, 熊崎 祐介
公益社団法人電気化学会第81回大会, 2014年03月29日, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

電気化学的手法によるIII‐V族半導体多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用
佐藤威友, 渡部晃生, 熊崎祐介
Chem Sens, 2014年03月29日, 日本語

GaNパワー素子のための絶縁膜界面制御
橋詰 保, 谷田部 然治, 佐藤 威友
電気学会電子デバイス研究会, 2014年03月13日, 日本語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国内会議］

窒化物半導体異種接合の評価と制御
佐藤威友, 赤澤正道, 橋詰保
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2014年03月03日, 日本語, 口頭発表（招待・特別）
［招待講演］, ［国内会議］

AlGaN/GaNヘテロ構造上に形成したp‐GaN層の選択的電気化学エッチング
熊崎祐介, 佐藤威友, 橋詰保, 橋詰保
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2014年03月03日, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

GaN多孔質構造の形状制御と化学センサへの応用
渡部晃生, 熊崎祐介, 谷田部然冶, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2013年12月09日, 日本語, 口頭発表（一般）
［国内会議］

Photoabsorption and Photoelectric Conversion Properties of InP Porous Structures Formed by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KUMAZAKI Yusuke, JINBO Ryohei, YATABE Zenji
224th Meeting of the Electrochemical Society（CD-ROM）, 2013年10月, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Structural and Optical Characterization of GaN Porous Structures Formed by Photo-assisted Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
KUMAZAKI Yusuke, WATANABE Akio, YATABE Zenji, SATO Taketomo
224th Meeting of the Electrochemical Society（CD-ROM）, 2013年10月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

電気化学的手法と裏面光照射によるGaN多孔質ナノ構造の形成
渡部晃生, 熊崎祐介, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2013年08月31日, 日本語

GaN多孔質ナノ構造の表面形状と光電気化学特性
熊崎祐介, 渡部晃生, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2013年08月31日, 日本語

Selective etching of p-GaN layers for normally-off AlGaN/GaN HEMTs by electrochemical process　　　　　　　　　　　　　　　
KUMAZAKI Yusuke, AZUMAISHI Naoki, UEDA Hiroyuki, KANECHIKA Masakazu, TOMITA Hidemoto, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
10th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-10), 2013年08月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

Electrochemical Formation and Optical Characterization of GaN Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
KUMAZAKI Yusuke, WATANABE Akio, JINBO Ryohei, YATABE Zenji, SATO Taketomo
32nd Electronic Materials Symposium (EMS32), 2013年07月, 英語
［国際会議］

電気化学的手法による半導体多孔質構造の形成と機能素子への応用　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤 威友
第 29 回ライックセミナー・第 19 回若手研究者交流会, 2013年06月, 英語, 公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等
［招待講演］, ［国際会議］

電気化学的手法によるGaN多孔質構造の形成と光学特性の評価　　　　　　　　　　　　　　　
熊崎 祐介, 渡部 晃生, 谷田部 然治, 佐藤 威友
第 29 回ライックセミナー・第 19 回若手研究者交流会, 2013年06月, 英語, 公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等
［国際会議］

電気化学的手法によるInP多孔質構造の光吸収特性と光電変換
熊崎祐介, 神保亮平, 谷田部然治, 佐藤威友
電子情報通信学会技術研究報告, 2013年05月09日, 日本語

Electrochemical Formation and Optical Characterization of GaN Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
KUMAZAKI Yusuke, WATANABE Akio, JINBO Ryohei, YATABE Zenji, SATO Taketomo
The 40th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2013), 2013年05月, 英語, ポスター発表
［国際会議］

電気化学的手法によるGaN多孔質構造の形成と光学特性の評価
熊崎祐介, 渡部晃生, 神保亮平, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2013年03月11日, 日本語

InP多孔質構造孔壁表面の機能化による光電変換素子への応用
神保亮平, 渡部晃生, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2013年01月11日, 日本語

High-sensitive ISFETs Based on Semiconductor Porous Nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo
BIT’s 3rd Annual World Congress of NanoMedicine-2012, 2012年11月01日, 英語, 口頭発表（一般）
［招待講演］, ［国際会議］

Photoelectric-conversion Devices Based on InP Porous Structure　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, JINBO Ryohei, YATABE Zenji
2012 Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science, 2012年10月07日, 英語, 口頭発表（一般）
［国際会議］

Optical Absorption Properties of InP Porous Structures Formed by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
KUMAZAKI Yusuke, KUDO, Tomohito, YATABE Zenji, SATO Taketomo
2012 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2012年09月25日, 英語, ポスター発表
［国際会議］

pn接合基板上に形成したInP多孔質構造の光学応答特性の評価
熊崎祐介, 工藤智人, 谷田部然冶, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2012年08月27日, 日本語
［国内会議］

ポリスチレン微小球の自己組織化配列とリソグラフィ技術を利用した半導体加工基板の作製
神保亮平, 今井雄大, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2012年08月27日, 日本語
［国内会議］

電気化学的手法によるInP多孔質構造の形成と孔の位置制御
神保亮平, 谷田部然冶, 佐藤威友
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM), 2012年02月29日, 日本語
［国内会議］

Photo-electrical response of InP porous structures formed on pn substrates　　　　　　　　　　　　　　　
KUDO Tomohito, SATO Taketomo
Extended Abstracts of the 2011 International Symposium on Surface Science, 2011年12月, 英語
［国際会議］

Photoelectric Conversion Devices based on InP Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
JINBO Ryohei, KUDO Tomohito, SATO Taketomo
Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2011年09月, 英語
［国際会議］

電気化学的手法を用いたInP多孔質構造の形成と光電変換素子への応用
神保亮平, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年08月16日, 日本語
［国内会議］

pn接合基板に形成したInP多孔質構造の光応答特性
工藤智人, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年08月16日, 日本語
［国内会議］

ポリスチレン微小球の自己組織化配列とリソグラフィ技術を利用した多孔質構造の形成
今井雄大, 神保亮平, 谷田部然治, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年08月16日, 日本語
［国内会議］

ドライエッチしたGaNおよびAlGaN表面の評価と制御
谷田部然冶, 東石直樹, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年08月16日, 日本語
［国内会議］

ポリスチレン微小球の自己組織化配列とリソグラフィ技術を利用した半導体パターニング技術
今井雄大, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年03月09日, 日本語
［国内会議］

InP多孔質構造を利用した光電変換素子の検討
工藤智人, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM), 2011年03月09日, 日本語
［国内会議］

電気化学的手法によるInPポーラス孔壁表面の機能化と電気的特性の評価
岡崎拓行, 神保亮平, 佐藤威友
化学系学協会北海道支部冬季研究発表会講演要旨集, 2011年02月01日, 日本語
［国内会議］

ポリスチレン微小球の自己組織化配列を利用した半導体マイクロパターニング技術
今井雄大, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2011年01月07日, 日本語
［国内会議］

pn接合基板上に形成したInP多孔質構造の光応答特性
工藤智人, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2011年01月07日, 日本語
［国内会議］

High-Sensitive ISFETs based on InP Porous Structures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki
The 61st Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry（CD-ROM）, 2010年09月, 英語
［国際会議］

電気化学的手法によるInP多孔質構造の形成と孔壁表面の機能化
岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年08月30日, 日本語
［国内会議］

ポリスチレン微小球の自己組織化配列を利用したマイクロパターニングと半導体微細加工への応用
今井雄大, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年08月30日, 日本語
［国内会議］

InP多孔質構造の光吸収特性と光電変換
佐藤威友, 岡崎拓行
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年08月30日, 日本語
［国内会議］

多孔質構造を有するイオン感応性電界効果トランジスタ
佐藤威友, 岡崎拓行
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年08月30日, 日本語
［国内会議］

pn接合基板上に形成したInP多孔質構造の電気的評価
工藤智人, 岡崎拓行, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年08月30日, 日本語
［国内会議］

Optical and Electrical Properties of InP Porous Structures Formed on P-N Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
OKAZAKI Hiroyuki, SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki, HASHIZUME Tamotsu
2010 International Conference on Indium Phosiphide and Related Materials, 2010年05月, 英語
［国際会議］

電気化学的手法を用いて形成したInPポーラス構造の電気的特性
岡崎拓行, 吉澤直樹, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM), 2010年03月03日, 日本語
［国内会議］

Optical and electrical properties of InP porous structures formed on p-n substrates　　　　　　　　　　　　　　　
OKAZAKI Hiroyuki, YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
2010 International RCIQE/CREST Joint Workshop, 2010年03月01日, 英語
［国際会議］

InP‐pn接合基板へのポーラス構造作製と形状および位置の制御
岡崎拓行, 吉澤直樹, 佐藤威友
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2010年01月08日, 日本語
［国内会議］

InP‐pn接合基板へのポーラス構造形成および電気的特性評価
吉澤直樹, 岡崎拓行, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道地区合同学術講演会講演予稿集, 2010年01月08日, 日本語
［国内会議］

Low Reflectance Surface Observed on InP Porous Structures after Photoelectrochemical Etching　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki, OKAZAKI Hiroyuki, HASHIZUME Tamotsu
216th Meeting of the Electrochemical Society（CD-ROM）, 2009年10月, 英語
［国際会議］

InP‐pn接合基板へのポーラス構造作製と形状制御
岡崎拓行, 吉澤直樹, 佐藤威友
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2009年09月08日, 日本語
［国内会議］

ポーラス構造を形成したInP‐pn接合基板の電気的特性
吉澤直樹, 岡崎拓行, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2009年09月08日, 日本語
［国内会議］

Formation and application of InP porous structures on p-n substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, YOSHIZAWA Naoki, OKAZAKI Hiroyuki, HASHIZUME Tamotsu
2009 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices（CD-ROM）, 2009年06月, 英語
［国際会議］

pH Response Characteristics of Liquid-phase Chemical Sensors using InP Open-gate FETs　　　　　　　　　　　　　　　
YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori, HASHIZUME Tamotsu
2009 RCIQE International Seminar on "Advanced Semiconductor Materials and Devices", 2009年03月02日, 英語
［国際会議］

