熊倉 一英 (クマクラ カズヒデ)

量子集積エレクトロニクス研究センター特任教授

研究者基本情報

■ 学位
  • 博士(工学), 北海道大学, 1998年03月
■ URL
researchmap URLホームページURL■ ID 各種
研究者番号
  • 00393736
ORCID IDResearcher ID
  • C-2432-2011
J-Global ID■ 研究キーワード・分野
研究キーワード
  • 半導体結晶成長
  • 半導体電子デバイス
  • 光電気化学
  • 人工光合成
  • 光水分解
研究分野
  • ナノテク・材料, 結晶工学, 半導体
  • ナノテク・材料, 薄膜、表面界面物性, 半導体結晶成長

経歴

■ 経歴
経歴
  • 2024年10月 - 現在
    北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 特任教授, 日本国
  • 2022年04月 - 2024年09月
    日本電信電話株式会社, NTT物性科学基礎研究所, 所長, 日本国
  • 2019年10月 - 2022年03月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, 企画担当主席研究員、グループリーダー, 日本国
  • 2019年07月 - 2019年09月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, 企画担当主幹研究員、グループリーダー
  • 2019年04月 - 2019年06月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, グループリーダー、主幹研究員, 日本国
  • 2015年04月 - 2019年03月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, グループリーダー、主幹研究員, 特別研究員, 日本国
  • 2010年10月 - 2015年03月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, 日本国
  • 2008年10月 - 2010年09月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, 企画担当 総括担当, 日本国
  • 1999年01月 - 2008年09月
    日本電信電話株式会社, 物性科学基礎研究所, 日本国
  • 2007年08月 - 2008年08月
    Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Visiting researcher, ドイツ連邦共和国
  • 1998年04月 - 1998年12月
    日本電信電話株式会社, 基礎研究所, 日本国
学歴
  • 1995年04月 - 1998年03月, 北海道大学, 大学院工学研究科, 電子情報工学専攻 博士後期課程, 日本国
  • 1993年04月 - 1995年03月, 北海道大学, 大学院工学研究科, 電気工学専攻 修士課程, 日本国
  • 1989年04月 - 1993年03月, 北海道大学, 工学部(理I), 日本国
委員歴
  • 2023年 - 2024年
    量子科学技術研究開発機構(QST) 量子技術基盤拠点, アドバイザリーボード, その他
  • 2024年
    第43回電子材料シンポジウム(EMS43), 運営委員, 学協会
  • 2023年
    第42回電子材料シンポジウム(EMS42), 運営委員, 学協会
  • 2018年
    19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX), Program Committee Members, 学協会
  • 2014年
    2014 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2014), Program Subcommittee Members, 学協会
  • 2013年
    2013 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2013), Program Subcommittee Members, 学協会
  • 2013年
    40th International Symposium on Compound Semiconductors 2013, Guest Editor, 学協会
  • 2007年
    第26回電子材料シンポジウム(EMS26), 会計委員, 学協会
  • 2006年
    第25回電子材料シンポジウム(EMS25), 会計委員, 学協会