Electrochemical formation and sensor application of InP porous nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, HASHIZUME Tamotsu
2009 RCIQE International Seminar on "Advanced Semiconductor Materials and Devices", 2009年03月02日, 英語
［国際会議］

pH Sensitivity of Liquid-phase Chemical Sensors using InP Open-gate FETs　　　　　　　　　　　　　　　
YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori, HASHIZUME Tamotsu
2008 International Symposium on Surface Science and Nanotechnology, 2008年11月, 英語
［国際会議］

Liquid-phase Chemical Sensors using InP-based Open-gate FETs　　　　　　　　　　　　　　　
YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori
The Seventh IEEE Conference on Sensors, 2008年10月, 英語
［国際会議］

Complete Removal of Irregular Top Layer for Sensor Applications of InP Porous Nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, HASHIZUME Tamotsu
2008 Pacific Rim Meeting on Electrochemicao and Solid-State Science (CD-ROM), 2008年10月, 英語
［国際会議］

InPイオン感応性電界効果トランジスタのpH応答特性
吉澤直樹, 溝畑彰規, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2008年09月02日, 日本語
［国内会議］

グリコール水溶液を用いた陽極酸化によるGaN表面の電気的・光学的安定化
塩崎奈々子, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2008年09月02日, 日本語
［国内会議］

InPポーラス構造を基盤とする電流検出型化学センサの作製
溝畑彰規, 吉澤直樹, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2008年09月02日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成と縦および横方向へのエッチング制御
佐藤威友, 溝畑彰規, 吉澤直樹, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2008年09月02日, 日本語
［国内会議］

Electrochemical formation and functionalization of InP porous nanostructures and their application to chemical sensors　　　　　　　　　　　　　　　
MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
2008 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices, 2008年07月, 英語
［国際会議］

電気化学的手法によるGaN表面酸化膜形成と表面安定化への応用
塩崎奈々子, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2008年03月27日, 日本語
［国内会議］

電気化学的手法によるInP表面の機能性修飾と電流検出型化学センサへの応用
溝畑彰規, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2008年03月27日, 日本語
［国内会議］

Electrochemical formation and sensor application of highly-ordered InP nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, MIZOHATA Akinori, YOSHIZAWA Naoki, HASHIZUME Tamotsu
2008 RCIQE International Seminar on "Advanced Semiconductor Materials and Devices", 2008年03月03日, 英語
［国際会議］

電気化学的手法によるInP表面の機能性修飾と化学センサへの応用
溝畑彰規, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会北海道支部・日本光学会北海道支部合同学術講演会講演予稿集, 2008年01月10日, 日本語
［国内会議］

陽極酸化によりn‐GaN上に形成された酸化膜の評価と応用
塩崎奈々子, 石川史太郎, TRAMPERT A, GRAHN H. T, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2007年09月04日, 日本語
［国内会議］

電気化学的手法によるInPポーラスナノ構造の形成と化学センサへの応用
佐藤威友, 溝畑彰規, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2007年09月04日, 日本語
［国内会議］

グリコール水溶液を用いた電気化学プロセスによるGaN表面酸化薄膜の形成
塩崎奈々子, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2007年03月27日, 日本語
［国内会議］

二段階電気化学プロセスによるInPナノ構造の形成とサイズ制御
佐藤威友, 佐藤威友, 藤野敏幸, 藤野敏幸, 橋詰保, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2007年03月27日, 日本語
［国内会議］

SiNx/CN/GaN構造を用いた炭素固相拡散の検討
木村健, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2007年03月27日, 日本語
［国内会議］

Electrochemical formation and optical characterization of size-controlled InP porous nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, FUJINO Toshiyuki, HASHIZUME Tamotsu
The 4th International Symposium on Ubiquitous Knowledge Network Environment, Meme-Media Technology Approach to the R&D of Next-Generation Information Technologies, 2007年03月, 英語
［国際会議］

Chemical sensors using open-gate AlGaN/GaN transistor structures　　　　　　　　　　　　　　　
KOKAWA Takuya, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
The 4th International Symposium on Ubiquitous Knowledge Network Environment, Meme-Media Technology Approach to the R&D of Next-Generation Information Technologies, 2007年03月, 英語
［国際会議］

Electrochemical formation of high-density array of InP nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
SATO TAKATOMO
2007 RCIQE International Seminar on "Advanced Semiconductor Materials and Devices", 2007年02月08日, 英語
［国際会議］

Electrochemical Formation and Sensor Application of InP Porous Nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
2007 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices, 2007年

Electrochemical Formation of InP Porous Nanostructures and Its Application to Amperometric Chemical Sensors　　　　　　　　　　　　　　　
2007 European Materials Research Society Fall Meeting, 2007年

電気化学的連続プロセスによるInPポーラス構造のサイズ制御
藤野敏幸, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2006年08月29日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスを施したGaNおよびAlGaN表面構造の評価
塩崎奈々子, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2006年08月29日, 日本語
［国内会議］

ヘキサゴナルBDD回路高密度実装に適した化合物半導体ナノ細線デバイスの検討
田村隆博, 葛西誠也, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2006年08月29日, 日本語
［国内会議］

AlGaN/GaNオープンゲートHFETの溶液中でのふるまい
古川拓也, 佐藤威友, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2006年08月29日, 日本語
［国内会議］

Ptショットキーゲートを用いた高感度InP水素センサーの検討
木村健, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

AlGaN/GaNオープンゲートFETを用いた化学センサ
古川拓也, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

陽極酸化エッチングプロセスを用いた化合物半導体微細構造の作製
塩崎奈々子, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

加工基板へのGaN/AlGaNヘテロ構造の選択的MBE成長と埋め込み細線の形成
佐藤威友, 佐藤威友, 及川武, 及川武, 長谷川英機, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長GaAsヘキサゴナルネットワークの形成とBDD節点デバイスの集積化
田村隆博, 玉井功, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスにより作製したInPナノ構造の光学的特性
藤野敏幸, 木村健, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2006年03月22日, 日本語
［国内会議］

Optical Properties of Size-controlled Porous Nanostructures Formed on n-InP (001) Substrates by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
FUJINO Toshiyuki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
2006 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2006年, 英語
［国際会議］

Self-assembled Formation of Uniform Arrays of InP Nanopores and Nanowires by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, FUJINO Toshiyuki, HASHIZUME Tamotsu
210th Meeting of the Electrochemical Society, 2006年, 英語
［国際会議］

Self-Assembled Formation of Uniform Arrays of InP Nanopores and Nanowires by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
210th Joint International Meeting of Electrochemical Society, 2006年

Selective MBE Growth of Shape- Size- and Position- Controlled GaAs Nanowire Networks on (111)B Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
International Semiconductor Device Research Symposium, 2005年12月07日, 英語
［国際会議］

Self-Organized Formation of Chaotic and Regular Nanostructures on (001) and (111) InP Substrates by Electrochemical Anodization Process　　　　　　　　　　　　　　　
FUJINO Toshiyuki, KIMURA Takeshi, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki, HASHIZUME Tamotsu
International Symposium on Surface Science and Nanotechnology, 2005年11月14日, 英語
［国際会議］

Growth Simulation and Actual MBE Growth of Triangular GaAs Nanowires on Patterned (111)B Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki, HASHIZUME Tamotsu
International Symposium on Surface Science and Nanotechnology, 2005年11月14日, 英語
［国際会議］

Embedded Nanowire Network Growth and Node Device Fabrication for GaAs-Based High-Density Hexagonal BDD Quantum Circuits　　　　　　　　　　　　　　　
TAMURA Takahiro, TAMAI Isao, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki, HASHIZUME Tamotsu
2005 Solid State Devices and Materials, 2005年09月12日, 英語
［国際会議］

Sensing Mechanism of InP Hydrogen Sensors Using Pt Schottky Diodes Formed by Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
KIMURA Takeshi, HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu
2005 Solid State Devices and Materials, 2005年09月12日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長GaAs量子細線ネットワークの形成とヘキサゴナルBDD回路応用への検討
田村隆博, 玉井功, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

RF‐MBE法によるGaN(0001)加工基板へのAlGaN/GaN成長と,その選択性
及川武, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成と制御
藤野敏幸, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

(001)面メサ型加工基板への選択的MBE成長によるGaAs/AlGaAs細線の形成機構
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

Pt/InPショットキーダイオードによる水素センシングのメカニズム考察
木村健, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

陽極酸化とエッチングプロセスによるGaAs,AlGaAs微細加工の検討
塩崎奈々子, 佐藤威友, 赤沢正道, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長法を用いたGaAs(111)B加工基板へのGaAs/AxGa1-xAs量子細線の形成
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機, 橋詰保
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2005年09月07日, 日本語
［国内会議］

Precisely Controlled Anodic Etching for Processing of GaAs-based Quantum Nanostructures and Devices　　　　　　　　　　　　　　　
SHIOZAKI Nanako, SATO Taketomo, AKAZAWA Masamichi, HASEGAWA Hideki
10th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (ICFSI-10), 2005年07月03日, 英語
［国際会議］

Selective MBE growth ofAlGaN/GaN quantum wire structures on pre-patterned GaN (0001) substrates and its growth mechanism　　　　　　　　　　　　　　　
OIKAWA Takeshi, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
8th International Conference on Atomically Controlled Surfaces Interfaces and Nanostructures, 2005年06月19日, 英語
［国際会議］

MBE Growth and Si-interlayer Based Surface Passivation of GaAs Quantum Wires　　　　　　　　　　　　　　　
SHIOZAKI Nanako, SATO Taketomo, AKAZAWA Masamichi, HASEGAWA Hideki
29th Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuit, 2005年05月16日, 英語
［国際会議］

Electrodeposited Pt/InP Schottky Barriers with Large Barrier Heights and Large Hydrogen Sensitivity for Sensor Chips Using InP-based Quantum Wire Networks　　　　　　　　　　　　　　　
KIMURA Takeshi, MATSUO Kazushi, SATO Taketomo, HASHIZUME, Tamotsu, HASEGAWA Hideki
17th Indium Phosphide and Related Materials Conference, 2005年05月08日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長法によるGaN(0001)加工基板上へのAlGaN/GaNナノ構造形成メカニズム
及川武, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長GaAs量子細線ネットワークを適用したBDD量子節点デバイスの試作と評価
田村隆博, 湯元美樹, 玉井功, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

GaAs(111)B加工基板へのMBE選択成長法による量子細線の形成とその形成メカニズム(2)
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

GaAs(001)および(111)B基板に作製したGaAs/AlGaAs量子細線の表面パッシベーション
塩崎奈々子, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

〈-110〉方向に沿ったメサ型加工基板へのMBE成長とGaAsリッジ細線の形成過程
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

InP系材料を用いたPtショットキーダイオードによる水素ガスセンシング
木村健, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2005年03月29日, 日本語
［国内会議］

Growth Kinetics and Theoretical Modeling of Selective Molecular Beam Epitaxy for Growth of GaAs Nanowires on Non-planar Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
2005 RCIQE International Seminar for 21st Century COE Program: Quantum Nanoelectronics for Meme-Media-Based Information Technologies (III), 2005年02月08日, 英語
［国際会議］

Investigation of Side-Gating Effects in GaAs-based Quantum Wire Transistor　　　　　　　　　　　　　　　
JIA Rui, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
2005 RCIQE International Seminar for 21st Century COE Program: Quantum Nanoelectronics for Meme-Media-Based Information Technologies (III), 2005年02月08日, 英語
［国際会議］

High-Density Hexagonal Nanowire Networks on Pre-Patterned GaAs (001) and (111)B Substrates by Selective MBE Growth　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
2005 RCIQE International Seminar for 21st Century COE Program: Quantum Nanoelectronics for Meme-Media-Based Information Technologies (III), 2005年02月08日, 英語
［国際会議］

Effects of Surface States and Si-interlayer Based Surface Passivation on GaAs Quantum Wires Grown by Selective Molecular Beam Epitaxy　　　　　　　　　　　　　　　
SHIOZAKI Nanako, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
32nd Conference on the Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 2005年01月23日, 英語
［国際会議］

Growth Kinetics and Theoretical Modeling of Selective Molecular Beam Epitaxy for Growth of GaAs Nanowires on Non-planar (111)B Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
32nd Conference on the Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 2005年01月23日, 英語
［国際会議］

Self-assembled formation of InP nanopore arrays by photoelectrochemical anodization in HCl based electrolyte　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, FUJINO Toshiyuki, HASEGAWA Hideki
8th International Conference on Atomically Controlled Surfaces Interfaces and Nanostructures, 2005年01月19日, 英語
［国際会議］

Growth of GaN Based Quantum Wire Arrays and Networks by RF Radical Assisted Selective Molecular Beam Epitaxy　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, OIKAWA Takeshi, HASEGAWA Hideki
The 5th International Conference on Low Dimensional Structures and Devices (LDSD2004), 2004年12月12日, 英語
［国際会議］

Hexagonal BDD Quantum Circuit Architecture for Intelligent Quantum (IQ) Chips　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, KASAI Seiya, YUMOTO Miki, SATO Taketomo
11th Advanced Heterostructure Workshop, 2004年12月05日, 英語
［国際会議］

Selective MBE Growth of High-Density Hexagonal Nanowire Networks on Pre-Patterned GaAs (001) and (111)B Substrates International Symposium on Nanoscale Devices and Materials　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
206th Meeting of ECS, 2004年10月03日, 英語
［国際会議］

Design and Implementation of Ultra-Small and Ultra-Low-Power Digital Systems Utilizing A Hexagonal BDD Quantum Circuits on GaAs-based Hexagonal Nanowire Network Structures　　　　　　　　　　　　　　　
KASAI Seiya, YUMOTO Miki TAMURA Takahiro, TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
International Symposium on Nanoscale Devices and Materials:206th Meeting of ECS, 2004年10月03日, 英語
［国際会議］

Molecular Beam Epitaxial Growth of GaAs- and GaN-Based Quantum Wire Arrays and Networks on Pre-Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, OIKAWA Takeshi, HASEGAWA Hideki
7th China-Japan Symposium on Thin Films (CJSTF-7), 2004年09月20日, 英語
［国際会議］

Growth of AlGaN/GaN Quantum Wire Structures by RF-Radical Assisted MBE on Pre-Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, OIKAWA Takeshi, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
International Conference on Solid State Devices and Materials 2004, 2004年09月14日, 英語
［国際会議］

Cross-sectional Evolution and Its Mechanism during Selective MBE Growth of GaAs Quantum Wires on (111)B Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
International Conference on Solid State Devices and Materials 2004, 2004年09月14日, 英語
［国際会議］

Investigation of Current and Potential Control Characteristics by Nanosized Schottky Gate on AlGaAs/GaAs Surfaces　　　　　　　　　　　　　　　
JIA Rui, SATO Taketomo, KASAI Seiya, HASEGAWA Hideki
31st International Symposium on Compound Semiconductors, 2004年09月12日, 英語
［国際会議］

Investigation of Current and Potential Control Characteristics by Nanosized Schottky Gate on AlGaAs/GaAs Surfaces　　　　　　　　　　　　　　　
Jia Rui, Sato Taketomo, Kasai Seiya, Hasegawa Hideki
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 英語
［国内会議］

GaAs(111)B加工基板へのMBE選択成長法による量子細線の形成とその形成メカニズム
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長法によるInP(111)B基板上へのInGaAs量子細線ネットワークの形成
木村健, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

Si界面制御層を用いたGaAs/AlGaAs量子細線の表面パッシベーション
塩崎奈々子, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

ECRドライエッチングとMBE選択成長法による加工基板上へのAlGaN/GaNナノ構造の作製と評価
及川武, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長を用いたGaAs BDD量子節点デバイスの試作と性能評価
田村隆博, 湯元美樹, 玉井功, 佐藤威友, 葛西誠也, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

RFラジカル支援MBE法によるGaN(0001)加工基板へのGaN/AlGaNヘテロ構造の成長
佐藤威友, 及川武, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2004年09月01日, 日本語
［国内会議］

Selective MBE Growth of GaAs Hexagonal Nano-wire Network on Pre-patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
Hokkaido Univ. and Seoul National Univ. Joint Symposium, 2004年07月08日, 英語
［国際会議］

Growth Mechanism of GaAs Ridge Quantum Wires on Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
Hokkaido Univ. and Seoul National Univ. Joint Symposium, 2004年07月08日, 英語
［国際会議］

Sidegating Effect Study in AlGaAs/GaAs Quantum Wire Transistors　　　　　　　　　　　　　　　
JIA Rui, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
Hokkaido Univ. and Seoul National Univ. Joint Symposium, 2004年07月08日, 英語
［国際会議］

GaAs BDD Quantum Node Switches Fabricated on Selectively MBE Grown Quantum Wire Networks　　　　　　　　　　　　　　　
TAMURA Takahiro, YUMOTO Miki, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
46th Electronic Materials Conference (EMC2004), 2004年06月23日, 英語
［国際会議］

Controlled growth of GaAs ridge quantum wire network by selective MBE and its application to hexagonal BDD quantum logic circuits　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, TAMURA Takahiro, TAMAI Isao, YUMOTO Miki
12th Int. Symposium on Nanostructures Physics and Technology, 2004年06月21日, 英語
［国際会議］

Surface-related reduction of photoluminescence from GaAs quantum wires and effects of surface passivation using Si interface control layer　　　　　　　　　　　　　　　
SHIOZAKI Nanako, ANANTATHANASARN Sanguan, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
The 12th International Conference on Solid Films and Surfaces, 2004年06月21日, 英語
［国際会議］

Study on ECR dry etching and selective MBE growth of AlGaN/GaN for fabrication of quantum nanostructures on GaN(0001) substrates　　　　　　　　　　　　　　　
OIKAWA Takeshi, ISHIKAWA Fumitaro, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
The 12th International Conference on Solid Films and Surfaces, 2004年06月21日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長を用いたGaAs量子細線スイッチの作製と評価
田村隆博, 湯元美樹, 玉井功, 佐藤威友, 葛西誠也, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2004年03月28日, 日本語
［国内会議］

加工基板を用いたMBE選択成長法によるGaAsリッジ細線の形成メカニズム
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2004年03月28日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長法による高密度GaAsヘキサゴナル細線ネットワークの形成(2)
玉井功, 吉田崇一, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2004年03月28日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長による(111)B加工基板上への高密度GaAs量子細線ネットワークの作製と評価
吉田崇一, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2004年03月28日, 日本語
［国内会議］

内部交差量子細線構造の深さ分解/面内分布カソードルミネッセンス評価
石川史太郎, 及川武, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2004年03月28日, 日本語
［国内会議］

Growth Kinetics and Modeling of Selective Molecular Beam Epitaxial Growth of GaAs Ridge Quantum Wires on Pre-Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
2004 International Seminar for 21st Century COE Program: Quantum Nanoelectronics for Meme-Media-Based Infromation Technology (II), 2004年02月09日, 英語
［国際会議］

Mechanism of Selective Growth of GaAs Ridge Quantum Wires on Non-planar Substrates during Molecular Beam Epitaxy　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
31st Conference on the Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 2004年01月18日, 英語
［国際会議］

Prospects of III-V quantum LSIs based on hexagonal BDD approach　　　　　　　　　　　　　　　
KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
2003年12月10日, 英語
［招待講演］, ［国際会議］

Selective MBE Growth of GaAs Hexagonal Nano-wire Networks on (111)B Patterned Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
YOSHIDA Souichi, TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
International Conference on Solid State Devices and Materials, 2003年09月16日, 英語
［国際会議］

Control of Heterointerface Cross-Sections of GaAs Ridge Quantum Wires by Selective Molecular Beam Epitaxy　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, YOSHIDA Souichi, HASEGAWA Hideki
The 9th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (ICFSI-9), 2003年09月15日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長法を用いた高密度GaAsヘキサゴナル細線ネットワークの形成
玉井功, 吉田崇一, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2003年08月30日, 日本語
［国内会議］

(111)B加工基板上へのMBE選択成長によるGaAs量子細線ネットワークの形成
吉田崇一, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2003年08月30日, 日本語
［国内会議］

GaAs加工基板上へのMBE選択成長法によるGaAs/AlGaAsリッジ細線の形成メカニズム
佐藤威友, 玉井功, 吉田崇一, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2003年08月30日, 日本語
［国内会議］

Formation of High Density GaAs Hexagonal Nanowire Networks by Selective MBE Growth on Pre-patterned (001) Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
11th International Conference on Modulated Semiconductor Structures (MSS11), 2003年07月14日, 英語
［国際会議］