研究活動情報

■ 受賞
  • 2000年09月, 応用物理学会, 第8回(2000年春季)応用物理学会講演奨励賞
    高ホール濃度MgドープInGaNおよびInGaN/GaN超格子の実現
    熊倉 一英
■ 論文
■ その他活動・業績
■ 講演・口頭発表等
  • NiO助触媒を担持したGaN系光陽極を用いた光水分解特性
    熊倉 一英; 山下 雄大; 平間 一行; 谷保 芳孝; 佐藤 威友
    電子情報通信学会 研究会(ED, CPM, LQE), 2025年11月21日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年11月20日 - 2025年11月21日
  • GaNAsシェル膜厚によるGaAs/GaNAsコアーシェルナノワイヤ光学特性制御
    塩見 悠介; 佐野 真浩; 峰久 恵輔; 山下 雄大; 谷保 芳孝; 平間 一行; 熊倉 一英; 石川 史太郎
    第61回応用物理学会 北海道支部, 2025年11月01日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年11月01日 - 2025年11月02日
  • 電気化学測定法によるud-AlGaN/n-GaN構造の電気的評価
    高橋 円空; 嶋﨑 喬大; 赤澤 怜明; 熊倉 一英; 谷保 芳孝; 佐藤 威友
    第86回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2025年09月10日, 日本語, ポスター発表
    2025年09月07日 - 2025年09月10日
  • c-BScNエピタキシャル薄膜のスパッタリング成長機構
    前田 亮太; 谷保 芳孝; 熊倉 一英; 二宮 翔; 西堀 麻衣子; 平間 一行
    第86回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2025年09月09日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年09月07日 - 2025年09月10日
  • InGaN光電極とNiO助触媒界面のバンドアライメント
    山下 雄大; 熊倉 一英; 平間 一行; 谷保 芳孝
    第86回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2025年09月09日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年09月07日 - 2025年09月10日
  • I-V, C-V測定から求めたAlNショットキーバリアダイオードの障壁高さの温度依存性
    佐々木 一晴; 廣木 正伸; 熊倉 一英; 平間 一行; 谷保 芳孝; 前田 拓也
    第86回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2025年09月08日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年09月07日 - 2025年09月10日
  • GaAs/GaNAsコア-シェルナノワイヤ光吸収特性のGaNAsシェル膜厚依存性
    塩見 悠介; 佐野 真浩; 峰久 恵輔; 山下 雄大; 谷保 芳孝; 平間 一行; 熊倉 一英; 石川 史太郎
    第17回ナノ構造エピタキシャル成長講演会, 2025年07月18日, 日本語, ポスター発表
    2025年07月17日 - 2025年07月19日
  • AlN基板上AlNショットキーバリアダイオードの障壁高さの温度依存性
    佐々木 一晴; 廣木 正伸; 熊倉 一英; 平間 一行; 谷保 芳孝; 前田 拓也
    第17回ナノ構造エピタキシャル成長講演会, 2025年07月17日, 日本語, ポスター発表
    2025年07月17日 - 2025年07月19日
  • AlN系分極ドープFETの高周波特性
    川崎 晟也; 廣木 正伸; 平間 一行; 熊倉 一英; 谷保 芳孝
    第72回 応用物理学会 春季学術講演会, 2025年03月17日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年03月14日 - 2025年03月17日
  • 組成傾斜 AlGaN コンタクト層を有する AlN SBD における電流輸送機構の解明
    前田 拓也; 若本 裕介; 佐々木 一晴; 棟方 晟啓; 廣木 正伸; 平間 一行; 熊倉 一英; 谷保 芳孝
    第72回 応用物理学会 春季学術講演会, 2025年03月17日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年03月14日 - 2025年03月17日
  • 順バイアス印加AlNショットキーバリアダイオードのエミッション顕微鏡観察
    佐々木 一晴; 廣木 正伸; 熊倉 一英; 平間 一行; 谷保 芳孝; 田中 敦之; 本田 善央; 中野 義昭; 前田 拓也
    第72回 応用物理学会 春季学術講演会, 2025年03月17日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年03月14日 - 2025年03月17日
  • 立方晶窒化ホウ素スカンジウム(c-BScN)薄膜のマグネトロンスパッタリング成長
    前田 亮太; 谷保 芳孝; 熊倉 一英; 平間 一行
    第72回 応用物理学会 春季学術講演会, 2025年03月17日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年03月14日 - 2025年03月17日
  • III族極性InNのMOVPE成長における結晶成長相図
    山下 雄大; 熊倉 一英; 平間 一行; 谷保 芳孝
    第72回 応用物理学会 春季学術講演会, 2025年03月16日, 日本語, 口頭発表(一般)
    2025年03月14日 - 2025年03月17日
■ 所属学協会
■ 共同研究・競争的資金等の研究課題
  • 窒化物半導体ステップフリー面を利用した新規分子層エピタキシ
    科学研究費助成事業
    2016年04月01日 - 2019年03月31日
    赤坂 哲也; 熊倉 一英; 後藤 秀樹; 西中 淳一; 鈴木 恭一
    原子レベルで平坦なヘテロ界面(ステップフリー界面)を有する窒化物半導体(窒化ガリウム GaN,窒化インジウム InN,窒化アルミニウム AlN)の作製を目的として、新原理に基づく分子層エピタキシを提案した。結晶成長が難しいInN単結晶薄膜の結晶成長条件を最適化し、GaN/InN/GaNダブルヘテロ構造を作製した。さらに、GaN/AlNヘテロ構造で形成される2次元電子ガスの極低温下の輸送特性を測定し、同構造の高品質さの証明となるランダウレベル分離を観測した。
    日本学術振興会, 基盤研究(B), 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 16H03862
  • 層状BNを用いたGaN系デバイスの機械的転写
    科学研究費助成事業
    2014年04月01日 - 2018年03月31日
    小林 康之; 岡本 浩; 中澤 日出樹; 熊倉 一英; 廣木 正伸
    我々は、プラズマ支援分子線エピタキシーにより(0001)サファイア基板上の3nmの膜厚の六方晶窒化ホウ素(h-BN)上に成長した100nmの膜厚のAlNバッファ層上に単結晶GaN薄膜を成長した。このh-BN/AlNバッファ層上に成長したGaN薄膜のX線回折は、h-BN層上のAlN層がGaN薄膜の結晶性を著しく向上させることを明らかにした。GaN薄膜のストリークな反射高速電子回折パターンは、平坦な表面を有する単結晶(0001)GaN薄膜がこのh-BN/AlNバッファ層上に成長したことを示した。MBEは、h-BNバッファ層上に高品質GaN薄膜を成長する手法として有望である。
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 弘前大学, 26246015
  • AlN系へテロ構造の結晶成長と紫外発光デバイス応用に関する研究
    科学研究費助成事業
    2013年04月01日 - 2017年03月31日
    谷保 芳孝; 熊倉 一英; 平間 一行; 山本 秀樹
    AlN系半導体の結晶成長機構、電気伝導機構、発光機構を研究し、高品質単結晶成長技術、高効率ドーピング技術、発光制御構造、デバイス作製技術を開発した。これらの学術的知見、基盤技術をベースに、AlN系深紫外LEDの高効率化、光励起による深紫外レーザ発振を達成した。さらに、新規材料として立方晶窒化ボロン(c-BN)の単結晶薄膜成長を世界に先駆け実現した。本研究成果は、AlN系材料・デバイス応用分野を進展させるともに、新規材料・構造の創出に繋がる結晶成長技術の開発に貢献することが期待される。
    日本学術振興会, 基盤研究(A), 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 25246022