Kinetic Evolution of Facet Boundary Planes during Growth of III-V Ridge Quantum Wire Arrays by Selective Molecular Beam Epitaxy　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, JIANG Chao, MURANAKA Tsutomu
Symposium on Surface Science 2003 (3S03), 2003年03月30日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長法を用いたGaAs/AlGaAsヘキサゴナル細線ネットワークの形成とその評価 (2)
玉井功, 吉田崇一, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2003年03月27日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長法によるGaAs(111)B加工基板上へのGaAs系量子構造の作製と評価
吉田崇一, 玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2003年03月27日, 日本語
［国内会議］

加工基板を用いたMBE選択成長によるGaAs/AlGaAsリッジ細線の形成とデバイス応用
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2003年03月27日, 日本語
［国内会議］

Selective MBE Growth of GaAs Ridge Quantum Wires for Formation of Hexagonal Nanowire Networks　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
2003 RCIQE International Seminar on Quantum Nanoelectronics for Meme-Media-Based Information Technologies, 2003年02月12日, 英語
［国際会議］

Selective MBE Growth of GaAs Ridge Quantum Wire Arrays on Patterned (001) Substrates and Its Growth Mechanism　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
29th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2002), 2002年10月07日, 英語
［国際会議］

GaAs上に形成したナノショットキーゲート電極のポテンシャル制御特性 (2)
亀田篤志, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2002年09月24日, 日本語
［国内会議］

加工基板を用いたMBE選択成長法によるGaAs/AlGaAs量子細線の形成と評価 (2)
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2002年09月24日, 日本語
［国内会議］

MBE選択成長法を用いたGaAs/AlGaAsヘキサゴナル細線ネットワークの形成とその評価
玉井功, 吉田崇一, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2002年09月24日, 日本語
［国内会議］

Selective MBE Growth of <-110> and <510>-Oriented GaAs Ridge Quantum Wires on Patterned (001) Substrates for Formation of Hexagonal Nanowire Networks　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, HASEGAWA Hideki
The Second International Workshop on Quantum Nonplanar Nanostructures & Nanoelectronics (QNN02), 2002年09月09日, 英語
［国際会議］

Mechanism and Suppression of Anomalously Large Reverse Leakage Currents in n-type GaN Schottky Contacts　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, OYAMA Susumu, HASEGAWA Hideki
26th International Conference on the Physics of Semiconductors, 2002年07月29日, 英語
［国際会議］

Selective MBE Growth of High Density GaAs/AlGaAs Hexagonal Nanowire Network Structures on Pre-Patterned GaAs Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
TAMAI Isao, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
2002 Electronic Materials Conference, 2002年06月26日, 英語
［国際会議］

Understanding and Control of Current Transport in GaN Schottky Contacts with Large Reverse Leakage Currents　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, OYAMA Susumu
26th Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits held in Europe (WOCSDICE), 2002年05月21日, 英語
［国際会議］

MBE選択成長法により形成したGaAs/AlGaAs結合量子細線構造の評価
玉井功, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2002年03月27日, 日本語
［国内会議］

GaAs上に形成したナノショットキーゲート電極のポテンシャル制御特性
亀田篤志, 葛西誠也, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2002年03月27日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成とその応用 (3)
平野哲郎, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2002年03月27日, 日本語
［国内会議］

加工基板を用いたMBE選択成長法によるGaAs/AlGaAs量子細線の形成と評価
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2002年03月27日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成とその応用(2)
平野哲郎, 佐藤威友, 伊藤章, 石川史太郎, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2001年09月11日, 日本語
［国内会議］

加工基板を用いたMBE選択成長法によるGaAsリッジ構造の形成と評価
佐藤威友, 玉井功, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2001年09月11日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるInPポーラス構造の形成とその応用
平野哲郎, 佐藤威友, 伊藤章, 石川史太郎, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2001年03月28日, 日本語
［国内会議］

化合物半導体ナノショットキー接触界面の電気的特性とその制御(2)
佐藤威友, 亀田篤志, 葛西誠也, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2001年03月28日, 日本語
［国内会議］

Effects of Surface Fermi Level Pinning and Surface State Charging on Control Characteristics of Nanometer Scale Schottky Gates Formed on GaAs　　　　　　　　　　　　　　　
KAMEDA Atsuchi, KASAI Seiya, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
2001 International Semiconductor Device Research Symposium (ISDRS2001), 2001年, 英語
［国際会議］

Selective MBE Growth of GaAs/AlGaAs Hexagonal Nanowire Network Structures on (001) Patterned GaAs Substrates　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, TAMAI Isao, JIANG Chao, HASEGAWA Hideki
28th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2001), 2001年, 英語
［国際会議］

Electrochemical Formation of Self-Assembled Nanopore Arrays As Templates for MBE Growth of InP-based Quantum Wires and Dots　　　　　　　　　　　　　　　
HIRANO Tetsuro, ITO Akira, SATO Taketomo, ISHIKAWA Fumitaro, HASEGAWA Hideki
2001 International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM2001), 2001年, 英語
［国際会議］

微小金属ドットを有する化合物半導体単電子デバイス構造(5)
岡田浩, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2000年09月03日, 日本語
［国内会議］

化合物半導体ナノショットキー接触界面の電気的特性とその制御
佐藤威友, 葛西誠也, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2000年09月03日, 日本語
［国内会議］

微小金属ドットを有する化合物半導体単電子デバイス構造(4)
岡田浩, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2000年03月28日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスを用いて作製した化合物半導体ナノショットキー接触の電気的特性
佐藤威友, 葛西誠也, 岡田浩, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 2000年03月28日, 日本語
［国内会議］

Electrical Properties of Nanometer-Sized Schottky Contacts for Gate Control of III-V Single Electron Devices　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KASAI Seiya, HASEGAWA Hideki
International Symposium on Formation Physics and Device Application of Quantum Dot Structures, 2000年, 英語
［国際会議］

Current Transport and Capacitance-Voltage Characteristics of GaAs and InP Nanometer-Sized Schottky Contacts Formed by in situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KASAI Seiya, HASEGAWA Hideki
10 th International Conference on Solid Films and Surfaces, 2000年, 英語
［国際会議］

Formation and Characterization of Nanometer-Sized Schottky Contacts on III-V Materials by In-SItu Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KASAI Seiya, HASEGAWA Hideki
42nd Electronic Materials Conference, 2000年, 英語
［国際会議］

Self-Assembled Formation of InP Nanopore Arrays by Electrochemical Anodization　　　　　　　　　　　　　　　
FUJIKURA Hajime, LIU Aimin, SATO Taketomo, HIRANO Tetsuro, HASEGAWA Hideki
2000 International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM2000), 2000年, 英語
［国際会議］

ナノショットキー接触の電気的特性
佐藤威友, 葛西誠也, 岡田浩, 長谷川英機
電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集, 1999年10月23日, 日本語
［国内会議］

微小金属ドットを有する化合物半導体単電子デバイス構造 (3)
岡田浩, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1999年09月01日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスを用いて作製したナノショットキー接触の電気的特性
佐藤威友, 葛西誠也, 岡田浩, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1999年09月01日, 日本語
［国内会議］

微小金属ドットを有する化合物半導体単電子デバイス構造 (2)
岡田浩, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1999年03月28日, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスを用いたInP系材料に対するナノショットキー接触の形成
佐藤威友, 岡田浩, 長谷川英樹
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1999年03月28日, 日本語
［国内会議］

電気科学プロセスによるIII‐V族化合物半導体表面・ショットキー界面の制御
橋詰保, 兼城千波, 佐藤威友, 長谷川英機
電気化学会大会講演要旨集, 1999年03月24日, 日本語
［国内会議］

Properties of nanometer-sized metal contacts on GaAs, InP and their related materials　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, KASAI Seiya
Surfaces and Interfaces of Mesoscopic Devices, 1999年, 英語
［国際会議］

Electrochemical Formation of Nanometer-Sized Straight Pore Arrays on (001) InP Surfaces　　　　　　　　　　　　　　　
LIU Aimin, HAMAMATSU Akihito, SATO Taketomo, FUJIKURA Hajime, HASEGAWA Hideki
International Symposium on Surface Science for Micro- and Nano-Device Fabrication, 1999年, 英語
［国際会議］

Electrical Properties of Nanometer-Sized Schottky Contacts on n-GaAs and n-InP Formed by in situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KASAI Seiya, OKADA Hiroshi, HASEGAWA Hideki
International Symposium on Surface Science for Micro- and Nano-Device Fabrication, 1999年, 英語
［国際会議］

Unpinning of Fermi Level in Nanometer-Sized Schottky Contacts on GaAs and InP　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo
7th International Conference on Formation of Semiconductor Interfaces, 1999年, 英語
［国際会議］

Subnano-Scale Selective Etching and Nano-Scale Pore Array Formation on InP (001) Surfaces by a Wet Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
HAMAMATSU Akihito, KANESHIRO Chinami, SATO Taketomo, FUJIKURA Hajime, HASEGAWA Hideki
International Conference on 1999 Indium Phosphide and Related Materials (IPRM99), 1999年, 英語
［国際会議］

Formation on Nanometer-Sized Schottky Contacts on InP and Related Materials by in situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, OKADA Hiroshi, HASEGAWA Hideki
11th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM99), 1999年, 英語
［国際会議］

Formation of Fermi Level Pinning Free Nano-scale Schottky Contacts on Compound Semiconductor and Their Application to Single Electron Devices　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, OKADA Hiroshi
Symposium on Surface Physics, 1999年, 英語
［国際会議］

微小金属ドットを有する化合物半導体単電子デバイス構造
岡田浩, 佐藤威友, 兼城千波, 地主啓一郎, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1998年09月, 日本語
［国内会議］

陽極化成法による多孔質InPの形成
浜松亮仁, 佐藤威友, 兼城千波, 藤倉序章, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1998年09月, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによるn‐InP表面のエッチング
兼城千波, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1998年09月, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによる金属微粒子の形成と金属/半導体ナノ構造への応用
佐藤威友, 岡田浩, 兼城千波, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1998年09月, 日本語
［国内会議］

電気化学プロセスによる金属微粒子アレイの形成と電気的特性の評価
佐藤威友, 岡田浩, 兼城千波, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1998年03月, 日本語
［国内会議］

n‐GaAsショットキー接触における金属仕事関数依存性
兼城千波, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1998年03月, 日本語
［国内会議］

電解溶液中におけるPt‐dots/InP表面の光起電力特性
浜松亮仁, 兼城千波, 佐藤威友, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1998年03月, 日本語
［国内会議］

In Situ電気化学プロセスを用いたショットキー障壁の形成と制御 (2)
佐藤威友, 兼城千波, SOKOLOV D V, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1998年03月, 日本語
［国内会議］

Properties of Nanometer-Sized Metal-Semiconductor Interfaces of GaAs, InP and GaN Formed by An In-Situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
HASEGAWA Hideki, SATO Taketomo, KANESHIRO Chinami, KOYAMA Yuuji
1999 International Conference on Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 1998年, 英語
［国際会議］

Realization of Strongly Metal-Dependent Schottky Barrier Heights on n-GaAs by In Situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
KANESHIRO Chinami, SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
25th International Symposium on Compound Semiconductors, 1998年, 英語
［国際会議］

Surface Modification of InP By Photoelectrohcemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
HAMAMATSU Akihito, KANESHIRO Chinami, SATO Taketomo, FUJIKURA Hajime, HASEGAWA Hideki
International Symposium on Electrochemistry of Ordered Interfaces, 1998年, 英語
［国際会議］

Formation of Size- and Position-Controlled Nanometer Size Pt Dots on GaAs and InP Substrates by Pulsed Electrochemical Deposition　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KANESHIRO Chinami, OKADA Hiroshi, HASEGAWA Hideki
International Conference on Solid State Devices and Materials, 1998年, 英語
［国際会議］

Fabrication of Regular Arays of Nanometer-Sized Pt Dots on III-V Substrates by Electron Beam Lithography and Electrochemical Deposition　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KANESHIRO Chinami, OKADA Hiroshi, HASEGAWA Hideki
40th Electronic Matterials Conference (EMC'98), 1998年, 英語
［国際会議］

Highly Controllable Electrochemical Etching of InP studied by Voltammetry and Scanned Probe Microscope　　　　　　　　　　　　　　　
KANESHIRO Chinami, SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
10th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM98), 1998年, 英語
［国際会議］

Strong Correlation Between Interface Microstructure and Barrier Height in n-InP Schottky Contacts Formed by In Situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, KANESHIRO Chinami, HASEGAWA Hideki
10th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM98), 1998年, 英語
［国際会議］

電気化学プロセスを用いたPtドットアレイの形成
佐藤威友, 岡田浩, 兼城千波, 長谷川英機
電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集, 1998年, 日本語
［国内会議］

InP表面の溶液中“in situ”STM観察
兼城千波, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1997年10月, 日本語
［国内会議］

InP系化合物半導体ショットキー接合の光起電力特性
浜松亮仁, 佐藤威友, 兼城千波, 斎藤俊也, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1997年10月, 日本語
［国内会議］

In Situ電気化学プロセスを用いたショットキー障壁の形成と制御
佐藤威友, 兼城千波, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1997年10月, 日本語
［国内会議］

化合物半導体ショットキー障壁高の電気化学プロセスによる制御
佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
電気化学秋季大会講演要旨集, 1997年08月, 日本語
［国内会議］

スパッタによるPt/InP界面の形成
野矢厚, 武山真弓, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1997年03月, 日本語
［国内会議］

InP系材料へのin‐situ電気化学プロセスを用いたショットキー障壁の形成
佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1997年03月, 日本語
［国内会議］

Formation of Pinning-Free Schottky Barriers on InP and Related Materials by Novel In-Situ Electrochemical Process and Its Mechanism　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, HASEGAWA Hideki
9th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM97), 1997年, 英語
［国際会議］

Evolution of Nearly Pinning-Free Metal-Semiconductor Interfaces on InP and Related Materials by Novel In-Situ Electrochemical Process　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
1997 International Conference on Physics and Chemistry of Semiconductor Interfaces, 1997年, 英語
［国際会議］

電気化学STMによるInP表面の観察
兼城千波, 佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集, 1997年, 日本語
［国内会議］

In Situ電気化学プロセスを用いたショットキー障壁の形成
佐藤威友, 兼城千波, 橋詰保, 長谷川英機
電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集, 1997年, 日本語
［国内会議］

InP系混晶材料に対する高いショットキー障壁の実現とその形成機構
佐藤威友, 宇野正一, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学会学術講演会講演予稿集, 1996年09月, 日本語
［国内会議］

In situ電気化学プロセスによるInP系材料へのショットキー障壁の形成
宇野正一, 佐藤威友, 葛西誠也, 橋詰保, 長谷川英機
応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 1996年03月, 日本語
［国内会議］

Enhancement of Schottky Barrier Heights on Indium Phosphide-Based Materials by In-Situ Electrochemical Process and Its Mechanism　　　　　　　　　　　　　　　
SATO Taketomo, UNO Shouichi, HASHIZUME Tamotsu, HASEGAWA Hideki
International Conference on Solid State Devices and Materials, 1996年, 英語
［国際会議］

Fabrication of high-performance InP MESFETs with in-situ pulse-plated metal gates　　　　　　　　　　　　　　　
UNO Shouichi, Tamotsu Hashizme, SATO Taketomo, FUJIKURA Hajime, HASEGAWA Hideki
International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM96), 1996年, 英語
［国際会議］

in‐situ電気化学プロセスを用いたInP系材料に対する高いショットキー障壁の形成とその形成機構
佐藤威友, 橋詰保, 長谷川英機
電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集, 1996年, 日本語
［国内会議］

自然科学実験（物理学）　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 全学

電気電子工学実験基礎　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

情報エレクトロニクス特別演習　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 情報科学研究科

機能デバイス学特論　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 情報科学研究科

電子工学演習　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

電子工学実験　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

量子力学　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

国際交流科目”Forefront of Semiconductor Electronics”　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 全学

情報学　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 全学

科学技術の世界「半導体エレクトロニクスの最前線」　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 全学

電子情報工学実験　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

応用数学1　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

先端デバイス学特論　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 情報科学研究科

応用デバイス回路学特論　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 情報科学研究科

集積回路工学　　　　　　　　　　　　　　　
北海道大学 工学部

電子情報工学実験 テキストの作成・更新　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤 威友, ［教材］

量子集積エレクトロニクス研究センター ホームページの更新　　　　　　　　　　　　　　　
佐藤 威友, ［Webサービス］

窒化物半導体異種界面パラレル伝導制御とマルチチャネル高周波トランジスタの開発
科学研究費助成事業
2023年04月01日 - 2026年03月31日
佐藤 威友, 三好 実人, 赤澤 正道
日本学術振興会, 基盤研究(B), 北海道大学, 23H01437

超ワイドギャップAlN系半導体を用いたパワートランジスタの開発
科学研究費助成事業 基盤研究(B)
2021年04月01日 - 2024年03月31日
三好 実人, 佐藤 威友
窒化アルミニウム(AlN)は、GaNの3.4eV、SiCの3.2eVを大きく上回る6.2eVという極めて大きなバンドギャップエネルギーを持つ究極的なパワーデバイス用半導体材料である。AlNの絶縁破壊電界は非常に高く、パワーデバイスとして利用した場合のOFF耐圧はGaNやSiCの約10倍にもなると予想されている。一方、AlNは、化学的安定性が高く機械的強度・硬度に優れることも大きな特徴となっているが、これらの諸物性は機能デバイスへの応用を考えた際の技術的困難さも生じさせている。本研究では、将来社会の省エネ化ニーズに応えるアイテムとして、GaN, SiC以上の超ワイドバンドギャップ半導体である窒化アルミニウム(AlN)系ヘテロ構造をベースとしたパワートランジスタを着想、その実現に向けた課題と方策を以下のように設定し、研究計画を策定した。
(1) AlN系ヘテロ構造のエピタキシャル成長技術確立： 目標のトランジスタ構造を実現するために表面平坦で且つ所望の電気特性を示すAlN系ヘテロ構造のエピタキシャル成長技術を確立する。
(2) AlN系トランジスタのデバイス化技術構築： デバイス化にあたってのキーとなるオーミック電極形成、およびノーマリOFF動作のための精密微細加工に係るプロセス技術を構築する。
(3) AlN系トランジスタの試作と到達性能の確認： 上記2項目に対応したうえでデバイス試作と評価を進め、理想デバイスの設計と到達性能の理論推定を行う。以上のような学理的なアプローチを以て、AlN系トランジスタが既存品を超えて真に将来有望なデバイスとなり得るかを検証する。
日本学術振興会, 基盤研究(B), 名古屋工業大学, 21H01389

強力な酸化剤を用いた窒化物半導体ウェットエッチング技術の開発とトランジスタ応用
科学研究費助成事業 基盤研究(B)
2020年04月01日 - 2023年03月31日
佐藤 威友, 三好 実人, 橋詰 保
(1)硫酸ラジカル（SO4*-）を使った窒化物半導体混晶（AlGaN）のエッチング
前年度に得られた知見を基に、窒化アルミニウムガリウム（AlGaN）のウェットエッチングに成功した。UVC照射強度とともに硫酸ラジカル（SO4*-）の生成レートは上昇し、エッチングレートが増大した。また、反応初期では、エッチング深さはUVC照射時間に比例して増大したが、時間の経過とともにエッチング量が飽和し自己停止した。自己停止深さは、試料表面に形成する陰極パッドの材質により大きく変化することを明らかにした。陰極パッドの役割は、UVC照射によって生成した電子-正孔対のうち、エッチング反応に利用されない電子を効率的に反応面から遠ざけることにあり、試料表面との接触抵抗が低い材料を陰極パッドに用いた場合に、エッチングレートが増大することを示した。さらに、開発したウェットエッチング法を、AlGaN/GaNヘテロ構造を利用したヘテロ構造電界効果トランジスタ（HFET）のゲートリセス加工に適用した。AlGaN層内でエッチングを自己停止することにより、同一チップ上に作製したトランジスタの閾値電圧のばらつきを抑えることに成功した。
(2)溶液とp-GaN界面の電気化学的評価
電気化学容量-電圧（ECV）法、電気化学インピーダンス分光（EIS）法により、水溶液／p-GaN界面の電気的特性評価を行った。本測定により得られたp-GaNのアクセプタ密度は、大気中で測定したショットキーダイオードの結果と矛盾なく、設計通りの値を示した。また、溶液中で正の電圧（陽極電圧）を印加すると、p-GaN表面に酸化膜が形成され内蔵電位や周波数応答特性の違いとして検出されることを明らかにした。p-GaNの電気化学エッチング量は、時間や通過電荷量で制御可能であることを示した。
日本学術振興会, 基盤研究(B), 北海道大学, 20H02175

特異構造を含む異種接合の界面制御と電子デバイス展開
科学研究費助成事業 新学術領域研究(研究領域提案型)
2016年06月30日 - 2021年03月31日
橋詰 保, 赤澤 正道, 佐藤 威友
種々の特異構造を内包するGaN系異種接合界面電気的評価を行い、化学的・構造的・光学的評価と連携させて電子捕獲準位の成因を理解し、混晶異種接合に立脚した新機能素子の実現に貢献する。本年度の主な成果を以下にまとめる。


１）SiO2およびSiNを保護膜とするGaN試料に、N2中1150℃で1分間のアニールを行い、その後HF溶液により保護膜除去を行った。そのGaN表面に原子層堆積法でAl2O3膜を形成した。CV特性の評価より、Al2O3/GaN界面に高密度の電子捕獲準位が存在することが示されたが、SiO2保護膜の場合、400℃/10分のPMA（post-metallization annealing）で顕著な界面特性の回復が観測された。一方、SiN保護膜の場合はGaN表面にSiNが残存するため（1nm以下）、界面特性回復が不十分であることが明らかになった。
２）光電気化学エッチングは低損傷の特長を持つが、電子-正孔分離用のバイアス印加が必要であった。最近、強力酸化剤のペルオキソ硫酸カリウムを利用することにより、無バイアス（通電電極なし）でGaNのエッチングが可能であることを見出した。このプロセスをAlGaN/GaNヘテロ構造に適用し、無バイアスでAlGaN層の選択的エッチングを行い、エッチング面の良好な平坦性を確認した（RMS値0.24nm）。
３）GaN基板上に成長されたAlGaN/GaN構造に原子層堆積法でAl2O3ゲートを形成し、その電気的評価を行った。PMA処理を行うことで非常に良好な電流-電圧特性が観測され、サブシュレショルド領域で理論値に近いSS値（68mV/dec）が得られた。さらに高温領域で動作安定性が確認され、150℃動作においても非常に低い漏れ電流（1.5nA/mm）と室温からのしきい値電圧変動も極めて小さい（0.25V）ことが明らかになった。
日本学術振興会, 新学術領域研究(研究領域提案型), 北海道大学, 16H06421

省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発（パワーデバイス・システム領域）　　　　　　　　　　　　　　　
委託事業-再委託機関
2016年 - 2021年
文部科学省

社会実装を目指したＧａＮ縦型パワーデバイス作製技術の確立　　　　　　　　　　　　　　　
革新的パワーエレクトロニクス創出基盤技術開発事業（パワーデバイス領域）
2021年
文部科学省

GaNの光電気化学エッチングに関する研究　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2021年
株式会社サイオクス, 北海道大学

GaNの光電気化学プロセス　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2021年
三菱電機株式会社, 北海道大学

自己停止酸化機構を利用した窒化物半導体低損傷加工プロセスの開発とトランジスタ応用
科学研究費助成事業 基盤研究(B)
2017年04月01日 - 2020年03月31日
佐藤 威友, 本久 順一, 橋詰 保
光電気化学反応を利用したAlGaN/GaN 高電子移動度トランジスタ(HEMT)のゲートリセス加工プロセスを開発した。溶液とAlGaN界面でおこる反応の基礎過程を明らかにし、AlGaN層で光励起される正孔を利用することにより、平坦でかつ深さ制御されたエッチングが可能であることを見出した。さらに最適な反応条件では、エッチングが自己停止することを発見し、チップ面内において均一な深さで加工を止める方法を確立した。これにより作製されたショットキー型およびMIS型HEMTは、従来素子と比べて、しきい値電圧のばらつきが小さく、ゲート制御性が向上することを示した。
日本学術振興会, 基盤研究(B), 北海道大学, 17H03224

自己停止酸化機構を利用した窒化物半導体低損傷加工プロセスの開発とトランジスタ応用　　　　　　　　　　　　　　　
科学研究費補助金(基盤研究(B))
2017年04月 - 2020年03月
佐藤 威友
文部科学省, 研究代表者, 競争的資金

GaNの光電気化学エッチングに関する研究　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2020年
株式会社サイオクス, 北海道大学

GaNの光電気化学プロセス　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2020年
三菱電機株式会社, 北海道大学

GaNの光電気化学エッチングに関する研究　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2019年
株式会社サイオクス, 北海道大学

窒化物半導体周期的ナノ構造を基盤とした可視光応答型光触媒の開発と人工光合成応用
科学研究費助成事業 挑戦的萌芽研究
2015年04月01日 - 2018年03月31日
佐藤 威友, 橋詰 保, 本久 順一
電気化学的手法により形成される「多孔質構造」を基盤とした窒化ガリウム（GaN）光触媒電極の開発に取り組んだ。電気化学エッチング条件およびその後の化学エッチング条件により、多孔質構造の孔径および深さの精密制御を達成した。光反射率低減および表面積増大により、光電気化学変換効率が向上することを明らかにした。さらに、酸化ニッケル（NiO）および酸化銅（Cu2O）によるGaN電極の機能修飾が、それぞれ、腐食耐性の向上と可視光（400-600nm）領域における光電気化学変換に有望であることを示した。
日本学術振興会, 挑戦的萌芽研究, 北海道大学, 15K13937

窒化物半導体周期的ナノ構造を基盤とした可視光応答型光触媒の開発と人工光合成応用　　　　　　　　　　　　　　　
科学研究費補助金(挑戦的萌芽研究)
2015年04月 - 2018年03月
佐藤 威友
文部科学省, 研究代表者, 競争的資金

III-V族化合物半導体の酸化腐食に関する研究　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2015年 - 2018年
オルガノ株式会社, 北海道大学

低損傷プロセスによる窒化物半導体表面のナノスケール制御と高感度化学センシング　　　　　　　　　　　　　　　
科学研究費補助金(基盤研究(B))
2013年04月 - 2016年03月
佐藤 威友
文部科学省, 研究代表者, 競争的資金

絶縁膜物性・界面状態のGaNトランジスタの性能と関係性の研究　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2016年 - 2016年
住友電気工業株式会社

低損傷プロセスによる窒化物半導体表面のナノスケール制御と高感度化学センシング
科学研究費補助金(基盤研究(B))
2013年 - 2015年
佐藤 威友
窒化物半導体イオン感応性電界効果トランジスタ（ISFET）のさらなる高感度化に向けて、多孔質構造をゲート検出部に持つ新しいISFETを提案しその基盤技術を確立した。電気化学酸化とエッチングにより、高いアスペクト比を有する直径数10nm程度の微細孔を高密度に形成することに成功し、その精密な寸法制御を達成した。大きな孔内壁表面と構造により変調された急峻な内部ポテンシャルが、光電気化学反応の高感度検出に有望であることを明らかにした。孔内部のイオン拡散と電気二重層への電荷充放電について、実験結果および理論的考察をもとに分析し、化学センサの高速化・高感度化に向け新しい知見を得た。
文部科学省, 基盤研究(B), 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 25289079

GaN HEMTのためのプロセス技術と接合界面評価　　　　　　　　　　　　　　　
共同研究
2012年 - 2015年
トヨタ自動車株式会社, 北海道大学

半導体ナノワイヤを基盤とする水素発生用材料の開拓
科学研究費助成事業 挑戦的萌芽研究
2012年04月01日 - 2014年03月31日
本久 順一, 佐藤 威友
本研究ではまずRF支援分子線エピタキシー法を用いた選択成長法により、GaNおよびInGaN系ナノ構造の形成を試みた。6角柱錐形状のGaNナノ構造の形成に成功するとともに、選択成長用のマスク材料の変更によりナノワイヤが形成される可能性を示した。続いて、GaNの基本的な電気化学的特性を明らかにするとともに、光支援電気化学エッチングを用いて作製したGaN多孔質構造において、加工前の平坦GaN基板と比較し大きな光電流が流れることを明らかにした。以上により水素発生用材料としてのGaNナノ構造の有望性を示した。
日本学術振興会, 挑戦的萌芽研究, 北海道大学, 24656196

半導体ナノワイヤを基盤とする水素発生用材料の開拓　　　　　　　　　　　　　　　
科学研究費補助金(挑戦的萌芽研究)
2012年 - 2014年
本久 順一
文部科学省, 競争的資金

半導体多孔質構造を利用した機能的ナノ界面の高密度形成と高感度化学センシング技術
科学研究費補助金(若手研究(A))
2009年 - 2012年
佐藤 威友
平成21年度は、InPポーラス構造の光学物性・電気伝導特性を明らかにするとともに、ポーラス構造を検出部に有するFET型化学センサの実現に向けた基礎的検討を行った。主たる成果を以下に示す。1.p形InP基板にエピタキシャル成長したn形InP層にポーラス構造を形成し、その電気化学的形成条件を最適化した。孔の形状および孔径は、n形層のドーピング濃度と印加陽極電圧に強く依存することを明らかにし、リソグラフィ技術を用いることなく50nm～700nmの任意の孔径をもつポーラス構造の形成に成功した。また、孔の深さは形成時の通過電荷量に比例することを明らかにし、孔の深さをプロセス時間により精密に制御する手法を確立した。2.pn接合InP基板に作製したポーラス構造の光学的特性・電気伝導特性を、紫外可視分光法・光電流一電圧測定により明らかにした。ポーラス形成初期に形成される表面の不均一層を除去した試料では、極めて低い光反射率と高い光吸収率を示すことを明らかにした。また、ポーラス構造の上面と基板裏面に形成した2電極間の電流-電圧特性は整流性を示し、孔壁において十分な電気伝導度を有するとともに、pn接合の内蔵電位がポーラス形成後も保たれていることを明らかにした。上記1.および2.より、高感度化学センサの基礎構造の1つであるpn接合ポーラス構造が達成され、本研究課題の実現に向けた有望な成果が得た。3....
文部科学省, 若手研究(A), 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 21686028

電子準位制御と新ゲート構造による窒化ガリウム系トランジスタの高信頼化
科学研究費補助金(基盤研究(A))
2009年 - 2012年
橋詰 保, 古賀 裕明, 久保 俊晴, 佐藤 威友, 赤澤 正道
窒化物半導体ヘテロ界面を利用した高電子移動度トランジスタ(HEMT)の劣化特性と表面・バルク電子準位との相関、表面・バルク電子準位の特性解明、電子準位制御構造の開発、新しく提案する多重台形チャネル構造の適用と評価を通して、真にロバストな窒化物半導体トランジスタ構造技術の構築を目的として研究を展開した。本年度の主な成果を以下にまとめる。1)2つのゲートを有するAlGaN/GaN HEMTを用いて、オフ状態電界ストレス後に生じる電流減少(コラプス)を詳細に評価し、ゲート端からの電子注入による表面帯電はドレインおよびソース側の両方向で生じていることを初めて明らかにした。また、多重台形チャネルAlGaN/GaN HEMTにおいては、チャネルインピーダンスが非常に高いため、この表面帯電による寄生抵抗増加の影響が非常に小さく、電流コラプスが生じにくいことがわかった。2)原子層堆積により形成したAl_2O_3/AlGaN/GaN構造に、詳細な計算解析とバンドギャップ以下のエネルギーを持つ光支援測定法を適用し、Al_2O_3/AlGaN界面には1x10^<12>cm^<-2>eV^<-1>以上の密度を持つ電子準位が存在することを初めて明らかにした。3)AlGaN/GaN構造に選択電気化学酸化を適用し、ドライエッチングを用いずにリセス構造+MOSゲート構造を形成した。このプロセスにより、ノーマ...
文部科学省, 基盤研究(A), 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 21246007

化合物半導体配列ナノ構造を基盤とする超接合光吸収体の創成と太陽電池応用
科学研究費補助金(挑戦的萌芽研究)
2009年 - 2010年
佐藤 威友, 橋詰 保, 本久 順一, 古賀 裕明
平成22年度は、n形インジウムリン(InP)ポーラス(多孔質)構造の内壁に白金(Pt)薄膜を形成する手法を開発し、InP配列ナノ構造を基盤とするPt/InPショットキー型光電変換素子の試作を行った。1.n形InP多孔質構造の孔内壁表面にPt薄膜を電解析出により形成する手法を開発した。真空蒸着法と比較してPt薄膜による孔内壁表面の被覆率が高く、Pt薄膜の厚さは時間により制御可能であることを明らかにした。特に電解析出電圧をパルス波形で印加することにより、膜厚の緻密な制御が可能であり、孔径600nmで深さ4μmからなる多孔質構造の内壁に厚さ20nmの均一なPt薄膜の形成に成功した。2.作製したPt/InP多孔質構造の光反射率特性を明らかにした。入射光200nm-1100nmの波長領域における光反射率は5%以下であり、平坦なInP基板と比較して表面反射が10分の1に低減されていることを明らかにした。3.作製したPt/InP多孔質構造の電気的特性を明らかにした。上部(Pt側)と下部(InP側)に電極を形成して測定した電流・電圧特性が整流性を示すことを明らかにし、Pt/InP多孔質構造の界面にショットキー障壁が形成されていることを確認した。また、光照射下では、光強度に応じて逆方向電流が増大することを明らかにした。この増加電流は、比較用に作製したPt/プレーナInP接合と比べて2～3桁大き...
文部科学省, 挑戦的萌芽研究, 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 21656078

窒化物半導体混晶のバルク準位評価とナノ構造表面制御
科学研究費補助金(特定領域研究)
2009年 - 2010年
橋詰 保, 古賀 裕明, 佐藤 威友
AlGaNおよびAlInGaNのバルク欠陥準位と表面・端面における表面電子準位を系統的に評価し、その理解を基盤として、短波長光学素子の高効率化・動作安定化のための電子準位制御法を構築することを目的として研究を展開した。本年度の主な成果を以下にまとめる。1)減圧有機金属気相法により成長したn-AlGaN(膜厚:1μm、Al組成:25、37、60%)の深い準位を評価し、伝導帯下端より1eV以上のエネルギーを持つ電子準位を検出した。支配的準位エネルギーのAl組成依存性は、フェルミ準位安定化エネルギーの計算値に良く追従することを明らかにし、逆位置欠陥と空孔欠陥ペアの複合型欠陥が深い準位の成因である可能性を指摘した。2)原子層堆積により形成したAl_2O_3/AlGaN/GaN構造に、詳細な計算解析とバンドギャップ以下のエネルギーを持つ光支援測定法を適用し、その容量-電圧特性を評価した。その結果、Al_2O_3/AlGaN界面には1x10^<12>cm^<-2>eV^<-1>以上の密度を持つ電子準位が存在することを初めて明らかにした。3)AlGaN表面に電気化学酸化法を適用し、平坦で均一性の高い母体酸化膜を形成することができた。形成した酸化膜の組成は母体AlGaNの組成とほぼ同等であることが分かり、この手法によりAlGaNの表面準位密度を低減できることを明らかにした。また、プロセスによ...
文部科学省, 特定領域研究, 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 21016001

次世代センサーネットワークの実現に向けた化合物半導体化学センサの開発と高性能化に関する研究　　　　　　　　　　　　　　　
小澤・吉川記念エレクトロニクス研究助成基金
2008年 - 2009年
佐藤 威友
小澤・吉川記念エレクトロニクス研究助成基金, 研究代表者, 競争的資金

化合物半導体ナノポーラス構造を基盤とした量子ナノ構造の3次元ネットワーク化技術
科学研究費補助金(若手研究(B))
2007年 - 2008年
佐藤 威友
電解液と半導体界面の電気化学反応により形成される多孔質(ポーラス)構造を利用し、少ない電子を局所的に閉じ込めて制御する「3次元量子ナノネットワーク」の基礎技術を確立した。本構造は、直径数100nm 深さ数μm の直線的な孔が配列した高密度ナノ構造が基盤となっており、非常に大きな表面積と優れた伝導特性および光学的特性を有し、高感度化学センサや高効率太陽光発電素子の基本構造として有望性を示す一連の研究成果を得た。
文部科学省, 若手研究(B), 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 19760208

III族窒化物半導体混晶の欠陥準位・表面準位の評価と制御
科学研究費補助金(特定領域研究)
2007年 - 2008年
橋詰 保, 金子 昌充, 佐藤 威友
発光素子の効率・安定動作・信頼性には、バルクの結晶欠陥とともに、ヘテロ界面での禁制帯内連続電子準位(界面準位)や端面での表面準位の特性が影響する場合が多いが、これらの特性は明らかになっていない。本研究では、GaNおよびAlGaNのバルク欠陥準位と表面・端面・ヘテロ界面における表面電子準位を詳細に評価し、その特性の理解と制御を目的として研究を展開した。1) Al組成26%のAlGaN混晶にショットキー接合を形成し、暗中および光照射下での過渡容量応答評価を行なった。伝導帯下端より1.0eVおよび禁制帯中央付近の深い準位からの応答を検出し、詳しい解析の結果、5-8×10^<16>cm^<-3>程度の比較的高い密度を有することを明らかにした。2) 保護膜高温熱処理によるp-GaN表面の特性変化を詳細に評価した。XPS解析より1000℃以上の熱処理によりGa原子の外方拡散とMg原子の表面偏析が明らかになった。また、電流-電圧測定とPL評価より深い準位の生成による表面抵抗の増大が観測され、Ga空孔や格子間Mgに関連する複合欠陥の存在が示唆された。3) 電気化学酸化によるGaNおよびAlGaNの表面制御を検討した。酸化膜を溶液除去した表面に金属接合を形成した場合、接合特性の均一性が向上することが確認された。また、ドライエッチングで形成したナノ細線側面を選択的に酸化した場合、細線の伝導特性が...
文部科学省, 特定領域研究, 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 19032001

High-efficiency energy-conversion devices based on semiconductor nanostructures　　　　　　　　　　　　　　　
2008年
競争的資金

選択的結晶成長による窒化ガリウム系ナノワイヤ・ネットワークの作製　　　　　　　　　　　　　　　
池谷科学技術振興財団研究助成金
2006年 - 2007年
佐藤 威友
池谷科学技術振興財団, 研究代表者, 競争的資金

化合物半導体ナノ構造の自己組織化形成と高感度化学センサへの応用　　　　　　　　　　　　　　　
村田学術振興財団研究助成
2006年 - 2007年
佐藤 威友
村田学術振興財団, 研究代表者, 競争的資金

欠陥制御・界面制御に基づく窒化ガリウム系デバイス構造の高信頼化
科学研究費補助金(基盤研究(B))
2005年 - 2006年
橋詰 保, 葛西 誠也, 佐藤 威人友, 金子 昌充
GaNおよびAlGaN混晶の表面結晶欠陥および不純物の振舞いを詳細に評価し、金属界面特性・絶縁体界面特性との相関、および、デバイスの電流崩壊、漏れ電流および劣化・破壊現象との関連性を系統的に調べてこれらの機構を明らかにし、表面欠陥制御・界面制御に基づきデバイスの信頼性・安定性の向上に直結する知見を得ることを目的とした。1)Al<0.26>Ga_<0.74>N混晶にショットキー接合を形成し、過渡容量応答解析を行ない、深い準位を評価した。秒オーダーの時間領域で解析することにより、伝導帯下端より0.9eVの位置に電子捕獲準位が1x10^<16>cm^<-3>程度の高密度で存在することを明らかにした。2)CN_x/SiN_x複合膜構造を利用した拡散プロセスを開発し、GaNへの炭素ドーピングを行なった。N_2雰囲気中で1000℃程度の熱処理を行なうことにより、炭素がGaN中へ拡散することを確認し、拡散した炭素は主として深い準位として振る舞うことを明らかにした。3)窒素ラジカル処理、超薄Al膜堆積、真空アニールにより、AlGaN表面近傍の窒素空孔欠陥と酸素不純物を低減する表面制御プロセスを開発し、Ni/AlGaNショットキー接合において、逆方向漏れ電流の大幅な低減と電流-電圧特性の明確な温度依存性を実現した。4)GaNおよびAlGaNとの絶縁膜界面を種々のプロセスにより形成し、高温および...
文部科学省, 基盤研究(B), 北海道大学, 競争的資金, 17360133

半導体2次元電子ガスのプラズマ波によるミリ波・テラヘルツ進行波デバイスの研究
科学研究費補助金(萌芽研究)
2005年 - 2005年
長谷川 英機, 葛西 誠也, 佐藤 威友, 賈 鋭
テラヘルツ(THz)帯の周波数領域では、効率よく電磁波を発生・増幅・検波する技術が確立されておらず「テラヘルツギャップ」とよばれている。本研究の目的は、ミリ波・テラヘルツ帯におい.て増幅・検波機能を果たす新しい進行波型半導体デバイスの可能性を、理論的および実験的に検討することにある。その原理は、半導体の2次元電子ガス中に発生するドリフトプラズマ波と、遅波構造による電磁波の空間高調波との相互作用を利用することにある。(1)電子の慣性項を取り入れたより厳密なプラズマ方程式をもとに、TMモード解析とグリーン関数を含むFredholm積分方程式による空間高調波解析を行い、その結果ミリ波・THz帯で、大きな負性コンダクタンスが得られことを確認した。そして、その機構が高周波では1サイクルあたりの衝突頻度が飛躍的に減ることにあることを示した。(2)さらに、解析を半導体の表面準位の効果を含むものに拡張し、表面状態による電界分布の変化やスクリーニングが、デバイスに悪影響を及ぼすことを見出した。(3)AlGaAs/GaAsヘテロ接合上に、インターディジタル型遅波構造を形成したデバイスについて、マイクロ・ミリ波帯で予備実験を行い、おおきなコンダクタンス変調を観測するとともに、理論解析と実験がよく一致することを実証した。これらは、Jpn.J.Appl.Physの正規論文やISDRS(Dec.2005...
文部科学省, 萌芽研究, 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 17656099

ギガ・ノード超高密度量子ナノ集積構造の作製と表面制御技術の開発
科学研究費補助金(若手研究(B))
2004年 - 2005年
佐藤 威友
本研究の目的は、化合物半導体低損傷プロセスによる高密度量子ナノ集積構造の形成手法と、その表面および界面のナノスケール制御手法を開発し、量子集積回路実現のための基礎技術を確立することである。平成17年度の研究成果は以下のようにまとめられる。1.分子線エピタキシャル成長法(MBE)により、ガリウム砒素(GaAs)(111)B加工基板上へGaAs/AlGaAs量子細線構造の選択的成長を行い、その形成メカニズム/サイズ制御性について調べた。成長温度、材料組成を系統的に変えて行なった一連の実験結果と、吸着原子の拡散方程式に基づく成長シミュレーションの結果から、加工基板が持つ結晶面方位の違いや材料原子の種類により、表面吸着原子の拡散/取り込まれ寿命が異なり、その表面拡散論的な成長機構により、GaAs細線の断面形状が説明されることがわかった。これらの結果を基礎とし、GaAs細線の位置とサイズを数nmオーダーの精度で制御することを可能にした。また、シミュレーションにより得られた成長条件を使って、断面が1辺40nmの三角形となるGaAs細線を実験的に作製することにも成功した。2.上で開発した成長シミュレーションプログラムを、窒化ガリウム(GaN)(0001)加工基板上への選択成長に適用した。Ga原子とAl原子に対して適切な拡散係数と表面取込み寿命を設定することにより、材料組成、結晶面方位など成...
文部科学省, 若手研究(B), 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 16760239

有機金属気相選択成長によるフォトニック結晶の作製とデバイス応用に関する研究
科学研究費補助金(基盤研究(A))
2003年 - 2005年
本久 順一, プリミーラ モハン, 佐野 栄一, 福井 孝志, 佐藤 威友, 楊 林
本研究では、有機金属気相成長(MOVPE)選択成長法によりフォトニック結晶(PhC)を作製する手法を確立し、またその特性評価および素子応用を目的として研究を行い、以下のような成果が得られた。まず、GaAs(111)BあるいはInP(111)B基板上に6角形の絶縁膜マスクを周期的に形成した基板に対して選択成長を行うことにより、GaAs系あるいはInP系材料による空気ロッド周期配列型2次元PhCをそれぞれ作製した。GaAs系PhCに対しては、AlGaAs犠牲層上に選択成長を行い、その後、選択ウェットエッチングにより犠牲層を除去することにより、エアーブリッジ構造の作製に成功すると共に、線欠陥・点欠陥を導入した構造の作製にも成功した。また、GaAs/AlGaAs量子井戸構造を有するPhCを作製し、量子井戸層からの発光を確認した。一方、InP系PhCに対しては、成長条件の最適化により、InGaAsおよびInPによる、周期400〜500nmの均一な空気ロッドアレイの作製に成功すると共に、ヘテロ構造やInP/InGaAs量子井戸の作製に成功した。特に、作製された量子井戸からの発光を確認し、光通信波長帯におけるPhCを利用した発光素子の作製の見通しを得た。また、GaAs(111)BあるいはInP(111)A基板に対して、6角形あるいは円形の開口を有するマスク基板を作製し、その後、MOVPE選...
文部科学省, 基盤研究(A), 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 15206030

選択的半導体結晶成長法による量子集積回路作製プロセスの研究開発　　　　　　　　　　　　　　　
ノーステック財団基盤的研究開発育成事業（若手研究補助金）
2003年 - 2004年
佐藤 威友
ノーステック財団, 研究代表者, 競争的資金

量子集積回路の実現に向けた高性能ナノショットキーゲート電極の開発
科学研究費補助金(若手研究(B))
2002年 - 2003年
佐藤 威友
本研究課題では、微細ゲート電極形成技術および量子集積構造作製技術といった、量子集積回路の実現に向けた量子集積プロセスの開発を目的としている。平成15年度の研究成果は、以下のようにまとめられる。1.MBE選択成長法を用いて、量子集積回路の基本構造として有望なヘキサゴナル量子ナノ細線ネットワーク構造の作製に成功した。GaAs(001)加工基板上にMBE選択成長法により、<-110>方向-<510>方向の細線からなるヘキサゴナルGaAs/AlGaAsリッジ細線ネットワークの作製に成功した。細線の位置およびサイズは、成長条件と初期加工基板の設計により精密に制御可能である。また、構造および光学的特性の評価から、1mm四方以上(ヘキサゴナルノードで約1x10^7個分の領域)の広範囲にわたり、エネルギー半値幅20meVの均一な量子閉じこめ構造が形成されていることを確認した。同様に、GaAs(111)B加工基板を用いて、三回対称性を利用したヘキサゴナル細線ネットワークを形成することにも成功した。達成したヘキサゴナルノードの密度は、約10^9cm^<-2>であり、量子デバイスの高密度化に非常に有望な結果を得た。2.MBE選択成長法により作製した量子ナノ構造をベースに、量子細線トランジスタ・二分岐スイッチングデバイスの作製に成功した(論文投稿中)。(001)GaAs加工基板上にMBE選択成長法に...
文部科学省, 若手研究(B), 北海道大学, 研究代表者, 競争的資金, 14750223

選択成長によるフォトニック結晶の作製と応用に関する研究
科学研究費補助金(基盤研究(B))
2000年 - 2002年
本久 順一, 韓 哲九, 安 海岩, 藤倉 序章, 佐藤 威友, 橋詰 保
有機金属気相成長(MOVPE)法を用いた選択成長法により、フォトニック結晶(PC)を作製する技術の確立、およびその応用を目標として以下のような研究を行った。まず、SiO_2絶縁膜を堆積したGaAs(111)B基板上に対して、周期0.5μm程度の3角格子状に、円形あるいは6角形のマスク開口部を作製した基板を準備した後、GaAsおよびAlGaAsのMOVPE選択成長を行った。成長条件を最適化することにより、(111)B面に対して垂直な、{110}側面ファセットにより構成される、高アスペクト比6角柱による、2次元PCに応用可能な高均一周期構造作製に成功した。また、同様のマスクパターンを有するInP(111)Bマスク基板に対してMOVPE選択成長を行うことにより、InGaAs6角柱構造アレイを作製した。そのフォトルミネセンス特性の結果から、高品質の構造が作製されていことが確認され、InPをペースとしたPC作製の糸口が与えられた。また、6角形のSiO_2マスクを、3角格子状に周期的に配列させたGaAs(111)Bパターン基板に対して、GaAsの選択成長を行った。成長条件や、原料ガス供給のシーケンスを工夫することにより、マスク上への横方向成長を十分抑制した結果、6角形空気孔によるGaAsPCの作製に成功した。さらに、このPCを、AlGaAs(111)B表面上に形成した後、下部AlGaAs...
文部科学省, 基盤研究(B), 北海道大学, 連携研究者, 競争的資金, 12450117

電気化学プロセスによる金属-化合物半導体界面の制御とその電子デバイスへの応用
科学研究費助成事業 特別研究員奨励費
1998年 - 2000年
佐藤 威友
日本学術振興会, 特別研究員奨励費, 北海道大学, 98J02746

Self-assembled formation of semiconductor nanostructures using electrochemcial process and its application to sensors　　　　　　　　　　　　　　　
1997年
競争的資金

エッチング方法及びエッチング装置　　　　　　　　　　　　　　　
特許権, 佐藤威友, 熊崎祐介, 橋詰保
特願2017-095458, 2017年05月12日
特開2018-195609, 2018年12月06日
特許第6952983号, 2021年10月01日

構造体の製造方法と製造装置および中間構造体
特許権, 堀切 文正, 福原 昇, 佐藤 威友, 渡久地 政周, 株式会社サイオクス, 住友化学株式会社
特願2019-148874, 2019年08月14日
特許第6694102号, 2020年04月20日
202003007817566446

センサ及びセンサの製造方法
特許権, 佐藤 威友, 国立大学法人北海道大学
特願2010-094012, 2010年04月15日
特開2011-226800, 2011年11月10日
特許第5339377号
201403049007057533

半導体装置とその製造方法
特許権, 杉本 雅裕, 副島 成雅, 上杉 勉, 加地 徹, 橋詰 保, 佐藤 威友, トヨタ自動車株式会社, 株式会社豊田中央研究所, 国立大学法人 北海道大学
特願2008-053543, 2008年03月04日
特開2009-212291, 2009年09月17日
特許第5302553号
201303050739924338

公開講義（札幌南高等学校）　　　　　　　　　　　　　　　
2018年10月18日
講師
出前授業
北海道大学・札幌南高等学校

公開講義（札幌開成中等教育学校）　　　　　　　　　　　　　　　
2018年08月08日
講師, 実演
出前授業
北海道大学・札幌開成中等教育学校